本申請涉及電鍍，特別地，涉及一種電鍍槽供電系統(tǒng)、方法、電鍍槽及電鍍錫機組。

背景技術(shù)：

1、電鍍錫機組是指用于在金屬表面電鍍一層錫的專用設(shè)備，主要包括電鍍槽、電源、電解液循環(huán)系統(tǒng)、溫度控制系統(tǒng)、攪拌系統(tǒng)等，電鍍槽包括槽體和電極。

2、采用電鍍錫機組對帶鋼進行鍍錫時，陽極為錫，陰極為帶鋼，在電鍍電流作用下，基于電化學(xué)反應(yīng)原理，陽極的錫單質(zhì)氧化溶解為錫離子，錫離子在帶鋼表面還原為錫單質(zhì)，從而對帶鋼表面進行鍍錫。

3、隨著電鍍鋅機組的工藝速度不斷提高，電鍍電流和電鍍電壓也不斷增大，在采用高速大電流進行帶鋼的鍍錫生產(chǎn)時，電鍍電流容易擊穿電鍍槽內(nèi)壁的絕緣層，使得高電勢的陽極和低電勢的槽體之間構(gòu)建起電場，錫離子部分聚集在電鍍槽內(nèi)壁，形成錫刺，在錫刺變大到一定程度時，容易脫落，從而對電鍍錫機組的運行和帶鋼生產(chǎn)質(zhì)量造成重大影響。

技術(shù)實現(xiàn)思路

1、本申請的實施例提供了一種電鍍槽供電系統(tǒng)、方法、電鍍槽及電鍍錫機組，有效減少了錫刺的產(chǎn)生。

2、本申請的其他特性和優(yōu)點將通過下面的詳細描述變得顯然，或部分地通過本申請的實踐而習(xí)得。

3、根據(jù)本申請實施例的第一方面，提供了一種電鍍槽供電系統(tǒng)，應(yīng)用于電鍍槽，包括：

4、直流供電電源，負極連接所述電鍍槽的導(dǎo)電輥，正極連接所述電鍍槽的槽體。

5、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，所述直流供電電源包括整流器，所述整流器的輸入端和電網(wǎng)相連接，輸出端的正極連接所述槽體，負極連接所述導(dǎo)電輥。

6、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，所述直流供電電源還包括降壓變換器，所述降壓變換器位于所述整流器輸出端的正極和所述槽體之間。

7、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，所述降壓變換器的輸出端連接所述槽體的溢流口位置。

8、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，所述降壓變換器為可調(diào)降壓變換器。

9、根據(jù)本申請的第二方面，提供了一種電鍍槽供電方法，包括：

10、在電鍍槽的絕緣層被擊穿時，調(diào)整槽體所在回路的電流，以使所述槽體所在回路的電流處于預(yù)設(shè)電流范圍內(nèi)。

11、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，所述預(yù)設(shè)電流范圍為100到200a。

12、根據(jù)本申請的第三方面，提供了一種電鍍槽，包括所述的一種電鍍槽供電系統(tǒng)。

13、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，還包括：

14、槽體，內(nèi)壁覆蓋有絕緣層，設(shè)有溢流口，用于盛放電鍍液；

15、陽極梁，連接所述直流供電電源的正極，安裝在所述槽體上，下方設(shè)有多個部分浸沒在所述電鍍液內(nèi)的陽極；

16、多個導(dǎo)電輥，連接所述直流供電電源的負極，位于所述槽體上方；

17、沉沒輥，位于相鄰的兩個所述導(dǎo)電輥的中間，設(shè)在所述槽體內(nèi)。

18、在本申請的一些實施例中，基于前述方案，所述絕緣層的材料為橡膠。

19、根據(jù)本申請的第四方面，提供了一種電鍍錫機組，包括所述的一種電鍍槽。

20、本申請的有益效果如下：

21、采用直流供電電源向槽體通電，在槽體內(nèi)壁的絕緣層被擊穿時，槽體存在較高的電勢，而不是現(xiàn)有技術(shù)的低電勢，即增大了槽體的電勢，使得陽極和槽體之間的電勢差減小，減少了錫離子向槽體內(nèi)壁的聚集量，從而有效減少了錫刺的產(chǎn)生。

22、應(yīng)當理解的是，以上的一般描述和后文的細節(jié)描述僅是示例性和解釋性的，并不能限制本申請。

技術(shù)特征：

1.一種電鍍槽供電系統(tǒng)，應(yīng)用于電鍍槽，其特征在于，包括：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍槽供電系統(tǒng)，其特征在于，所述直流供電電源包括整流器，所述整流器的輸入端和電網(wǎng)相連接，輸出端的正極連接所述槽體，負極連接所述導(dǎo)電輥。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電鍍槽供電系統(tǒng)，其特征在于，所述直流供電電源還包括降壓變換器，所述降壓變換器位于所述整流器輸出端的正極和所述槽體之間。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種電鍍槽供電系統(tǒng)，其特征在于，所述降壓變換器的輸出端連接所述槽體的溢流口位置。

5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種電鍍槽供電系統(tǒng)，其特征在于，所述降壓變換器為可調(diào)降壓變換器。

6.一種電鍍槽供電方法，其特征在于，包括：

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的一種電鍍槽供電方法，其特征在于，所述預(yù)設(shè)電流范圍為100到200a。

8.一種電鍍槽，其特征在于，包括權(quán)利要求1-4任一項所述的一種電鍍槽供電系統(tǒng)。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的一種電鍍槽，其特征在于，還包括：

10.一種電鍍錫機組，其特征在于，包括權(quán)利要求7-9任一項所述的一種電鍍槽。

技術(shù)總結(jié)
本申請公開了一種電鍍槽供電系統(tǒng)、方法、電鍍槽及電鍍錫機組，所述系統(tǒng)包括：直流供電電源，負極連接所述電鍍槽的導(dǎo)電輥，正極連接所述電鍍槽的槽體。本申請有效減少了錫刺的產(chǎn)生。

技術(shù)研發(fā)人員：王愛紅,劉宗發(fā),萬一群,李吉超,王自勇,張晃晃
受保護的技術(shù)使用者：首鋼京唐鋼鐵聯(lián)合有限責(zé)任公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/9/12