一種狹縫式涂布機(jī)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ]本實用新型涉及薄膜涂布設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種狹縫式涂布機(jī)。
【背景技術(shù)】
[0002]對于現(xiàn)有狹縫式涂布機(jī)(slot die coater)而言，由于涂布頭與基片間距為微米級，為保持涂布低間隙及高均勻度，涂布頭與載片平臺間需要極高的平行度。而在實驗室中對現(xiàn)有設(shè)備進(jìn)行涂布前調(diào)試、校零，需要長時間調(diào)節(jié)、試驗來達(dá)到理想的效果，這樣每次實驗前都需要長時間的調(diào)整，并且不能保證每次調(diào)整后的效果都能達(dá)到最優(yōu)，影響實驗結(jié)果和研發(fā)進(jìn)度。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]為了解決上述的技術(shù)問題，本實用新型的目的是提供一種狹縫式涂布機(jī)，該狹縫式涂布機(jī)結(jié)構(gòu)合理，能夠更效率的得到涂布頭與平臺間更高的平行度，使涂層超薄且有更高的均勻度，從而提高實驗效率，降低成本。
[0004]為了實現(xiàn)上述目的，本實用新型采用了以下的技術(shù)方案:
[0005]—種狹縫式涂布機(jī)，包括工作臺、支架、第二伺服電機(jī)和狹縫式涂布頭，所述工作臺包括底座、真空吸附平臺和第一伺服電機(jī)，所述底座側(cè)壁上設(shè)有撥桿，所述真空吸附平臺位于底座的上部，且由至少一個第一伺服電機(jī)驅(qū)動，所述底座兩側(cè)的上部設(shè)有滑槽，滑槽內(nèi)放置有量塊，所述滑槽的側(cè)壁上還設(shè)有長條形通孔，所述撥桿穿過通孔與量塊連接，所述狹縫式涂布頭通過支架固定在工作臺的上方，并且狹縫式涂布頭由第二伺服電機(jī)驅(qū)動，所述狹縫式涂布頭的兩側(cè)固定有位移感應(yīng)器，所述位移感應(yīng)器與滑槽的位置對齊。
[0006]作為優(yōu)選方案:所述支架包括橫梁和支柱，兩根支柱分別位于工作臺的兩側(cè)，兩臺第二伺服電機(jī)分別固定在兩根立柱的底部，所述橫梁的兩端分別與兩臺第二伺服電機(jī)的傳動軸相連接，所述狹縫式涂布頭固定在橫梁中部。
[0007]作為優(yōu)選方案:所述第一伺服電機(jī)通過電機(jī)支架固定在底座上。
[0008]作為優(yōu)選方案:所述底座底部還設(shè)有四個支腳，其中三個支腳為高度可調(diào)節(jié)的支腳。這樣工作臺水平調(diào)節(jié)也更加方便，進(jìn)一步提高了涂布頭與載片平臺間的平行度。
[0009]作為優(yōu)選方案，所述位移感應(yīng)器為非接觸式或者接觸式的感應(yīng)器。
[0010]本實用新型通過在狹縫式涂布頭兩側(cè)設(shè)置位移傳感器，并且在底座上相對應(yīng)的設(shè)置量塊，使得狹縫式涂布頭與工作平臺之間的平行度更加方便的調(diào)整，精度更高，且量塊位置可調(diào)節(jié)不影響?yīng)M縫式涂布頭的正常工作。
[0011 ]本實用新型的狹縫式涂布機(jī)，結(jié)構(gòu)合理，精度高，涂層薄，均勻性好，能夠進(jìn)行更高效、高精度的平行度校零，并可實現(xiàn)平行度全自動校零，從而提高了實驗效率，降低成本。
【附圖說明】
[0012]圖1是本實用新型的正面結(jié)構(gòu)示意圖。
[0013]圖2是本實用新型的頂面結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]下面結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】做一個詳細(xì)的說明。
[0015]如圖1和圖2所示的一種狹縫式涂布機(jī)，包括工作臺、支架、第二伺服電機(jī)4和狹縫式涂布頭9，所述工作臺包括底座3、真空吸附平臺I和第一伺服電機(jī)2，所述底座3側(cè)壁上設(shè)有撥桿7，所述真空吸附平臺I位于底座3的上部，且由至少一個第一伺服電機(jī)2驅(qū)動，所述第一伺服電機(jī)2通過電機(jī)支架13固定在底座3上。
[0016]所述底座3兩側(cè)的上部設(shè)有滑槽6，滑槽6內(nèi)放置有量塊8，所述滑槽6的側(cè)壁上還設(shè)有長條形通孔，所述撥桿7穿過通孔與量塊8連接，所述狹縫式涂布頭9通過支架固定在工作臺的上方，并且狹縫式涂布頭9由第二伺服電機(jī)4驅(qū)動，所述狹縫式涂布頭9的兩側(cè)固定有位移感應(yīng)器11，所述位移感應(yīng)器11與滑槽6的位置對齊。
[0017]所述支架包括橫梁10和支柱12，兩根支柱12分別位于工作臺的兩側(cè)，兩臺第二伺服電機(jī)4分別固定在兩根立柱12的底部，所述橫梁10的兩端分別與兩臺第二伺服電機(jī)4的傳動軸相連接，所述狹縫式涂布頭9固定在橫梁10中部。
[0018]所述底座3底部還設(shè)有四個支腳5，其中三個支腳5為高度可調(diào)節(jié)的支腳5。所述位移感應(yīng)器11為非接觸式或者接觸式的感應(yīng)器。
[0019]所述狹縫式涂布機(jī)在平行度校零時，狹縫式涂布頭兩側(cè)的位移感應(yīng)器分別感應(yīng)與工作臺兩側(cè)相對應(yīng)的量塊的距離，同時通過分別調(diào)節(jié)兩側(cè)第二伺服電機(jī)使位移感應(yīng)器與對應(yīng)的量塊的距離相同，來達(dá)到狹縫式涂布頭與工作臺的高度平行的目的，所述平行度校零過程可以設(shè)定為全自動。狹縫式涂布機(jī)在工作時量塊通過撥桿移動到滑槽另一端，狹縫式涂布頭下降后位移感應(yīng)器不會與量塊有干涉。
[0020]本實用新型具體實施例中，進(jìn)行平行度校零的同時計算涂布頭與平臺距離，進(jìn)行涂布時狹縫式涂布頭下降至所需距離，與基板之間保持微米級間隙距離，狹縫式涂布頭按一定速度擠出漿料同時真空吸附平臺按一定速度移動進(jìn)行涂布，完成涂布后，狹縫式涂布頭上升回到原點，真空吸附平臺退回原位。
[0021]以上所述僅為本實用新型的實施例，并非因此限制本實用新型的專利范圍，凡是利用本實用新型說明書及附圖內(nèi)容所作的等效結(jié)構(gòu)或等效流程變換，或直接或間接運用在其他相關(guān)的技術(shù)領(lǐng)域，均同理包括在本實用新型的專利保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種狹縫式涂布機(jī)，其特征在于:包括工作臺、支架、第二伺服電機(jī)(4)和狹縫式涂布頭(9)，所述工作臺包括底座(3)、真空吸附平臺(I)和第一伺服電機(jī)(2)，所述底座(3)側(cè)壁上設(shè)有撥桿(7)，所述真空吸附平臺(I)位于底座(3)的上部，且由至少一個第一伺服電機(jī)(2)驅(qū)動，所述底座(3)兩側(cè)的上部設(shè)有滑槽(6)，滑槽(6)內(nèi)放置有量塊(8)，所述滑槽(6)的側(cè)壁上還設(shè)有長條形通孔，所述撥桿(7)穿過通孔與量塊(8)連接，所述狹縫式涂布頭(9)通過支架固定在工作臺的上方，并且狹縫式涂布頭(9)由第二伺服電機(jī)(4)驅(qū)動，所述狹縫式涂布頭(9)的兩側(cè)固定有位移感應(yīng)器(11)，所述位移感應(yīng)器(11)與滑槽(6)的位置對齊。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種狹縫式涂布機(jī)，其特征在于:所述支架包括橫梁(10)和支柱(12)，兩根支柱(12)分別位于工作臺的兩側(cè)，兩臺第二伺服電機(jī)(4)分別固定在兩根支柱(12)的底部，所述橫梁(10)的兩端分別與兩臺第二伺服電機(jī)(4)的傳動軸相連接，所述狹縫式涂布頭(9)固定在橫梁(10)中部。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種狹縫式涂布機(jī)，其特征在于:所述第一伺服電機(jī)(2)通過電機(jī)支架(13)固定在底座(3)上。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種狹縫式涂布機(jī)，其特征在于:所述底座(3)底部還設(shè)有四個支腳(5)，其中三個支腳(5)為高度可調(diào)節(jié)的支腳(5)。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種狹縫式涂布機(jī)，其特征在于:所述位移感應(yīng)器(II)為非接觸式或者接觸式的感應(yīng)器。
【專利摘要】本實用新型涉及一種狹縫式涂布機(jī)，包括工作臺、支架、第二伺服電機(jī)和狹縫式涂布頭，工作臺包括底座、真空吸附平臺和第一伺服電機(jī)，底座側(cè)壁上設(shè)有撥桿，真空吸附平臺位于底座的上部，且由至少一個第一伺服電機(jī)驅(qū)動，底座兩側(cè)的上部設(shè)有滑槽，滑槽內(nèi)放置有量塊，滑槽的側(cè)壁上還設(shè)有長條形通孔，撥桿穿過通孔與量塊連接，狹縫式涂布頭通過支架固定在工作臺的上方，并且狹縫式涂布頭由第二伺服電機(jī)驅(qū)動，狹縫式涂布頭的兩側(cè)固定有位移感應(yīng)器，所述位移感應(yīng)器與滑槽的位置對齊。本實用新型的狹縫式涂布機(jī)，結(jié)構(gòu)合理，精度高，涂層薄，均勻性好，能夠進(jìn)行更高效、高精度的平行度校零，提高了實驗效率，降低成本。
【IPC分類】B05C11/10, B05C11/02, B05C1/06
【公開號】CN205236291
【申請?zhí)枴緾N201520835654
【發(fā)明人】付超
【申請人】杭州眾能光電科技有限公司
【公開日】2016年5月18日
【申請日】2015年10月26日