一種轉(zhuǎn)印板清洗設備及其清洗方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及清潔技術領域，公開一種轉(zhuǎn)印板清洗設備及其清洗方法，轉(zhuǎn)印板清洗設備包括機架；安裝于機架的清洗槽，樞裝于機架的清洗輥，清洗輥的柱面的至少一部分位于清洗槽內(nèi)、且清洗輥的柱面設有用于將卷繞于柱面上的轉(zhuǎn)印板固定的轉(zhuǎn)印板固定機構；清洗輥的柱面設置有與轉(zhuǎn)印板上的凹陷一一對應的凸起，且凸起的周邊設有用于對轉(zhuǎn)印板進行吸附的真空吸孔；安裝于清洗槽內(nèi)的摩擦清洗裝置，摩擦清洗裝置通過清洗輥與其產(chǎn)生相對運動以對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗；安裝于機架的驅(qū)動裝置，驅(qū)動裝置用于使清洗輥與摩擦清洗裝置之間產(chǎn)生相對運動。該設備可有效清除轉(zhuǎn)印板上的凹陷內(nèi)的PI液固化物，提高液晶顯示面板的生產(chǎn)良率。
【專利說明】
一種轉(zhuǎn)印板清洗設備及其清洗方法
技術領域
[0001]本發(fā)明涉及清潔技術領域，特別涉及一種轉(zhuǎn)印板清洗設備及其清洗方法。
【背景技術】
[0002]在液晶顯示面板的生產(chǎn)過程中，為實現(xiàn)液晶分子的取向，需要進行配向膜處理工藝，包括在陣列基板和彩膜基板的表面形成聚酰亞胺(PI，Polyimide)膜的印刷工藝、和在PI膜上進行摩擦(Rubbing)的配向工藝。
[0003]印刷工藝中常采用取向?qū)佑∷C在陣列基板和彩膜基板上印刷PI膜，取向?qū)佑∷C中包括棍輪和包覆在棍輪的圓周面上的轉(zhuǎn)印(Asahikasei Photosensitive Resin,APR)板，印刷過程中在轉(zhuǎn)印板上涂覆PI液，并使包裹在輥輪上的轉(zhuǎn)印板與玻璃基板(如陣列基板、彩膜基板)接觸，通過輥輪在玻璃基板上的滾動使PI液涂布在玻璃基板上，形成PI膜。
[0004]為使PI液在轉(zhuǎn)印板上涂布均勻，轉(zhuǎn)印板上設有網(wǎng)狀排布的微小凹陷，凹陷可使PI液在轉(zhuǎn)印板上分布更加均勻，提高PI膜的印刷品質(zhì)。在印刷過程中，轉(zhuǎn)印板長期接觸PI液，其凹陷內(nèi)殘存的少量的PI液會產(chǎn)生固化，在印刷時會造成部分PI膜缺失，進而導致液晶面板不良，因此在PI膜的印刷過程中需對轉(zhuǎn)印板進行清洗，以去除其凹陷內(nèi)的PI液固化物。
[0005]目前常用的轉(zhuǎn)印板的清洗設備采用將轉(zhuǎn)印板展開成平板狀并浸入清洗液中進行超聲清洗的清洗方法，該清洗方法的清洗效率較低，且不能有效去除轉(zhuǎn)印板上的凹陷內(nèi)的PI液固化物，導致PI膜的印刷品質(zhì)下降，進而降低了液晶顯示面板的生產(chǎn)良率。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0006]本發(fā)明提供了一種轉(zhuǎn)印板清洗設備及其清洗方法，該轉(zhuǎn)印板清洗設備的清洗效率較高，可有效清除轉(zhuǎn)印板上的凹陷內(nèi)的PI液固化物，從而提高了 PI膜的印刷品質(zhì)，進而可提尚液晶顯不面板的生廣良率。
[0007]為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供如下的技術方案:
[0008]—種轉(zhuǎn)印板清洗設備，包括:
[0009]機架；
[0010]安裝于所述機架的清洗槽，所述清洗槽用于容置清洗液；
[0011]樞裝于所述機架的清洗輥，所述清洗輥的柱面的至少一部分位于所述清洗槽內(nèi)、且所述清洗輥的柱面設有用于將卷繞于所述柱面上的轉(zhuǎn)印板固定的轉(zhuǎn)印板固定機構;所述清洗輥的柱面設置有與所述轉(zhuǎn)印板上的凹陷一一對應的凸起，且所述凸起的周邊設有用于對轉(zhuǎn)印板進行吸附的真空吸孔，所述凸起用于在所述真空吸孔吸附轉(zhuǎn)印板時在背離其凹陷的一側將所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的開口方向頂起；
[0012]安裝于所述清洗槽內(nèi)的摩擦清洗裝置，所述摩擦清洗裝置用于與卷繞于所述清洗輥上的轉(zhuǎn)印板接觸，并通過所述清洗輥與其產(chǎn)生相對運動以對所述轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗；
[0013]安裝于所述機架的驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置與所述清洗輥傳動連接，和/或，所述驅(qū)動裝置與所述摩擦清洗裝置傳動連接，用于使所述清洗輥與所述摩擦清洗裝置之間產(chǎn)生相對運動。
[0014]本發(fā)明提供的轉(zhuǎn)印板清洗設備在進行轉(zhuǎn)印板清洗過程中，將待清洗的轉(zhuǎn)印板具有凹陷的一側向外卷繞于清洗輥的柱面并進行固定，然后使真空吸孔對轉(zhuǎn)印板背離其凹陷的一側進行吸附，真空吸孔內(nèi)的凸起將與其對應的凹陷的底面沿朝向凹陷的開口方向頂起，以使轉(zhuǎn)印板上的凹陷展開，清洗槽內(nèi)注入清洗液使清洗輥的柱面的至少一部分浸入清洗液內(nèi)，并通過驅(qū)動裝置使清洗輥轉(zhuǎn)動以使轉(zhuǎn)印板浸潤清洗液，并使摩擦清洗裝置與清洗輥之間產(chǎn)生相對運動，使得摩擦清洗裝置與轉(zhuǎn)印板之間進行摩擦，以對轉(zhuǎn)印板進行清洗。
[0015]該轉(zhuǎn)印板清洗設備中，因轉(zhuǎn)印板上的凹陷在清洗過程中已展開，可使凹陷中的PI液固化物露出，便于進行清洗，其清洗效率較高，且可有效清除轉(zhuǎn)印板上的凹陷內(nèi)的PI液固化物，從而提高了PI膜的印刷品質(zhì)，進而可提高液晶顯示面板的生產(chǎn)良率。
[0016]優(yōu)選地，所述摩擦清洗裝置包括樞裝于所述清洗槽內(nèi)的摩擦輥，所述摩擦輥的柱面上設有用于對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗的刷毛。
[0017]優(yōu)選地，所述驅(qū)動裝置為電機。
[0018]優(yōu)選地，所述摩擦清洗裝置包括固定于所述清洗槽內(nèi)的摩擦片，所述摩擦片上設有用于對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗的刷毛。
[0019]優(yōu)選地，還包括超聲清洗裝置，所述超聲清洗裝置包括設置于所述清洗槽底面的超聲波換能器、和與所述超聲波換能器電連接的超聲波發(fā)生器。
[0020]優(yōu)選地，所述清洗槽設有用于檢測清洗液中的雜質(zhì)濃度的濃度檢測裝置。
[0021]優(yōu)選地，還包括安裝于所述機架的用于容置所述清洗槽排出的清洗液的儲液槽、和用于將所述儲液槽內(nèi)的清洗液栗入所述清洗槽內(nèi)的上液栗。
[0022]優(yōu)選地，還包括用于過濾由所述儲液槽栗入所述清洗槽內(nèi)的清洗液的過濾裝置。
[0023]優(yōu)選地，所述固定機構為固定夾。
[0024]一種轉(zhuǎn)印板的清洗方法，包括:
[0025]將轉(zhuǎn)印板卷繞并固定于清洗輥的柱面，并使轉(zhuǎn)印板設有凹陷的一側背離所述清洗輥的柱面；
[0026]通過設置于所述清洗輥的柱面的真空吸孔對轉(zhuǎn)印板進行吸附，使設置于真空吸孔內(nèi)的凸起將與其對應的凹陷在背離其凹陷的一側將所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的開口方向頂起；
[0027]將轉(zhuǎn)印板浸入清洗槽內(nèi)的清洗液內(nèi)，通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。
[0028]優(yōu)選地，所述通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，包括:
[0029]通過摩擦輥與所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或，
[0030]通過摩擦片與所述清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。
[0031]優(yōu)選地，所述通過摩擦輥與所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，包括:
[0032]驅(qū)動所述摩擦輥轉(zhuǎn)動以帶動所述清洗輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或，
[0033]驅(qū)動所述清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動所述摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或，
[0034]驅(qū)動所述清洗輥和所述摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。
[0035]優(yōu)選地，所述驅(qū)動所述清洗輥和所述摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動進行摩擦清洗之后，還包括:
[0036]驅(qū)動所述清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動所述摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，并采用去離子水進行清洗。
[0037]優(yōu)選地，還包括:
[0038]在通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗時，采用超聲清洗裝置對所述清洗液內(nèi)的轉(zhuǎn)印板進行超聲振動，并根據(jù)轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波。
[0039]優(yōu)選地，所述根據(jù)轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波，具體包括:
[0040 ]在轉(zhuǎn)印板上的凹陷的直徑大于I Ομπι時，輸出40kHz的超聲波；
[0041 ]在在轉(zhuǎn)印板上的凹陷的直徑小于等于I Ομπι時，輸出72kHz的超聲波。
[0042]優(yōu)選地，在所述通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗之后，還包括:
[0043]通過濃度檢測裝置對所述清洗液進行雜質(zhì)濃度檢測；
[0044]在所述清洗液內(nèi)的雜質(zhì)的濃度超過預設閾值時，更換所述清洗液。
【附圖說明】
[0045]圖1是本發(fā)明實施例一提供的轉(zhuǎn)印板清洗設備的結構示意圖；
[0046]圖2a是一種實現(xiàn)方式中的摩擦清洗裝置的結構示意圖；
[0047]圖2b是另一種實現(xiàn)方式中的摩擦清洗裝置的結構示意圖；
[0048]圖3是圖2a和圖2b中所示的A區(qū)域的局部放大圖；
[0049]圖4是本發(fā)明實施例二提供的轉(zhuǎn)印板清洗方法的流程圖；
[0050]圖5是圖4中步驟S103的一種優(yōu)選方法的流程圖。
[0051]附圖標記:
[0052]100，轉(zhuǎn)印板;101，凹陷；10，機架;20，清洗槽；
[0053]21，排液口； 30，清洗輥;31，固定夾;32，凸起；
[0054]33，真空吸孔;40，摩擦清洗裝置;41，摩擦輥;42，摩擦片；
[0055]50，驅(qū)動裝置;51、52，電機;60，超聲清洗裝置;61，超聲波發(fā)生器；
[0056]62，超聲波換能器;70，儲液槽;80，上液栗;81，第一管道；
[0057]82，第二管道。
【具體實施方式】
[0058]下面將結合本發(fā)明實施例中的附圖，對本發(fā)明實施例中的技術方案進行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實施例僅是本發(fā)明一部分實施例，而不是全部的實施例?；诒景l(fā)明中的實施例，本領域普通技術人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例，都屬于本發(fā)明保護的范圍。
[0059]實施例一:
[0060]如圖1所示，本實施例中提供了一種轉(zhuǎn)印板清洗設備，包括:
[0061]機架10;
[0062]安裝于機架10的清洗槽20，清洗槽20用于容置清洗液；
[0063]樞裝于機架10的清洗輥30，清洗輥30的柱面的至少一部分位于清洗槽20內(nèi)，參見圖2a和圖2b所示，清洗輥30的柱面設有用于將卷繞于柱面上的轉(zhuǎn)印板100固定的轉(zhuǎn)印板固定機構，優(yōu)選地，參見圖2a和圖2b所示，固定機構為固定夾31，固定夾31可將轉(zhuǎn)印板100的兩端夾持以使其卷繞在清洗輥30的柱面上;優(yōu)選地，清洗輥30的柱面直徑大于與待清洗的轉(zhuǎn)印板100相配套的印刷輥的直徑，以使轉(zhuǎn)印板100卷繞在清洗輥30的柱面上時被拉伸以使其上的凹陷101伸展；
[0064]參見圖3所示，清洗輥30的柱面設置有與轉(zhuǎn)印板100上的凹陷101——對應的凸起32，且凸起32的周邊設有用于對轉(zhuǎn)印板100進行吸附的真空吸孔33，凸起32用于在真空吸孔33吸附轉(zhuǎn)印板100時在背離其凹陷101的一側將凹陷101的底面沿朝向凹陷101的開口方向頂起；
[0065]安裝于清洗槽20內(nèi)的摩擦清洗裝置40，摩擦清洗裝置40用于與卷繞于清洗輥30上的轉(zhuǎn)印板100接觸，并通過清洗輥30與其產(chǎn)生相對運動以對轉(zhuǎn)印板100進行摩擦清洗；
[0066]安裝于機架的驅(qū)動裝置50，驅(qū)動裝置50與清洗輥30傳動連接，和/或，驅(qū)動裝置50與摩擦清洗裝置40傳動連接，用于使清洗輥30與摩擦清洗裝置40之間產(chǎn)生相對運動，優(yōu)選地，如圖1所示，驅(qū)動裝置50包括與清洗輥30連接的電機51。
[0067]本發(fā)明提供的轉(zhuǎn)印板清洗設備在進行轉(zhuǎn)印板清洗過程中，將待清洗的轉(zhuǎn)印板100具有凹陷101的一側向外卷繞于清洗輥30的柱面并進行固定，然后使真空吸孔33對轉(zhuǎn)印板100背離其凹陷101的一側進行吸附，真空吸孔33內(nèi)的凸起32將與其對應的凹陷101的底面沿朝向凹陷101的開口方向頂起，以使轉(zhuǎn)印板100上的凹陷101展開，清洗槽20內(nèi)注入清洗液使清洗輥30的柱面的至少一部分浸入清洗液內(nèi)，并通過驅(qū)動裝置使清洗輥30轉(zhuǎn)動以使轉(zhuǎn)印板100浸潤清洗液，并使摩擦清洗裝置40與清洗輥30之間產(chǎn)生相對運動，使得摩擦清洗裝置40與轉(zhuǎn)印板100之間進行摩擦，以對轉(zhuǎn)印板100進行清洗。
[0068]該轉(zhuǎn)印板清洗設備中，因轉(zhuǎn)印板100上的凹陷101在清洗過程中已展開，可使凹陷101中的PI液固化物露出，便于進行清洗，其清洗效率較高，且可有效清除轉(zhuǎn)印板100上的凹陷101內(nèi)的PI液固化物，從而提尚了PIl旲的印刷品質(zhì)，進而可提尚液晶顯不面板的生廣良率。
[0069]在具體實施過程中，摩擦清洗裝置40可采用如下兩種方式實現(xiàn):
[0070]實現(xiàn)方式一，如圖2a所示，摩擦清洗裝置40包括樞裝于清洗槽20內(nèi)的摩擦輥41，為進一步提高清洗效果，摩擦輥41的柱面上設有用于對轉(zhuǎn)印板100進行摩擦清洗的刷毛。
[0071]在采用摩擦輥41對轉(zhuǎn)印板100進行清洗時，優(yōu)選地，驅(qū)動裝置50還包括與摩擦輥41連接的電機52，電機52用于帶動摩擦輥41轉(zhuǎn)動，以增強清洗效果。
[0072]摩擦輥41與清洗輥30之間的相對運動可采用如下方式:
[0073]方式一，摩擦輥41主動，清洗輥30從動，以摩擦輥41帶動清洗輥30轉(zhuǎn)動；
[0074]方式二，摩擦輥41從動，清洗輥30主動，以清洗輥30帶動摩擦輥41轉(zhuǎn)動；
[0075]方式三，摩擦輥41和清洗輥30相對轉(zhuǎn)動。
[0076]實現(xiàn)方式二，如圖2b所示，摩擦清洗裝置40包括固定于清洗槽20內(nèi)的摩擦片42，為進一步提高清洗效果，摩擦片42上設有用于對轉(zhuǎn)印板100進行摩擦清洗的刷毛。
[0077]如圖1所示的一種優(yōu)選方式中，為進一步提高清洗效果，本實施例提供的清洗設備還包括超聲清洗裝置60，超聲清洗裝置60包括設置于清洗槽20底面的超聲波換能器62、和與超聲波換能器62電連接的超聲波發(fā)生器61。
[0078]在轉(zhuǎn)印板100的清洗過程中，可打開超聲清洗裝置60中的超聲波發(fā)生器61，使超聲波發(fā)生器61控制超聲波換能器62向清洗槽20內(nèi)發(fā)送超聲波，以增強清洗效果。
[0079]一種優(yōu)選方式中，清洗槽20設有用于檢測清洗液中的雜質(zhì)濃度的濃度檢測裝置，濃度檢測裝置用于檢測清洗液中的雜質(zhì)的濃度，在檢測到的雜質(zhì)濃度超過可正常使用范圍時，需更換清洗液，以保證清洗效果。
[0080]如圖1所示的一種優(yōu)選方式中，清洗槽20設有用于排出清洗液的排液口21，本實施例提供的清洗設備還包括安裝于機架10的用于容置從清洗槽20排出的清洗液的儲液槽70、和用于將儲液槽70內(nèi)的清洗液栗入清洗槽20內(nèi)的上液栗80，上液栗80包括與清洗槽20連通的第一管道81和與儲液槽70連通的第二管道82 ο通過清洗槽20的排液口 21排出的清洗液存儲在儲液槽70內(nèi)，并通過上液栗80的帶動，經(jīng)過第一管道81由儲液槽70栗出，并通過第二管道82再次進入清洗槽20，以實現(xiàn)清洗液的循環(huán)利用，具體實施過程中，清洗液的循環(huán)使用次數(shù)可根據(jù)所需的轉(zhuǎn)印板100的清潔程度選擇，在轉(zhuǎn)印板100的清潔程度需求較高時，清洗液可只使用一次;優(yōu)選地，為減少再利用的清洗液內(nèi)的雜質(zhì)，本實施例提供的清洗設備還包括用于過濾由儲液槽70栗入清洗槽20內(nèi)的清洗液的過濾裝置(圖中未示出)。
[0081]優(yōu)選地，上述的濃度檢測裝置設置在排液口21位置處并用于檢測排出的清洗液中的雜質(zhì)的濃度，當檢測到的雜質(zhì)濃度未超過可正常使用范圍時，可將儲液槽70內(nèi)的清洗液栗入清洗槽20內(nèi)繼續(xù)使用;在檢測到的雜質(zhì)濃度超過可正常使用范圍，需更換清洗液;該過程可采用自動控制實現(xiàn)，濃度檢測裝置可與一控制裝置連接，并將檢測到的清洗液中的雜質(zhì)的濃度信號發(fā)送至控制裝置，控制裝置接收到濃度信號后與預設的濃度閾值進行對比，當雜質(zhì)濃度超出預設的濃度閾值時，控制裝置生產(chǎn)清洗液更換信號，以進行清洗液的更換；清洗液的更換過程同樣可以通過自動控制實現(xiàn)，可采用在清洗槽20的排液口設置自動閥以接收清洗液更換信號并打開閥門排出清洗液，同時，可再設置一清洗液補充槽，內(nèi)設未使用的清洗液，同樣采用自動閥控制，在清洗槽20內(nèi)的清洗液排出后，控制補充槽的自動閥打開，以向清洗槽20內(nèi)補充清洗液。
[0082]實施例二:
[0083]本發(fā)明還提供了一種轉(zhuǎn)印板的清洗方法，如圖4所示，包括:
[0084]步驟SlOl，將轉(zhuǎn)印板卷繞并固定于清洗輥的柱面，并使轉(zhuǎn)印板設有凹陷的一側背離清洗輥的柱面；
[0085]步驟S102，通過設置于清洗輥的柱面的真空吸孔對轉(zhuǎn)印板進行吸附，使設置于真空吸孔內(nèi)的凸起將與其對應的凹陷在背離其凹陷的一側將凹陷的底面沿朝向凹陷的開口方向頂起；
[0086]步驟S103，將轉(zhuǎn)印板浸入清洗槽內(nèi)的清洗液內(nèi)，通過摩擦清洗裝置和清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。
[0087]本實施例提供的轉(zhuǎn)印板清洗方法在進行轉(zhuǎn)印板清洗過程中，將待清洗的轉(zhuǎn)印板具有凹陷的一側向外卷繞于清洗輥的柱面并進行固定，然后使真空吸孔對轉(zhuǎn)印板背離其凹陷的一側進行吸附，真空吸孔內(nèi)的凸起將與其對應的凹陷的底面沿朝向凹陷的開口方向頂起，以使轉(zhuǎn)印板上的凹陷展開，清洗槽內(nèi)注入清洗液使清洗輥的柱面的至少一部分浸入清洗液內(nèi)，并通過驅(qū)動裝置使清洗輥轉(zhuǎn)動以使轉(zhuǎn)印板浸潤清洗液，并使摩擦清洗裝置與清洗輥之間產(chǎn)生相對運動，使得摩擦清洗裝置與轉(zhuǎn)印板之間進行摩擦，以對轉(zhuǎn)印板進行清洗。
[0088]該轉(zhuǎn)印板清洗方法中，因轉(zhuǎn)印板上的凹陷在清洗過程中已展開，可使凹陷中的PI液固化物露出，便于進行清洗，其清洗效率較高，且可有效清除轉(zhuǎn)印板上的凹陷內(nèi)的PI液固化物，從而提高了 PI膜的印刷品質(zhì)，進而可提高液晶顯示面板的生產(chǎn)良率。
[0089]一種優(yōu)選方式中，步驟S103中通過摩擦清洗裝置和清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，包括:
[0090]通過摩擦輥與清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或，
[0091 ]通過摩擦片與清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。
[0092]—種優(yōu)選方式中，通過摩擦輥與清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，包括:
[0093]驅(qū)動摩擦輥轉(zhuǎn)動以帶動清洗輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或，
[0094]驅(qū)動清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或，
[0095]驅(qū)動清洗輥和摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。
[0096]—種優(yōu)選方式中，驅(qū)動清洗輥和摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動進行摩擦清洗之后，還包括:
[0097]驅(qū)動清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，并采用去離子水替代清洗液進行清洗。
[0098]在具體實施過程中，步驟S103中通過摩擦清洗裝置和清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，優(yōu)選地采用如圖5所示的步驟:
[0099]步驟S1031，驅(qū)動清洗輥和摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。該步驟中的清洗輥與摩擦輥之間的摩擦力較大，可提高清潔效率；
[0100]步驟S1032，驅(qū)動清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，并采用去離子水替代清洗液進行清洗。該步驟中清洗輥與摩擦輥之間的摩擦力較小，且采用去離子水清洗，可清洗掉轉(zhuǎn)印板上殘留的清洗液和上一步驟中因摩擦產(chǎn)生的PI液固化物。
[0101 ]如圖4所示的一種優(yōu)選方式中，本實施例提供的清洗方法還包括:
[0102]步驟S104，在通過摩擦清洗裝置和清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗時，采用超聲清洗裝置對清洗液內(nèi)的轉(zhuǎn)印板進行超聲振動，并根據(jù)轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波。
[0103]該步驟可通過超聲清洗進一步提高對轉(zhuǎn)印板的清潔效果。
[0104]優(yōu)選地，根據(jù)轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波，具體包括:
[0105]在轉(zhuǎn)印板上的凹陷的直徑大于IΟμπι時，輸出40kHz的超聲波；
[0106]在在轉(zhuǎn)印板上的凹陷的直徑小于等于IΟμπι時，輸出72kHz的超聲波。
[0107]針對轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波，可提高超聲清洗的效率，增強對轉(zhuǎn)印板的清潔效果。
[0108]如圖5所示的一種優(yōu)選方式中，在通過摩擦清洗裝置和清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗之后，還包括:
[0109]步驟S105，通過濃度檢測裝置對清洗液進行雜質(zhì)濃度檢測；
[0110]步驟S106，判斷清洗液內(nèi)的雜質(zhì)的濃度是否超過預設閾值；
[0111]步驟S107，在清洗液內(nèi)的雜質(zhì)的濃度超過預設閾值時，更換清洗液。
[0112]步驟S105-S107可檢測清洗液中的雜質(zhì)的濃度，以改善在清洗液中的雜質(zhì)濃度超過正常使用范圍后造成的清潔效果下降的問題。
[0113]顯然，本領域的技術人員可以對本發(fā)明實施例進行各種改動和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權利要求及其等同技術的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動和變型在內(nèi)。
【主權項】
1.一種轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，包括: 機架； 安裝于所述機架的清洗槽，所述清洗槽用于容置清洗液； 樞裝于所述機架的清洗輥，所述清洗輥的柱面的至少一部分位于所述清洗槽內(nèi)、且所述清洗輥的柱面設有用于將卷繞于所述柱面上的轉(zhuǎn)印板固定的轉(zhuǎn)印板固定機構;所述清洗輥的柱面設置有與所述轉(zhuǎn)印板上的凹陷一一對應的凸起，且所述凸起的周邊設有用于對轉(zhuǎn)印板進行吸附的真空吸孔，所述凸起用于在所述真空吸孔吸附轉(zhuǎn)印板時在背離其凹陷的一側將所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的開口方向頂起； 安裝于所述清洗槽內(nèi)的摩擦清洗裝置，所述摩擦清洗裝置用于與卷繞于所述清洗輥上的轉(zhuǎn)印板接觸，并通過所述清洗輥與其產(chǎn)生相對運動以對所述轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗； 安裝于所述機架的驅(qū)動裝置，所述驅(qū)動裝置與所述清洗輥傳動連接，和/或，所述驅(qū)動裝置與所述摩擦清洗裝置傳動連接，用于使所述清洗輥與所述摩擦清洗裝置之間產(chǎn)生相對運動。2.根據(jù)權利要求1所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，所述摩擦清洗裝置包括樞裝于所述清洗槽內(nèi)的摩擦輥，所述摩擦輥的柱面上設有用于對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗的刷毛。3.根據(jù)權利要求2所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，所述驅(qū)動裝置為電機。4.根據(jù)權利要求1所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，所述摩擦清洗裝置包括固定于所述清洗槽內(nèi)的摩擦片，所述摩擦片上設有用于對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗的刷毛。5.根據(jù)權利要求1所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，還包括超聲清洗裝置，所述超聲清洗裝置包括設置于所述清洗槽底面的超聲波換能器、和與所述超聲波換能器電連接的超聲波發(fā)生器。6.根據(jù)權利要求1所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，所述清洗槽設有用于檢測清洗液中的雜質(zhì)濃度的濃度檢測裝置。7.根據(jù)權利要求1所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，還包括安裝于所述機架的用于容置所述清洗槽排出的清洗液的儲液槽、和用于將所述儲液槽內(nèi)的清洗液栗入所述清洗槽內(nèi)的上液栗。8.根據(jù)權利要求7所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，還包括用于過濾由所述儲液槽栗入所述清洗槽內(nèi)的清洗液的過濾裝置。9.根據(jù)權利要求1所述的轉(zhuǎn)印板清洗設備，其特征在于，所述固定機構為固定夾。10.一種轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，包括: 將轉(zhuǎn)印板卷繞并固定于清洗輥的柱面，并使轉(zhuǎn)印板設有凹陷的一側背離所述清洗輥的柱面； 通過設置于所述清洗輥的柱面的真空吸孔對轉(zhuǎn)印板進行吸附，使設置于真空吸孔內(nèi)的凸起將與其對應的凹陷在背離其凹陷的一側將所述凹陷的底面沿朝向所述凹陷的開口方向頂起； 將轉(zhuǎn)印板浸入清洗槽內(nèi)的清洗液內(nèi)，通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。11.根據(jù)權利要求10所述的轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，所述通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，包括: 通過摩擦輥與所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或， 通過摩擦片與所述清洗輥之間的相對運動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。12.根據(jù)權利要求11所述的轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，所述通過摩擦輥與所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，包括: 驅(qū)動所述摩擦輥轉(zhuǎn)動以帶動所述清洗輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或， 驅(qū)動所述清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動所述摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗;或， 驅(qū)動所述清洗輥和所述摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗。13.根據(jù)權利要求12所述的轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，所述驅(qū)動所述清洗輥和所述摩擦輥同時相對轉(zhuǎn)動進行摩擦清洗之后，還包括: 驅(qū)動所述清洗輥轉(zhuǎn)動以帶動所述摩擦輥轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗，并采用去離子水進行清洗。14.根據(jù)權利要求10所述的轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，還包括: 在通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗時，采用超聲清洗裝置對所述清洗液內(nèi)的轉(zhuǎn)印板進行超聲振動，并根據(jù)轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波。15.根據(jù)權利要求14所述的轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，所述根據(jù)轉(zhuǎn)印板的凹陷的直徑大小輸出對應頻率的超聲波，具體包括: 在轉(zhuǎn)印板上的凹陷的直徑大于ΙΟμπι時，輸出40kHz的超聲波； 在在轉(zhuǎn)印板上的凹陷的直徑小于等于ΙΟμπι時，輸出7 2 kHz的超聲波。16.根據(jù)權利要求10所述的轉(zhuǎn)印板的清洗方法，其特征在于，在所述通過摩擦清洗裝置和所述清洗輥之間的相對轉(zhuǎn)動對轉(zhuǎn)印板進行摩擦清洗之后，還包括: 通過濃度檢測裝置對所述清洗液進行雜質(zhì)濃度檢測； 在所述清洗液內(nèi)的雜質(zhì)濃度超過預設閾值時，更換所述清洗液。
【文檔編號】B08B3/08GK105921431SQ201610289765
【公開日】2016年9月7日
【申請日】2016年5月4日
【發(fā)明人】井楊坤
【申請人】京東方科技集團股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司