技術(shù)編號(hào)：39729421
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體，特別是涉及一種半導(dǎo)體器件及其制備方法。背景技術(shù)、bcd（bipolar-cmos-dmos）工藝是一種單片集成工藝技術(shù)，這種工藝能夠在同一芯片上制作bipolar（雙極）、cmos（complementary?metal?oxide?semiconductor，互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體）和dmos（double-diffused?metal?oxide?semiconductor，雙擴(kuò)散金屬氧化物半導(dǎo)體）器件。bcd工藝綜合了以上三種器件的優(yōu)點(diǎn)，成為了集成電路的主流工藝技術(shù)，實(shí)現(xiàn)...
注意：該技術(shù)已申請(qǐng)專利，請(qǐng)尊重研發(fā)人員的辛勤研發(fā)付出，在未取得專利權(quán)人授權(quán)前，僅供技術(shù)研究參考不得用于商業(yè)用途。
該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。