一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤的制作方法
【專利說明】
[0001]技術(shù)領(lǐng)域:
本發(fā)明涉及半導(dǎo)體光刻機領(lǐng)域，尤其涉及一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤。
[0002]【背景技術(shù)】:
真空吸盤是半導(dǎo)體光刻設(shè)備的重要組成部分，是曝光樣片的載體。對不同尺寸規(guī)格的樣片，往往需要搭載相對應(yīng)的吸盤來曝光，吸盤更換后還要對其平行性，與光軸的垂直性等進行調(diào)節(jié)。能否發(fā)明一種多功能的吸盤，能夠吸附各種不同規(guī)格的樣片，省去更換吸盤的工序，節(jié)約時間，提高工作效率呢？這便是擺在光刻領(lǐng)域的一個難題。
[0003]
【發(fā)明內(nèi)容】
:
本發(fā)明的目的是提供一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，它能實現(xiàn)高產(chǎn)能及支持多種規(guī)格要求。
[0004]本發(fā)明的技術(shù)方案如下:
一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，其特征在于:包括有下吸盤，下吸盤上固定有上吸盤，上吸盤上設(shè)有十字定位槽，十字定位槽內(nèi)嵌裝有十字定位支架；十字定位支架的正面中心設(shè)有十字凸起，所述十字定位槽的槽底開有與十字凸起位置對應(yīng)的十字凹槽；十字定位支架背面朝上時，其頂面與上吸盤表面位于同一水平面上或位于十字定位槽內(nèi)；十字定位支架正面朝上時，十字凸起部位高出十字定位槽外。
[0005]一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，其特征在于:所述十字定位槽位于上吸盤的中心位置。
[0006]一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，其特征在于:上吸盤表面開有若干能配合標(biāo)示出不同規(guī)格樣片邊緣位置的銷釘孔。
[0007]使用時將十字定位支架正向放置，十字定位支架正面的十字凸起朝上，可同時定位四塊方形60*60的樣片MASK，減少了中間取放片環(huán)節(jié)，提升了產(chǎn)能。
[0008]將十字定位反向放置，十字凸起朝下嵌入十字凹槽中，整個十字支架表面會低于吸盤表面，在吸盤上部可居中放置不同規(guī)格(4inch和6inch)的方形Mask和圓形Wafer。
[0009]在擺放不同規(guī)格樣片的邊緣布置有不同位置的銷釘孔，以此來進行預(yù)對準(zhǔn)初定位。
[0010]【附圖說明】:
圖1為本發(fā)明的十字定位支架反向放置視圖；
圖2為本發(fā)明的十字定位支架正向放置視圖；
圖3為本發(fā)明放置一塊樣片的視圖；
圖4為本發(fā)明同時放置四塊樣片的視圖；
圖5為本發(fā)明居中放置一塊方形mask的視圖；
圖6為本發(fā)明居中放置一塊圓形wafer的視圖；
圖7為本發(fā)明的爆炸視圖；
【具體實施方式】:
一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，包括有下吸盤1，下吸盤I上固定有上吸盤2，上吸盤2上中心設(shè)有十字定位槽3，十字定位槽3內(nèi)嵌裝有十字定位支架4 ;十字定位支架4的正面中心設(shè)有十字凸起5，所述十字定位槽3的槽底開有與十字凸起5位置對應(yīng)的十字凹槽6 ;十字定位支架4背面朝上時，其頂面與上吸盤2表面位于同一水平面上或位于十字定位槽3內(nèi)；十字定位支架4正面朝上時，十字凸起5部位高出十字定位槽3外。上吸盤2表面開有若干能配合標(biāo)示出不同規(guī)格樣片9邊緣位置的銷釘孔7。
[0011]組合后的下吸盤I和上吸盤2形成吸盤。
[0012]尚廣能曝光:
取下所有定位銷釘8，將十字定位支架4反向(凸起朝上)放置，如圖2，將樣片的邊靠緊十字定位支架4的邊，以邊定位作為預(yù)對準(zhǔn)方法，如圖3，分別將余下的樣片放置在十字吸盤上，如圖4，開啟真空，曝光，即可實現(xiàn)高產(chǎn)能曝光；
單片不同規(guī)格方形Mask:
取下所有定位銷釘，將十字定位支架4正向(凸起朝上)放置，如圖1，將需要曝光的樣片居中放置在吸盤上，如圖5，并在樣片邊緣銷釘孔的位置插入銷釘，實現(xiàn)預(yù)對準(zhǔn)，開啟真空，曝光，關(guān)閉真空，取下已經(jīng)曝光的樣片，換上待曝光樣片，以第一次的銷釘位置作為預(yù)對準(zhǔn)位置，開啟真空，曝光，如此反復(fù)，即可實現(xiàn)單片方形Mask的曝光。
[0013]如需更換尺寸不同尺寸的方形Mask，則只需要更換不同的銷釘位置即可實現(xiàn)。
[0014]單片不同規(guī)格圓形Wafer
取下所有定位銷釘，將十字定位支架4正向(凸起朝上)放置，如圖1，將需要曝光的樣片居中放置在吸盤上，如圖6，并在樣片邊緣銷釘孔的位置插入銷釘，實現(xiàn)預(yù)對準(zhǔn)，開啟真空，曝光，關(guān)閉真空，取下已經(jīng)曝光的樣片，換上待曝光樣片，以第一次的銷釘位置作為預(yù)對準(zhǔn)位置，開啟真空，曝光，如此反復(fù)，即可實現(xiàn)單片方形Mask的曝光。
[0015]如需更換尺寸不同的圓形Wafer,則只需要更換不同的銷釘位置即可實現(xiàn)。
【主權(quán)項】
1.一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，其特征在于:包括有下吸盤，下吸盤上固定有上吸盤，上吸盤上設(shè)有十字定位槽，十字定位槽內(nèi)嵌裝有十字定位支架；十字定位支架的正面中心設(shè)有十字凸起，所述十字定位槽的槽底開有與十字凸起位置對應(yīng)的十字凹槽；十字定位支架背面朝上時，其頂面與上吸盤表面位于同一水平面上或位于十字定位槽內(nèi)；十字定位支架正面朝上時，十字凸起部位高出十字定位槽外。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，其特征在于:所述十字定位槽位于上吸盤的中心位置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，其特征在于:上吸盤表面開有若干能配合標(biāo)示出不同規(guī)格樣片邊緣位置的銷釘孔。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種用于半導(dǎo)體光刻的多功能高產(chǎn)能吸盤，包括有下吸盤，下吸盤上固定有上吸盤，上吸盤上設(shè)有十字定位槽，十字定位槽內(nèi)嵌裝有十字定位支架；十字定位支架的正面中心設(shè)有十字凸起，所述十字定位槽的槽底開有與十字凸起位置對應(yīng)的十字凹槽；十字定位支架背面朝上時，其頂面與上吸盤表面位于同一水平面上或位于十字定位槽內(nèi)；十字定位支架正面朝上時，十字凸起部位高出十字定位槽外。
【IPC分類】G03F7/20, F16B47/00
【公開號】CN104914679
【申請?zhí)枴緾N201510253487
【發(fā)明人】宋耀東, 項宗齊, 方林, 何少鋒
【申請人】合肥芯碩半導(dǎo)體有限公司
【公開日】2015年9月16日
【申請日】2015年5月18日