技術編號：6867800
提示：您尚未登錄，請點 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請點 注 冊 ，登陸完成后，請刷新本頁查看技術詳細信息。本發(fā)明涉及用于半導體基板的加熱處理的基板加熱處理裝置以及用于基板加熱處理的基板運送用托盤。背景技術 以往，廣泛地進行對半導體基板進行高溫處理的熱處理。例如，廣泛進行使注入離子的不純物活性化的處理、或以因離子注入而產生的結晶缺陷的修復等為目的的高速加熱處理(Rapid Thermal Process，Rapid Thermal Anneal)(下面簡單地表示為“RTP”。)。該基板加熱處理是在半導體制造裝置中，通過加熱構件，對配置在真空室中的基板(半導體基板...
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