一種磁芯上模的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種磁芯上模，通過在上模本體與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置多個(gè)凹槽點(diǎn)；所述凹槽點(diǎn)對(duì)稱分布于上模沖頭在所述工作面上的投影連接線，且所述凹槽點(diǎn)與所述投影連接線的距離相等；分布于所述投影連接線同側(cè)的凹槽點(diǎn)間距相等，所述凹槽點(diǎn)均靠近工作面的外邊緣。在生坯壓制過程中，所述磁芯上模能夠在生坯底部生成與所述凹槽點(diǎn)相對(duì)應(yīng)的凸點(diǎn)，所述凸點(diǎn)能夠?qū)ι鬟M(jìn)行有效支撐，使得生坯在承燒板上進(jìn)行燒結(jié)時(shí)，生坯底面與承燒板保持一定間距、僅通過所述凸點(diǎn)與承燒板接觸，便于燒結(jié)時(shí)揮發(fā)物排放，減少磁芯產(chǎn)品的開裂，有效提高產(chǎn)品的合格率。在燒結(jié)完成后，所述凸點(diǎn)能夠在打磨加工過程中去除，對(duì)最終磁芯產(chǎn)品不產(chǎn)生影響。
【專利說明】
_種磁芯上模
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及磁芯制造技術(shù)領(lǐng)域，特別是涉及一種磁芯上模。
【背景技術(shù)】
[0002]磁芯是指由各種氧化鐵混合物組成的一種燒結(jié)磁性金屬氧化物，廣泛應(yīng)用于用于各種電子設(shè)備的線圈和變壓器中。其中，錳-鋅鐵氧體和鎳-鋅鐵氧體是典型的磁芯體材料。 [〇〇〇3]在磁芯生產(chǎn)過程中，例如軟磁錳鋅鐵氧體燒結(jié)就是在窯爐中通過對(duì)溫度、氣氛控制使毛坯收縮和致密化，形成一定形狀、尺寸(生坯收縮比為1.165?1.195)、具有規(guī)定電磁特性和機(jī)械特性的燒結(jié)體，并全部生成鐵氧體。一般燒結(jié)會(huì)控制溫度1300?1450°C之間，在升溫過程中，生坯中的水、粘合劑等易揮發(fā)物均會(huì)從生坯中排出。對(duì)于底部面積較大的產(chǎn)品，由于底部與承燒板接觸面太大，不利于揮發(fā)物排出，容易造成產(chǎn)品開裂，磁芯生產(chǎn)的成品率低。因此，如何提高磁芯生產(chǎn)的成品率是本領(lǐng)域技術(shù)人員亟需解決的技術(shù)問題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004] 本實(shí)用新型實(shí)施例中提供了一種磁芯上模，以解決現(xiàn)有技術(shù)中的磁芯制造成品率低的問題。
[0005] 為了解決上述技術(shù)問題，本實(shí)用新型實(shí)施例公開了如下技術(shù)方案:
[0006] 本實(shí)用新型實(shí)施例公開了一種磁芯上模，包括上模本體，其中:
[〇〇〇7]所述上模本體與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置有多個(gè)凹槽點(diǎn)；
[0008] 所述凹槽點(diǎn)對(duì)稱分布于上模沖頭在所述工作面上的投影連接線兩側(cè)，且所述凹槽點(diǎn)與所述投影連接線的距離相等；
[0009] 分布于所述投影連接線同側(cè)的所述凹槽點(diǎn)間距相等；
[0010] 所述凹槽點(diǎn)均靠近所述工作面的外邊緣。
[〇〇11]優(yōu)選地，所述凹槽點(diǎn)的高度均相等；
[0012]優(yōu)選地，所述凹槽點(diǎn)為正方體形凹槽點(diǎn)，所述凹槽點(diǎn)的邊長(zhǎng)為0.2mm-0.4mm。
[0013 ] 優(yōu)選地，所述凹槽點(diǎn)為半球形凹槽點(diǎn)，所述凹槽點(diǎn)的半徑為〇.2mm-0.4mm。
[0014] 優(yōu)選地，分布于所述投影連線同側(cè)的凹槽點(diǎn)中，沿所述投影連接線方向最外側(cè)的所述凹槽點(diǎn)間距大于所述上模沖頭的間距。
[0015] 由以上技術(shù)方案可見，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的磁芯上模，通過在上模本體與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置多個(gè)凹槽點(diǎn);所述凹槽點(diǎn)對(duì)稱分布于所述上模沖頭在所述工作面上的投影連接線，且所述凹槽點(diǎn)與所述投影連接線的距離相等;分布于所述投影連接線同側(cè)的所述凹槽點(diǎn)間距相等，所述凹槽點(diǎn)均靠近所述工作面的外邊緣。在使用所述磁芯上模進(jìn)行生坯壓制過程中，所述磁芯上模能夠在生坯底部生成與所述凹槽點(diǎn)2相對(duì)應(yīng)的凸點(diǎn)，所述凸點(diǎn)能夠?qū)ι鬟M(jìn)行有效支撐，使得生坯在承燒板上進(jìn)行燒結(jié)時(shí)，生坯底面與承燒板保持一定間距、僅通過所述凸點(diǎn)與承燒板接觸，便于燒結(jié)時(shí)揮發(fā)物排放，減少磁芯產(chǎn)品的開裂，有效提尚廣品的合格率。在燒結(jié)完成后，對(duì)生還進(jìn)彳丁打磨加工，將生還底面抹掉0.6mm-0.8mm，所述凸點(diǎn)能夠在打磨加工過程中去除，對(duì)最終磁芯產(chǎn)品不會(huì)產(chǎn)生任何影響。
【附圖說明】
[0016]為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹，顯而易見地，對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言，在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下，還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
[0017]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種磁芯上模的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0018]圖2為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的圖1中磁芯上模A-A剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0019]圖3為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的圖1中磁芯上模B-B剖面結(jié)構(gòu)示意圖；
[0020]圖4為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的凹槽點(diǎn)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0021]圖5為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種磁芯上模的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0022]圖6為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種凹槽點(diǎn)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0023]圖1-6中，符號(hào)表不為:
[0024]1-上模本體，2-凹槽點(diǎn)，3-上模沖頭。
【具體實(shí)施方式】
[0025]為了使本技術(shù)領(lǐng)域的人員更好地理解本實(shí)用新型中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都應(yīng)當(dāng)屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0026]實(shí)施例一
[0027]參見圖1，為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種磁芯上模的結(jié)構(gòu)示意圖，同樣參見圖2，為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的圖1中磁芯上模A-A剖面結(jié)構(gòu)示意圖，以及參見圖3，為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的圖1中磁芯上模B-B剖面結(jié)構(gòu)示意圖，所述磁芯上模包括上模本體I和設(shè)置于所述上模本體I底部的上模沖頭3。所述上模本體I可以為PQ型磁芯模具上模、RM型磁芯模具上模或者其他任意規(guī)格的磁芯模具上模，所述磁芯上模與磁芯母模和磁芯下模相互配合將磁芯坯料壓制成符合技術(shù)規(guī)格的磁芯生坯并燒結(jié)成磁芯成品。
[0028]所述上模本體I與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置有多個(gè)凹槽點(diǎn)2，在本實(shí)用新型實(shí)施例中設(shè)置有4個(gè)凹槽點(diǎn)2;所述凹槽點(diǎn)2對(duì)稱分布于所述上模沖頭3所述工作面上的投影連接線兩側(cè)，所述投影連接線可以理解為所述上模沖頭3在所述工作面上投影中心的連接線;所述凹槽點(diǎn)2與所述投影連接線的距離相等，分布于所述投影連接線同側(cè)的所述凹槽點(diǎn)2的間距相等。
[0029]而且，為了保證所述凹槽點(diǎn)2能夠更加均衡地支撐磁芯生坯，所述凹槽點(diǎn)2的高度均相等，且所述凹槽點(diǎn)2靠近所述工作面的外邊緣。參見圖4，為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種凹槽點(diǎn)的結(jié)構(gòu)示意圖，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述凹槽點(diǎn)2為正方體形凹槽點(diǎn)，所述凹槽點(diǎn)2的邊長(zhǎng)L為0.2mm-0.4mm，優(yōu)選地，所述凹槽點(diǎn)2的邊長(zhǎng)L為0.3mm。分布于所述投影連接線同側(cè)的凹槽點(diǎn)2中，沿所述投影連接線方向最外側(cè)的所述凹槽點(diǎn)2的間距大于所述上模沖頭3的間距。當(dāng)然，在具體實(shí)施時(shí)，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以根據(jù)生產(chǎn)需要，選用其他形狀的凹槽點(diǎn)，例如長(zhǎng)方體形、梯形或者橢球形等;所述凹槽點(diǎn)2的尺寸可以根據(jù)磁芯的尺寸規(guī)格進(jìn)行
調(diào)整。
[0030] 另外，需要說明的是，在本實(shí)用新型實(shí)施中設(shè)置的凹槽點(diǎn)2的個(gè)數(shù)可以為其他任意數(shù)值，例如6個(gè)、8個(gè)或者10個(gè)等，且多個(gè)所述凹槽點(diǎn)2按照上面實(shí)施例的描述方式分布設(shè)置。
[0031] 由上述實(shí)施例可見，本實(shí)用新型提供的所述磁芯上模，通過在上模本體1與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置多個(gè)凹槽點(diǎn)2;所述凹槽點(diǎn)2對(duì)稱分布于所述上模沖頭3在所述工作面上的投影連接線，且所述凹槽點(diǎn)2與所述投影連接線的距離相等;分布于所述投影連接線同側(cè)的所述凹槽點(diǎn)2間距相等，所述凹槽點(diǎn)2均靠近所述工作面的外邊緣。在使用所述磁芯上模進(jìn)行生坯壓制過程中，所述磁芯上模能夠在生坯底部生成與所述凹槽點(diǎn)2相對(duì)應(yīng)的凸點(diǎn)，所述凸點(diǎn)能夠?qū)ι鬟M(jìn)行有效支撐，使得生坯在承燒板上進(jìn)行燒結(jié)時(shí)，生坯底面與承燒板保持一定間距、僅通過所述凸點(diǎn)與承燒板接觸，便于燒結(jié)時(shí)揮發(fā)物排放，減少磁芯產(chǎn)品的開裂，有效提尚廣品的合格率。在燒結(jié)完成后，對(duì)生還進(jìn)彳丁打磨加工，將生還底面抹掉 0.6mm-0.8mm，所述凸點(diǎn)能夠在打磨加工過程中去除，對(duì)最終磁芯產(chǎn)品不會(huì)產(chǎn)生任何影響。 [〇〇32] 實(shí)施例二
[0033] 參見圖5,為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的另一種磁芯上模的結(jié)構(gòu)示意圖，本實(shí)用新型實(shí)施例與實(shí)施例一的不同之處在于，所述上模本體1與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置有6 個(gè)凹槽點(diǎn)2,且所述凹槽點(diǎn)2對(duì)稱分布于所述上模沖頭3在所述工作面上的投影連接線兩側(cè)， 且所述凹槽點(diǎn)2與所述投影連接線的距離相等，具體地，3個(gè)凹槽點(diǎn)2分布于所述投影連接線的一側(cè)，另外3個(gè)凹槽點(diǎn)2分布于所述投影連接線的另一側(cè)，且位于所述投影連接線兩側(cè)的凹槽點(diǎn)2相對(duì)于所述投影連接線對(duì)稱分布;位于所述投影連接線同側(cè)的凹槽點(diǎn)2間距相等， 分布于所述投影連接線同側(cè)的凹槽點(diǎn)2中，沿所述投影連接線方向最外側(cè)的所述凹槽點(diǎn)間距大于所述上模沖頭3的間距。而且，在本實(shí)用新型實(shí)施例中，所述凹槽點(diǎn)2的形狀為半球形，所述凹槽點(diǎn)2的半徑R為0.2mm-0.4mm，優(yōu)選地，所述凹槽點(diǎn)2的半徑為0.3mm。當(dāng)然，在具體實(shí)施時(shí)，所述凹槽點(diǎn)2的尺寸可以為其他任意數(shù)值。本實(shí)用新型實(shí)施例與實(shí)施例一的相同之處，可參看實(shí)施例一，在此不再贅述。
[0034] 通過設(shè)置6個(gè)所述凹槽點(diǎn)2,所述凹槽點(diǎn)2能夠在磁芯生坯底面對(duì)應(yīng)生成6個(gè)凸點(diǎn)， 進(jìn)一步加強(qiáng)所述磁芯生坯的平穩(wěn)性，便于進(jìn)行燒結(jié);而且半球形的凹槽點(diǎn)2能夠在生坯壓制過程中，均勻填充磁芯坯料，保證凸點(diǎn)高度一致，方便揮發(fā)物的排放和燒結(jié)受熱均勻，進(jìn)一步提尚磁芯成品率。
[〇〇35]需要說明的是，在本文中，諸如術(shù)語(yǔ)“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含，從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不僅包括那些要素，而且還包括沒有明確列出的其他要素，或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。在沒有更多限制的情況下，由語(yǔ)句“包括一個(gè)……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的過程、方法、物品或者設(shè)備中還存在另外的相同要素。
[〇〇36]以上所述僅是本實(shí)用新型的【具體實(shí)施方式】，使本領(lǐng)域技術(shù)人員能夠理解或?qū)崿F(xiàn)本實(shí)用新型。對(duì)這些實(shí)施例的多種修改對(duì)本領(lǐng)域的技術(shù)人員來(lái)說將是顯而易見的，本文中所定義的一般原理可以在不脫離本實(shí)用新型的精神或范圍的情況下，在其它實(shí)施例中實(shí)現(xiàn)。 因此，本實(shí)用新型將不會(huì)被限制于本文所示的這些實(shí)施例，而是要符合與本文所公開的原理和新穎特點(diǎn)相一致的最寬的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種磁芯上模，其特征在于，包括上模本體(I)，其中: 所述上模本體(I)與磁芯坯料相接觸的工作面上設(shè)置有多個(gè)凹槽點(diǎn)(2); 所述凹槽點(diǎn)(2)對(duì)稱分布于上模沖頭(3)在所述工作面上的投影連接線兩側(cè)，且所述凹槽點(diǎn)(2)與所述投影連接線的距離相等； 分布于所述投影連接線同側(cè)的所述凹槽點(diǎn)(2)間距相等； 所述凹槽點(diǎn)(2)均靠近所述工作面的外邊緣。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁芯上模，其特征在于，所述凹槽點(diǎn)(2)的高度均相等。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁芯上模，其特征在于，所述凹槽點(diǎn)(2)為正方體形凹槽點(diǎn)，所述凹槽點(diǎn)(2)的邊長(zhǎng)為0.2mm_0.4mm。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁芯上模，其特征在于，所述凹槽點(diǎn)(2)為半球形凹槽點(diǎn)，所述凹槽點(diǎn)(2)的半徑為0.2mm-0.4mm。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的磁芯上模，其特征在于，分布于所述投影連線同側(cè)的凹槽點(diǎn)(2)中，沿所述投影連接線方向最外側(cè)的所述凹槽點(diǎn)(2)間距大于所述上模沖頭(3)的間距。
【文檔編號(hào)】H01F41/02GK205466675SQ201620110768
【公開日】2016年8月17日
【申請(qǐng)日】2016年2月3日
【發(fā)明人】林開品, 朱再元
【申請(qǐng)人】婁底市玖鑫電子科技有限公司