輻射烤架的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明除其它外涉及輻射烤架并且涉及用于使用這種輻射烤架烹飪食物產(chǎn)品的 方法。
【背景技術(shù)】
[0002] 電輻射烤架是本領(lǐng)域已知的。EP1444939例如描述了能夠有效利用加熱單元的熱 能加熱食物的烹飪裝置，該烹飪裝置包括如下櫥柜，該櫥柜在其頂表面處開(kāi)口以提供在其 之上放置要被烹飪的食物的開(kāi)口?？炯軉卧挥跈还竦拈_(kāi)口中，以便支撐開(kāi)口之上的食物。 加熱單元被提供在櫥柜中，使得加熱單元的前表面面對(duì)烤架單元以向烤架單元輻射熱能。 多個(gè)反射構(gòu)件被提供在加熱單元的后表面周?chē)念A(yù)定位置處，并且被安裝為與彼此分開(kāi)預(yù) 定的間隙以在反射構(gòu)件之間提供空氣層。除了由于被提供在反射構(gòu)件之間的空氣層而防止 熱量從加熱單元被傳輸?shù)郊訜釂卧暮蟛恐?，烹飪裝置的構(gòu)造允許從加熱單元的后表面 輻射的遠(yuǎn)紅外射線被反射到加熱單元的前方。根據(jù)EP1444939,從加熱單元生成的大部分熱 能可以被用于烹飪食物。
[0003] FR2912048描述了氣體烤架類(lèi)型的烹飪用具。該用具包括具有輻射表面的兩個(gè)輻 射氣體燃燒器，紅外（IR)輻射通過(guò)該輻射表面被輻射到烹飪柵格，但是還被輻射到安裝在 輻射燃燒器之下的框架中的烹飪托盤(pán)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)的劣勢(shì)可能包括如下事實(shí)，即食物產(chǎn)品可能容易燃燒。其它劣勢(shì)可 能包括電能的低效率使用。現(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)還可能遭遇脂肪和油滴在承滴托盤(pán)中的問(wèn)題，當(dāng) 脂肪或者油變成碳化產(chǎn)物時(shí)這可能導(dǎo)致弄臟托盤(pán)。包括具有水的承滴托盤(pán)的系統(tǒng)可能導(dǎo)致 用戶難以操作?，F(xiàn)有技術(shù)系統(tǒng)還可能因?yàn)橛偷倪@一碳化而導(dǎo)致不期望的煙霧產(chǎn)生。
[0005] 因此，本發(fā)明的方面是提供備選輻射烤架單元(本文中還指示為"烤架"或者"無(wú)煙 烤架"或者"裝置"），其優(yōu)選地進(jìn)一步至少部分地避免上述缺點(diǎn)中的一個(gè)或者多個(gè)缺點(diǎn)。
[0006] 本發(fā)明特別地涉及輻射烤架，輻射烤架使用與反射器組合的紅外加熱器以將熱量 導(dǎo)向食物?？炯芫哂惺澄镏螁卧?諸如烤架柵格），其具有將例如肉類(lèi)(或者蔬菜、魚(yú)等)保 持在輻射指向的區(qū)域中或者附近的功能。
[0007] 本發(fā)明特別地涉及包括如下內(nèi)容的輻射烤架單元：（i)食物支撐單元，諸如烤架柵 格(本文中還指示為"柵格"）；以及（ii)(電）輻射單元，輻射單元特別地包括承載（電）IR輻 射加熱器的反射器，其中輻射單元被配置為在食物支撐單元的方向上提供IR輻射?？蛇x地， 輻射烤架單元進(jìn)一步包括(iii)輻射烤架單元腔，其被配置為承載油滴托盤(pán)(本文中還指示 為"托盤(pán)"）。
[0008] 在實(shí)施例中，食物支撐單元包括具有桿的烤架柵格，該烤架柵格包括食物支撐側(cè) 和輻射側(cè)。在又一實(shí)施例中，食物支撐單元包括從（由）烤叉、烤扦、夾鉗、以及鉤子(組成）的 組中選擇的一個(gè)或者多個(gè)(元件）。特別地，在本發(fā)明中將描述烤架柵格，因?yàn)獒槍?duì)這一烤架 單元特別設(shè)計(jì)了一些出人意料地有利的參數(shù)。
[0009] 因此，在另一實(shí)施例中，食物支撐單元可以是輻射烤架單元的集成部分(諸如在烤 叉的情形下）。在又一實(shí)施例中，輻射烤架單元被配置為支撐食物支撐單元(諸如在烤架柵 格的情形下）。在其中食物支撐單元是不與烤架單元集成或者暫時(shí)作為烤架單元的一部分 的單元的實(shí)施例中，食物支撐單元可以在輻射烤架單元內(nèi)可旋轉(zhuǎn)(諸如在烤叉的情形下）。 在又一實(shí)施例中，食物支撐單元是如下單元，其不與烤架單元集成或者暫時(shí)作為烤架單元 的一部分。因此，在另一方面中，本發(fā)明還提供輻射烤架單元和食物支撐單元的設(shè)置，以及 使用這種設(shè)置烹飪食物產(chǎn)品的方法。
[0010] 在本文中，術(shù)語(yǔ)"食物產(chǎn)品"可以例如指代（一塊）肉、（一塊)魚(yú)、（一塊)水果、（一 塊)蔬菜等。此外，術(shù)語(yǔ)"食物產(chǎn)品"還可以涉及多個(gè)食物產(chǎn)品。
[0011] 由于燃燒的脂肪(或者其它食物垃圾材料)產(chǎn)生煙霧，期望防止收集從食物滴落的 脂肪的承滴托盤(pán)經(jīng)由直接或者間接輻射而變熱?？梢砸匀缦路绞綐?gòu)建反射器，使得其將到 達(dá)承滴托盤(pán)的來(lái)自加熱器的直接輻射的量最小化(見(jiàn)別處）。然而，還有來(lái)自系統(tǒng)中的加熱 的部分(例如玻璃板;見(jiàn)別處）的間接輻射。出于這一原因，承滴托盤(pán)仍然可以逐漸加熱，無(wú) 論反射器設(shè)計(jì)得多好。承滴托盤(pán)可以由高反射性材料制成，以便將變換為熱量的輻射的量 最小化，但是對(duì)承滴托盤(pán)的操作和清潔將使得這一反射率隨時(shí)間降低。此外，脂肪本身（其 在承滴托盤(pán)的底部上形成層)吸收輻射能量，也使承滴托盤(pán)加熱。
[0012] 在本文中，本發(fā)明提供了特別設(shè)計(jì)的承滴托盤(pán)，該承滴托盤(pán)可以被配置為排去脂 肪以將承滴托盤(pán)中的脂肪過(guò)熱并且引起煙霧的風(fēng)險(xiǎn)最小化。
[0013] 特別地，其上落有脂肪的表面(承滴托盤(pán)面)可以具有傾斜表面，使得脂肪開(kāi)始流 到表面處于其最低點(diǎn)的邊緣。當(dāng)將用于收集所述脂肪和/或油的儲(chǔ)存器定位在烤架的側(cè)面 上，特別是在可以被保護(hù)免受輻射的兩個(gè)短側(cè)面上時(shí)，顯現(xiàn)為會(huì)獲得好的結(jié)果。
[0014] 在將富脂肪食物(諸如漢堡）長(zhǎng)時(shí)間燒烤之后，很多脂肪可以收集在這些邊緣上， 使得脂肪水平將上升并且再次散布到整個(gè)表面之上。
[0015]因此，在一個(gè)方面中，本發(fā)明提供了包括如下內(nèi)容的輻射烤架單元：（i )食物支撐 單元；以及(ii)輻射單元，特別地包括承載電IR輻射加熱器的反射器，其中輻射單元被配置 為在食物支撐單元的方向上提供IR輻射，其中輻射烤架單元包括所述承滴托盤(pán)，其中承滴 托盤(pán)特別地被配置在輻射烤架單元腔中在來(lái)自輻射加熱器的直接IR輻射的視線之外，其中 承滴托盤(pán)包括承滴托盤(pán)面和承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器(本文中還指示為"儲(chǔ)存器"），承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器 被配置在承滴托盤(pán)的邊緣處并且被配置為(暫時(shí))存儲(chǔ)包括液體的脂質(zhì)，并且其中承滴托盤(pán) 面包括被配置為將包括流體的脂質(zhì)從承滴托盤(pán)面引導(dǎo)到承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器的收集裝置。甚至 更特別地，本發(fā)明提供如下輻射烤架單元，其包括：（i)具有桿的烤架柵格，烤架柵格包括食 物支撐側(cè)和輻射側(cè)；（ii)輻射單元，特別地包括承載(電）IR輻射加熱器的反射器，其中輻射 單元被配置為在烤架柵格的輻射側(cè)的方向上提供IR輻射；以及（iii)被配置為承載承滴托 盤(pán)的輻射烤架單元腔，其中輻射烤架單元包括所述承滴托盤(pán)，其中承滴托盤(pán)特別地被配置 在輻射烤架單元腔中在來(lái)自輻射加熱器的直接IR輻射的視線之外，其中承滴托盤(pán)包括承滴 托盤(pán)面和承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器，承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器被配置在承滴托盤(pán)的邊緣處并且被配置為（暫 時(shí))存儲(chǔ)包括液體的脂質(zhì)，并且其中承滴托盤(pán)面包括被配置為將包括流體的脂質(zhì)從承滴托 盤(pán)面引導(dǎo)到承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器的收集裝置。
[0016]使用這種承滴托盤(pán)，脂質(zhì)液滴被收集在承滴托盤(pán)面處，脂質(zhì)液滴接著迀移到承滴 托盤(pán)儲(chǔ)存器。特別地收集裝置便于這一迀移或者排走。例如，承滴托盤(pán)面可以具有V形或者 A形，特別地V形。此外，承滴托盤(pán)面可以包括曲率，以便于將液體脂質(zhì)(和其它材料)迀移到 儲(chǔ)存器。有若干原因選擇如下配置，其便于將脂肪和其它液體排到中部(和承滴托盤(pán)的（多 個(gè))儲(chǔ)存器，特別是承滴托盤(pán)的（多個(gè))邊緣處的（多個(gè))儲(chǔ)存器）。除其它外，承滴托盤(pán)中最熱 的地點(diǎn)可能是靠近輻射單元的區(qū)域(特別地由于間接輻射）。在承滴托盤(pán)中，這些地點(diǎn)是最 應(yīng)該讓脂肪/液體從該區(qū)域流走，以到達(dá)甚至沒(méi)有間接輻射的位置，因?yàn)閮?chǔ)存器可以在設(shè)備 的腔邊緣之后和/或之下。此外，測(cè)試示出，油/脂肪層可以吸收多得多的輻射并且將其轉(zhuǎn)換 為熱能。如果脂肪在落入承滴托盤(pán)中之后流走，則該層將不停留在那里或者否則非常薄。更 少的輻射將被轉(zhuǎn)變?yōu)闊崮堋４送?，?dāng)液滴落入液面時(shí)，有機(jī)會(huì)飛濺到非常熱的反射器(玻璃） 并且這立即產(chǎn)生煙霧和噪音。承滴托盤(pán)在熱的反射器(玻璃)附近可以是最淺的。
[0017]注意，特別地在本文中，承滴托盤(pán)不接收來(lái)自（多個(gè))輻射單元的直接IR輻射。顯現(xiàn) 為就效率、煙霧產(chǎn)生而言，并且就清潔方面而言，應(yīng)該防止這一點(diǎn)。對(duì)于用戶，這些效果也是 有益的，因?yàn)榍鍧嵖梢曰ㄙM(fèi)更少的時(shí)間并且可以增加烤架單元的壽命。因?yàn)槌械瓮斜P(pán)可以 保持相對(duì)冷卻，可以基本上沒(méi)有煙霧產(chǎn)生。
[0018] 在特定實(shí)施例中，承滴托盤(pán)面可以包括與承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器流體連接的中心收集通 道。如上文所指示那樣，特別地承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器具有在大約50ml至350ml (諸如100ml至 250ml，比如至少150ml)范圍內(nèi)的用于包括液體的脂質(zhì)(或者任何其它液體)的存儲(chǔ)容積。如 上文所指示那樣，術(shù)語(yǔ)"承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器"可以指代多個(gè)儲(chǔ)存器（一共具有這樣的存儲(chǔ)容 積）。在又一實(shí)施例中，另見(jiàn)上文，承滴托盤(pán)面包括被配置為將包括流體的脂質(zhì)從承滴托盤(pán) 面引導(dǎo)到承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器的曲率。在另一特定實(shí)施例中，承滴托盤(pán)面具有馬鞍狀形狀，并且 其中承滴托盤(pán)包括在承滴托盤(pán)的邊緣處的兩個(gè)或者更多承滴托盤(pán)儲(chǔ)存器。
[0019] 承滴托盤(pán)可以例如經(jīng)由諸如（對(duì)例如耐熱塑料的）注入成型或者對(duì)金屬（不銹）鋼 或者鋁的深拉之類(lèi)的處理制成，其可能具有洗碗機(jī)耐受性以及容易清潔的表面，比如鉻化 (被提供有鉻層)或者搪瓷表面。此外，承滴托盤(pán)可以（因此)基本上由像鋼、鋁、或者可選地 耐熱塑料那樣的材料(特別地不銹鋼或者鋁)組成。
[0020] 如上文所指示那樣，承滴托盤(pán)可以被配置為存儲(chǔ)包括液體的脂質(zhì)。如本領(lǐng)域技術(shù) 人員將清楚的，這可以是暫時(shí)存儲(chǔ)，因?yàn)槔缭谑褂弥?，可以清潔承滴托盤(pán)。此外，詞組 "被配置為存儲(chǔ)包括液體的脂質(zhì)"可以特別地指示承滴托盤(pán)能夠保持或者存儲(chǔ)液體(和/或 固體或者固化的)材料。這應(yīng)該不一定(僅)包含包括液體的脂質(zhì)。
[0021] 特別地，提供了如在本文中限定的輻射烤架單元，其中從輻射單元逸出的所有直 接IR輻射都被食物支撐單元(特別地烤架柵格)的輻射側(cè)接收。
[0022] 普通(電）烤架使用熱柵格或者熱板燒烤食物。這種柵格或者板的溫度可以容易地 達(dá)到200攝氏度至250攝氏度范圍內(nèi)的溫度。其劣勢(shì)是食物可能容易烤糊(這是不健康的）， 并且從食物滴落的脂肪將燃燒并且產(chǎn)生煙霧，這是不期望的，特別當(dāng)在室內(nèi)燒烤時(shí)。
[0023] 使用如本文中建議的輻射烤架，目的是以最高效率將能量從加熱器轉(zhuǎn)移到肉類(lèi)或 者其它類(lèi)型的食物。另一目標(biāo)是防止承滴托盤(pán)經(jīng)由直接或者間接輻射熱量而變熱。這對(duì)于 防止煙霧產(chǎn)生是重要的:被收集在承滴托盤(pán)中的脂肪和油可以不會(huì)變得過(guò)熱以防止沸騰和 發(fā)煙。本發(fā)明提供了除其它外的燒烤柵格設(shè)計(jì)，其可以防止煙霧產(chǎn)生、可以產(chǎn)生最佳效率、 以及可以使得烤架更容易清潔。
[0024] 本文中，術(shù)語(yǔ)"烤架柵格"、或者"燒烤柵格"或者"柵格"特別地指代桿的1D陣列。桿 還可以被指示為"棒"。這些桿可以特別地被平行設(shè)置。桿可以基本上具有圓形或者橢圓形 橫截面的實(shí)質(zhì)部分(諸如其長(zhǎng)度的至少90% )。
[0025] 本發(fā)明中可以單獨(dú)使用或者可以被組合以獲得最好效果的一些具體元件可以包 括：（a)相對(duì)薄的柵格桿，柵格桿之間的相對(duì)大的距離或者區(qū)域；（b)油和脂肪引導(dǎo)；以及(c) 最佳的柵格桿方向。在本發(fā)明的實(shí)施例中，柵格特別地以如下方式被實(shí)施，即其盡可能少地 反射輻射能量并且其盡可能少地阻擋輻射能量。其還可以特別地將油滴和脂肪滴引導(dǎo)到當(dāng) 滴下時(shí)容易清潔的位置。
[0026] 因此，在一個(gè)方面中，本發(fā)明提供如下輻射烤架單元，其包括：（i)食物支撐單元； 以及（ii)輻射單元，特別地包括承載電IR輻射加熱器的反射器，其中輻射單元被配置為在 食物支撐單元的方向上(特別地在烤架柵格的方向上)提供IR輻射，其中食物支撐單元包括 具有桿的所述烤架柵格，其中特別地桿具有桿直徑(DB)和桿距離(PB)，其中桿直徑(DB)從 1mm至4mm的范圍內(nèi)選擇，并且其中特別地桿距離(PB)和桿直徑(DB)之間的比值PB/DB從2至 10的范圍內(nèi)選擇，諸如2至8。本文中，"柵格"特別地指代桿的1D陣列，而不指代桿的2D陣列， 桿的2D陣列具有例如垂直于彼此設(shè)置的桿的兩個(gè)集。
[0027] 特別地，本發(fā)明提供如下輻射烤架單元，其包括：（i)具有桿(本文中還指示為"柵 格桿"）的烤架柵格，烤架柵格包括食物支撐側(cè)和輻射側(cè)；（i i)輻射單元，特別地包括承載 (電）IR (紅外)輻射加熱器的反射器，其中輻射單元被配置為在烤架柵格的輻射側(cè)的方向上 提供IR輻射；以及（iii)輻射烤架單元腔，被配置為承載承滴托盤(pán)，其中特別地桿具有桿直 徑(DB)和桿距離(PB)，其中桿直徑(DB)從1mm至4mm的范圍內(nèi)選擇，并且其中特別地桿距離 (PB)和桿直徑(DB)之間的比值PB/DB從2至10的范圍內(nèi)選擇，諸如2至8。桿之間的距離在本 文中為桿中心之間的距離。因此，桿之間的距離還可以被指示為節(jié)距。此外，通常節(jié)距在烤 架柵格上是均勻的，并且同樣地，桿直徑在烤架柵格上是均勻的。
[0028] 顯現(xiàn)為使用這種條件，可以以高效率的方式獲得良好烹飪的食物產(chǎn)品，然而使用 其它條件，效率和/或食物產(chǎn)品的質(zhì)量可能