專利名稱：雙面記錄介質(zhì)的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及能夠在其兩側(cè)進(jìn)行記錄的雙面記錄介質(zhì)。
背景技術(shù)：
記錄介質(zhì)，尤其是用于噴墨記錄中的那些，通常包括具有多孔結(jié)構(gòu)的墨接受層，在該墨接受層中用粘結(jié)劑保持作為顏料的二氧化硅或水合氧化鋁。雙面記錄能力是對(duì)這樣的記錄介質(zhì)要求的特性之一。響應(yīng)這樣的要求，日本專利公開(kāi)No. 9-286166(專利文獻(xiàn)1)公開(kāi)噴墨記錄介質(zhì)(雙面記錄介質(zhì))，該噴墨記錄介質(zhì)包括在基材的兩個(gè)表面上設(shè)置的墨接受層或涂層。此外，日本專利公開(kāi)No. 2001-80208(專利文獻(xiàn)2)公開(kāi)了噴墨記錄介質(zhì)(雙面記錄介質(zhì))，該噴墨記錄介質(zhì)在具有特定不透度的基材的兩表面上包括含有陽(yáng)離子化合物的墨吸收層。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明提供記錄介質(zhì)，其包括基材、在該基材的第一表面上設(shè)置的兩個(gè)以上的墨接受層和在該基材的第二表面上設(shè)置的兩個(gè)以上的墨接受層，該第二表面與該第一表面位于相反側(cè)。該墨接受層均含有顏料和粘結(jié)劑。滿足關(guān)系(I)A1 > A2, (2)Bi>B2* (3) IA1-B1I彡1.0，其中A1為該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?單位為 nm) ,A2為該第一表面?zhèn)鹊呐c該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置(單位為MihB1為該第二表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?單位為nm)，和化為該第二表面?zhèn)鹊呐c該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置(單位為nm)。該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐雍驮摰诙砻鎮(zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥拿恳粋€(gè)的JIS B 0601中規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 50 μ m以上。由以下參照附圖對(duì)示例性實(shí)施方案的說(shuō)明，本發(fā)明進(jìn)一步的特征將變得清楚。


圖是表示根據(jù)本發(fā)明實(shí)施方案的記錄介質(zhì)的實(shí)例的橫截面圖。
具體實(shí)施例方式例如，將通過(guò)噴墨記錄方法在其兩表面上進(jìn)行了記錄的記錄介質(zhì)用于相冊(cè)的情況下，記錄介質(zhì)上設(shè)置的墨接受層在記錄介質(zhì)之間彼此重疊(彼此接觸)。在這種情況下，如果用于印刷的墨中含有的水分等(水或水溶性溶劑)殘留在墨接受層中，在疊置的墨接受層之間可能產(chǎn)生水分等的移動(dòng)。在已產(chǎn)生了水分的移動(dòng)的部分中，在一些情況下，在圖像中可能產(chǎn)生轉(zhuǎn)移不足(imdertrapping)(墨部分地變淡并且產(chǎn)生白色外觀的現(xiàn)象)。專利文獻(xiàn)1中記載的記錄介質(zhì)中，記錄介質(zhì)的前側(cè)和后側(cè)具有不同的墨吸收能力。因此，墨接受層彼此疊置時(shí)，由于各個(gè)墨接受層之間吸收能力的差異，水分等的移動(dòng)顯著產(chǎn)生。
專利文獻(xiàn)2中記載的記錄介質(zhì)中，形成記錄介質(zhì)的前側(cè)和背側(cè)的墨吸收層以具有基本上相同的結(jié)構(gòu)。因此，使在前側(cè)和背側(cè)的墨吸收層附著的墨滴之間的點(diǎn)直徑的差異減小，并且使前側(cè)和背側(cè)之間的圖像再現(xiàn)性的差異減小。但是，沒(méi)有考慮將墨接受層彼此疊置時(shí)水分等的移動(dòng)。將墨接受層彼此疊置時(shí)，在一些情況下，在圖像中可產(chǎn)生轉(zhuǎn)移不足。本發(fā)明提供雙面記錄介質(zhì)，其中將記錄介質(zhì)彼此疊置時(shí)圖像中轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生得到抑制。現(xiàn)在對(duì)本發(fā)明詳細(xì)說(shuō)明。根據(jù)本發(fā)明的記錄介質(zhì)包括基材、在該基材的第一表面上設(shè)置的兩個(gè)以上的墨接受層和在該基材的第二表面上設(shè)置的兩個(gè)以上的墨接受層，該第二表面與該第一表面位于相反側(cè)。將本發(fā)明的記錄介質(zhì)的實(shí)例示于圖中。在基材1的第一表面上設(shè)置最外墨接受層 2和與該最外墨接受層2相鄰的墨接受層3。在該基材的第二表面上設(shè)置最外墨接受層4 和與該最外墨接受層4相鄰的墨接受層5，該第二表面與該第一表面相反。即，該記錄介質(zhì)具有在該基材的前表面和背表面設(shè)置的合計(jì)四個(gè)以上的墨接受層，并且這些墨接受層均含有顏料和粘結(jié)劑。本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，滿足關(guān)系(1)~>4和(2) B1 > B2，其中A1為基材的第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?單位為nm)，A2為該第一表面?zhèn)鹊呐c該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置(單位為nm)，B1*該第二表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?單位為nm)，和化為該第二表面?zhèn)鹊呐c該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置(單位為nm)。本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，在基材的每一個(gè)表面(第一和第二表面)上設(shè)置兩個(gè)以上的墨接受層，并且最外墨接受層的孔半徑分布的峰位置大于與該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置。結(jié)果，將墨施涂于最外墨接受層時(shí)，通過(guò)毛細(xì)管作用將墨中的水分等吸引到與最外墨接受層相鄰的墨接受層，因此不易殘留在最外墨接受層中。在最外墨接受層中存在低含量的水分等，即使將墨接受層彼此疊置時(shí)，在墨接受層之間移動(dòng)的水分等的量減少，因此能夠抑制圖像中轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生?，F(xiàn)在考慮在最外墨接受層和與該最外墨接受層相鄰的墨接受層之間不存在孔半徑分布的峰位置的差異或者與最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置大于該最外墨接受層的峰位置的情況。在這種情況下，最外墨接受層具有的孔的毛細(xì)管作用等于或小于與該最外墨接受層相鄰的墨接受層具有的孔的毛細(xì)管作用。因此，記錄后，最外墨接受層中存在的水分等不易移動(dòng)到與最外墨接受層相鄰的墨接受層(下層)，并且水分等容易殘留在最外墨接受層中。因此，將墨接受層彼此疊置時(shí)，在圖像中可能產(chǎn)生轉(zhuǎn)移不足。此外，在本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，在不損害上述效果的程度上，可將液體施涂到最外層上或者可將另一層設(shè)置在最外層上。A1,A2^B1和化必須滿足上述關(guān)系(1)和⑵。為了更令人滿意地抑制轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生，可滿足關(guān)系A(chǔ)1-A2 > 2. 0和B1-B2 > 2.0ο此外，可滿足關(guān)系A(chǔ)1-A2 > 4. 0和B1-B2 > 4. 0。通過(guò)利用上述的層結(jié)構(gòu)，水分等的大部分從最外墨接受層移動(dòng)到與該最外墨接受層相鄰并且直接位于下方的墨接受層。但是，只是這樣將不會(huì)使全部水分等移動(dòng)，并且推測(cè)少量的水分等將殘留在最外墨接受層中。因此，本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，A1和B1進(jìn)一步滿足關(guān)系⑶ IA1-B1I ≤1.0。通過(guò)設(shè)定A1和B1以滿足關(guān)系(3)，將墨接受層彼此疊置時(shí)，結(jié)合根據(jù)關(guān)系(1)和 (2)的最外層中水分等的減少，能夠使最外墨接受層中殘留的水分等的移動(dòng)減少并且能夠抑制轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生?？蓾M足關(guān)系IA1-B1I彡0.5。當(dāng)IA1-B1I超過(guò)ι. ο時(shí)，疊置的墨接受層之間的孔半徑之差增加，并且墨接受層之間的毛細(xì)管作用之差傾向于增加。因此，在一些情況下，最外墨接受層中殘留的水分等可能向孔半徑分布的峰位置小的墨接受層移動(dòng)，導(dǎo)致轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生。能夠通過(guò)任何已知的方法控制各層的孔半徑分布的峰位置，例如通過(guò)適當(dāng)選擇用于各層的顏料，或者通過(guò)調(diào)節(jié)各層的顏料與粘結(jié)劑之間的比率。在本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐雍偷诙砻鎮(zhèn)鹊淖钔饽邮軐痈髯缘腏IS B 0601中規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.50 μ m以上。當(dāng)該算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 50 μ m以上時(shí)，在墨接受層的表面上存在凸凹，因此即使記錄后將墨接受層彼此疊置，能夠使墨接受層之間的接觸面積減小。因此，與上述的關(guān)系(1)、(2)和(3)相結(jié)合， 墨中的水分等不易在墨接受層之間移動(dòng)，因此能夠抑制轉(zhuǎn)移不足。算術(shù)平均粗糙度Ra可為 0. 70 μ m以上。只要算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 50 μ m以上，就能夠獲得本發(fā)明的效果而不需設(shè)定上限。但是，從記錄后的圖像密度(image density)和圖像質(zhì)量的觀點(diǎn)出發(fā)，算術(shù)平均粗糙度Ra可為2. OO μ m以下?？赏ㄟ^(guò)任何已知的方法調(diào)節(jié)墨接受層的算術(shù)平均粗糙度。該方法的實(shí)例包括向墨接受層添加數(shù)均顆粒直徑為1-20 μ m的無(wú)機(jī)或有機(jī)顆粒的方法、在墨接受層的表面上雕刻微細(xì)的凸凹的方法和將墨接受層設(shè)置在具有規(guī)則或不規(guī)則形狀的凸凹的基材上的方法。在將墨接受層設(shè)置在具有凸凹的基材上的方法中，預(yù)先將基材的表面壓花有規(guī)則或不規(guī)則形狀，并且通過(guò)在其上設(shè)置墨接受層，使墨接受層的表面具有與基材的凸凹相同形狀的凸凹。 在墨接受層由硬的多孔膜組成的情況下可使用這種方法。能夠用于這種方法的基材是其兩個(gè)表面用聚烯烴涂布的紙基材。在預(yù)先使聚烯烴樹(shù)脂的表面壓花有凸凹的典型方法中，用熔融的聚烯烴樹(shù)脂擠出涂布基材后，將該基材與壓花輥壓接以進(jìn)行用微細(xì)凸凹使基材凹凸化(texturing)。進(jìn)行凹凸化的方法的實(shí)例包括對(duì)通過(guò)熔融擠出得到的樹(shù)脂涂布紙?jiān)谑覝馗浇M(jìn)行壓花壓延處理的方法和使用其表面雕刻有圖案的冷卻輥在冷卻的同時(shí)形成凸凹的方法。在后者的方法中，能夠以較弱的壓力并且更精確和均勻地進(jìn)行壓花。在通過(guò)將用于墨接受層的涂布液施涂于其表面預(yù)先設(shè)置有凸凹的基材而得到記錄介質(zhì)的情況下，必須將基材的表面粗糙度設(shè)定得高于墨接受層的表面上的凸凹的高度。因此，JIS B 0601中規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra優(yōu)選為0. 70 μ m以上，并且更優(yōu)選為0. 90 μ m以上。此外，本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，當(dāng)為了記錄而施涂的墨的著色材料是染料時(shí)，能夠更令人滿意地抑制轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生。< 基材 >作為本發(fā)明中使用的基材，紙是適合的。其實(shí)例包括膜、鑄涂紙、鋇地紙和樹(shù)脂涂布紙(用樹(shù)脂例如聚烯烴將其兩表面涂布的樹(shù)脂涂布紙)。膜的實(shí)例包括透明熱塑性樹(shù)脂膜，例如聚乙烯、聚丙烯、聚酯、聚乳酸、聚苯乙烯、聚醋酸酯、聚氯乙烯、醋酸纖維素、聚對(duì)苯二甲酸乙二醇酯、聚甲基丙烯酸甲酯和聚碳酸酯膜。能夠使用的紙的其他實(shí)例包括適度施膠紙，例如吸液紙或涂布紙，和由通過(guò)用無(wú)機(jī)物填充或微細(xì)發(fā)泡而不透明化的膜組成的片狀材料(合成紙等)。也可使用由玻璃、金屬等組成的片材。此外，為了改善基材與墨接受層之間的粘合強(qiáng)度，可對(duì)基材的表面進(jìn)行電暈放電處理或各種類(lèi)型的底涂處理。上述基材中，考慮到設(shè)置有墨接受層的記錄介質(zhì)的光澤性和在表面上形成凸/凹形狀的容易性，希望使用樹(shù)脂涂布紙。<墨接受層>本發(fā)明的記錄介質(zhì)在基材的第一和第二表面上均包括兩個(gè)以上的墨接受層。該墨接受層均含有顏料和粘結(jié)劑。(顏料)作為顏料，可使用例如下述的無(wú)機(jī)顏料和有機(jī)顏料。無(wú)機(jī)顏料的實(shí)例包括沉淀碳酸鈣、重質(zhì)碳酸鈣、碳酸鎂、高嶺土、硅酸鋁、硅藻土、硅酸鈣、硅酸鎂、合成無(wú)定形二氧化硅、 膠體二氧化硅、氧化鋁、水合氧化鋁和氫氧化鎂。有機(jī)顏料的實(shí)例包括苯乙烯系塑料顏料、 丙烯酸系塑料顏料、聚乙烯顆粒、微囊顆粒、脲醛樹(shù)脂顆粒和蜜胺樹(shù)脂顆粒。這些無(wú)機(jī)顏料和有機(jī)顏料可單獨(dú)使用或者根據(jù)需要將兩種以上組合使用。在上述顏料中，從能夠令人滿意地抑制圖像中轉(zhuǎn)移不足的發(fā)生的觀點(diǎn)出發(fā)，希望使用水合氧化鋁。作為水合氧化鋁，例如，可適合使用由以下通式(X)表示的物質(zhì)。Al2CVn(OH)a^mH2O* · · · (X)(其中η表示0、1、2和3的任一個(gè)，和m表示0_10的范圍內(nèi)的值，優(yōu)選地，0_5的范圍內(nèi)的值，m和η不同時(shí)表示0 ；多數(shù)情況下HiH2O表示可解吸并且不參與晶格形成的水相， 因此m可為整數(shù)或非整數(shù)；和加熱這種材料時(shí)m可達(dá)到0)。取決于熱處理溫度，水合氧化鋁的晶體結(jié)構(gòu)已知為無(wú)定形、三水鋁石型、或勃姆石型氫氧化鋁或水合氧化鋁。可使用任何晶體結(jié)構(gòu)。特別優(yōu)選作為X-射線衍射分析的結(jié)果顯示勃姆石結(jié)構(gòu)或無(wú)定形的水合氧化鋁。此外，優(yōu)選選擇水合氧化鋁以致將水合氧化鋁形成到墨接受層中時(shí)，各墨接受層的孔半徑分布的峰位置為7. 0-13. Onm。當(dāng)墨接受層的孔半徑分布的峰在該范圍內(nèi)時(shí)，能夠顯示優(yōu)異的墨吸收性和顯色性。當(dāng)墨接受層的孔半徑分布的峰位置小于7. Onm時(shí)，由于缺乏墨吸收性，即使調(diào)節(jié)粘結(jié)劑相對(duì)于水合氧化鋁的量，有時(shí)不能獲得充分的墨吸收性。特別地，當(dāng)與最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置小于7. Onm時(shí)，墨吸收性傾向于變得不足。另一方面，當(dāng)墨接受層的孔半徑分布的峰位置大于13. Onm時(shí)，墨接受層的混濁 (haze)增加，并且在一些情況下，可能不能獲得良好的顯色性。特別地，當(dāng)最外墨接受層的孔半徑分布的峰位置大于13. Onm時(shí)，記錄后墨中顯色組分存在的層的混濁增加，并且存在不易獲得良好的顯色性的傾向?？紤]到墨吸收性，各墨接受層優(yōu)選具有0. 50ml/g以上的孔容積。此外，優(yōu)選地，墨接受層基本上不具有孔半徑25. Onm以上的孔。當(dāng)存在孔半徑25. Onm以上的孔時(shí)，墨接受層的混濁增加，并且在一些情況下，可能不能獲得良好的顯色性。應(yīng)指出的是，由通過(guò)對(duì)記錄介質(zhì)進(jìn)行氮吸附-脫吸法而測(cè)定的氮?dú)獾奈?脫吸等溫線，使用Barrett-Joyner-Halenda (BJH)法得到本發(fā)明中的孔半徑分布的峰位置和孔容積。使用氮吸附-脫吸法對(duì)記錄介質(zhì)進(jìn)行測(cè)定時(shí)，也對(duì)墨接受層以外的部分(即，基材、樹(shù)脂涂布層等)進(jìn)行測(cè)定。但是，墨接受層以外的部分基本上不具有通常能夠通過(guò)氮吸附-脫吸法測(cè)定的I-IOOnm范圍內(nèi)的孔。因此，通過(guò)氮吸附-脫吸法對(duì)整個(gè)記錄介質(zhì)的測(cè)定基本上與墨接受層的平均孔半徑的測(cè)定相同。由以下事實(shí)顯而易見(jiàn)，例如，當(dāng)通過(guò)氮吸附-脫吸法測(cè)定主要由紙漿組成的基材或用樹(shù)脂將其兩表面涂布的樹(shù)脂涂布紙的孔分布時(shí)，基本上沒(méi)有觀察到I-IOOnm范圍內(nèi)的孔。本發(fā)明的記錄介質(zhì)中，在第一表面?zhèn)群偷诙砻鎮(zhèn)染O(shè)置兩個(gè)以上的墨接受層。 為了測(cè)定各層的孔半徑分布的峰位置和孔容積，在基材上形成各層并且通過(guò)氮吸附-脫吸法進(jìn)行測(cè)定。在各層均具有兩個(gè)以上孔半徑分布的峰位置的情況下，將各層中兩個(gè)以上峰位置中最高峰位置值定義為Ap ApB1或B2，并且必須滿足關(guān)系(1)、⑵和(3)。在墨接受層的形成過(guò)程中，為了獲得上述的水合氧化鋁的孔半徑，使用具有優(yōu)選100-200m2/g的通過(guò)BET法測(cè)定的BET比表面積的水合氧化鋁。水合氧化鋁的BET比表面積更優(yōu)選為125m2/g-175m2/g。BET法是用于通過(guò)使用氣相吸附法確定粉末的表面積的方法之一，并且是由吸附等溫線確定Ig樣品的總表面積(即，比表面積)的方法。在 BET法中，通常將氮?dú)庥米魑綒怏w，并且在最常用的方法中，根據(jù)被吸附氣體的壓力或體積的變化來(lái)確定吸附量。表示多層分子吸附的等溫線的最著名的等式是稱為BET式的 Brunauer-Emmett-Teller式，其廣泛用于比表面積的確定。BET法中，基于BET式確定吸附量，并且通過(guò)用由一個(gè)吸附分子在表面上占據(jù)的面積乘以該吸附量，得到比表面積。BET法中，在氮吸附-脫吸法的測(cè)定中，測(cè)定作為相對(duì)壓力的函數(shù)的幾點(diǎn)吸附量，并且通過(guò)最小二乘法來(lái)計(jì)算圖形的斜率和截距，由此找到比表面積。為了增加測(cè)定的精度，測(cè)定優(yōu)選至少五點(diǎn)并且更優(yōu)選十點(diǎn)以上作為相對(duì)壓力的函數(shù)的吸附量。優(yōu)選地，水合氧化鋁具有平板狀，其中平均縱橫比為3. 0-10并且平板表面的長(zhǎng)/ 寬比為0. 60-1. 0。應(yīng)指出的是，可通過(guò)日本專利公開(kāi)No. 5-16015中記載的方法得到縱橫比。即，將縱橫比定義為顆粒的直徑與厚度之比。在此，術(shù)語(yǔ)“直徑”意指具有與通過(guò)顯微鏡或電子顯微鏡觀察水合氧化鋁時(shí)顆粒的投影面積相等面積的圓的直徑(圓當(dāng)量直徑)。平板表面的長(zhǎng)/寬比意指以與縱橫比的情況下相同的方式通過(guò)顯微鏡觀察顆粒時(shí)平板表面的最小直徑與最大直徑之比。使用具有上述范圍外的縱橫比的水合氧化鋁時(shí)，可能使得到的墨接受層的孔分布的范圍變窄。因此，有時(shí)難以制備具有均勻顆粒直徑的水合氧化鋁。此外，使用具有上述范圍外的長(zhǎng)/寬比的水合氧化鋁時(shí)，使墨接受層的孔直徑分布變窄。已知水合氧化鋁具有纖毛狀或非纖毛狀。根據(jù)本發(fā)明的發(fā)明人的發(fā)現(xiàn)，平板狀水合氧化鋁與纖毛狀水合氧化鋁相比具有較高的分散性。此外，有時(shí)施涂時(shí)使纖毛狀水合氧化鋁與基材的表面平行地取向，并且使得到的孔的尺寸減小，于是使墨接受層的墨吸收性降低。相反，施涂時(shí)平板狀水合氧化鋁具有弱的取向傾向，并且不易影響墨接受層中形成的孔的尺寸或墨吸收性。因此優(yōu)選使用平板狀水合氧化鋁。(粘結(jié)劑)本發(fā)明中使用的粘結(jié)劑的實(shí)例包括淀粉衍生物，例如氧化淀粉、醚化淀粉和磷酸酯化淀粉；纖維素衍生物，例如羧甲基纖維素和羥乙基纖維素；酪蛋白、明膠、大豆蛋白、聚乙烯醇或它們的衍生物；共軛聚合物的膠乳，例如聚乙烯基吡咯烷酮、馬來(lái)酸酐樹(shù)脂、苯乙烯-丁二烯共聚物和甲基丙烯酸甲酯-丁二烯共聚物；丙烯酸系聚合物的膠乳，例如丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯；乙烯基聚合物的膠乳，例如乙烯-醋酸乙烯酯共聚物；通過(guò)將上述各種聚合物中含有官能團(tuán)例如羧基的單體聚合而得到的官能團(tuán)改性聚合物膠乳；通過(guò)使用陽(yáng)離子基團(tuán)將上述各種聚合物陽(yáng)離子化而得到的陽(yáng)離子化聚合物和通過(guò)用陽(yáng)離子表面活性劑將上述各種聚合物的表面陽(yáng)離子化而得到的那些；通過(guò)在陽(yáng)離子聚乙烯醇的存在下將上述各種聚合物聚合以使該聚乙烯醇在該聚合物的表面上分布而得到的聚合物；通過(guò)在陽(yáng)離子膠體顆粒的懸浮液中將上述各種聚合物聚合以使該陽(yáng)離子膠體顆粒在其表面上分布而得到的聚合物；水性粘結(jié)劑，例如熱固性合成樹(shù)脂，例如蜜胺樹(shù)脂和脲醛樹(shù)脂；丙烯酸酯或甲基丙烯酸酯的聚合物或共聚物樹(shù)脂，例如聚甲基丙烯酸甲酯；和合成樹(shù)脂系粘結(jié)劑，例如聚氨酯樹(shù)脂、不飽和聚酯樹(shù)脂、氯乙烯-醋酸乙烯酯共聚物、聚乙烯醇縮丁醛和醇酸樹(shù)脂。這些粘結(jié)劑可單獨(dú)使用或者以其多種的混合物使用。其中，最優(yōu)選將聚乙烯醇用作粘結(jié)劑。特別地，優(yōu)選通過(guò)使聚醋酸乙烯酯水解而得到的通常的聚乙烯醇。作為聚乙烯醇，優(yōu)選使用平均聚合度為1，500以上的那些，并且更優(yōu)選平均聚合度為2，000-5，000的那些。聚乙烯醇的皂化度優(yōu)選為80-100，并且更優(yōu)選為85-100。此外，還可使用改性聚乙烯醇，例如對(duì)其末端進(jìn)行了陽(yáng)離子改性的聚乙烯醇、或具有陰離子基團(tuán)的陰離子改性聚乙烯醇。墨接受層中粘結(jié)劑與顏料的質(zhì)量比(粘結(jié)劑/顏料)優(yōu)選為1/10至10/1，并且更優(yōu)選為1/5至5/1。(其他材料)本發(fā)明中，墨接受層可根據(jù)需要含有下述材料。例如，墨接受層可含有硼酸和硼酸鹽中的至少一種。通過(guò)將硼酸或硼酸鹽添加到墨接受層，能夠防止在墨接受層中產(chǎn)生開(kāi)裂。硼酸的實(shí)例包括原硼酸(H3BO3)、偏硼酸和連二硼酸(hypoboric acid)。硼酸鹽優(yōu)選為上述硼酸的水溶性鹽。硼酸鹽的具體實(shí)例包括下述的硼酸的堿土金屬鹽等堿金屬鹽，例如硼酸的鈉鹽(例如Na2B4O7 · IOH2O和·4Η20)； 硼酸的鉀鹽(例如K2B4O7 · 5Η20和KBO2)；硼酸的銨鹽(例如NH4B4O9 · 3Η20和NH4BO2)；和硼酸的鎂鹽和鈣鹽。在這些硼酸等中，從涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性和抑制開(kāi)裂的發(fā)生的效果的觀點(diǎn)出發(fā)，優(yōu)選使用原硼酸。相對(duì)于上層和下層中的粘結(jié)劑，以硼酸固體含量計(jì)，優(yōu)選以10質(zhì)量％ -50質(zhì)量％范圍內(nèi)的量使用硼酸等。當(dāng)該量超過(guò)上述范圍時(shí)，在一些情況下涂布液的經(jīng)時(shí)穩(wěn)定性可能降低。即，制備墨吸收性記錄介質(zhì)時(shí)，長(zhǎng)期使用涂布液。如果硼酸的量大，可能有時(shí)涂布液的粘度增加并且產(chǎn)生膠凝物。因此必須頻繁更換涂布液并且清潔涂布機(jī)頭， 導(dǎo)致生產(chǎn)率的顯著下降。此外，當(dāng)該量超過(guò)上述范圍時(shí)，可能有時(shí)墨接受層不能具有均勻且良好光澤的表面。即使硼酸等的使用量在上述范圍內(nèi)，取決于制備條件等，可能在墨接受層中產(chǎn)生開(kāi)裂。因此必須選擇適當(dāng)?shù)氖褂昧康姆秶?。墨接受層也可含有?yáng)離子物質(zhì)，例如陽(yáng)離子聚合物作為染料固著劑。陽(yáng)離子聚合物尤其改善品紅染料在墨接受層中的染色性，并且能夠降低在高溫高濕度條件下品紅染料，例如蒽吡啶酮系或喹吖啶酮系染料的遷移。例如，可將下述酸或鹽作為ρΗ調(diào)節(jié)劑添加到用于形成墨接受層的涂布液中甲酸、乙酸、乙醇酸、草酸、丙酸、丙二酸、琥珀酸、己二酸、馬來(lái)酸、蘋(píng)果酸、酒石酸、檸檬酸、苯甲酸、鄰苯二甲酸、間苯二甲酸、對(duì)苯二甲酸、戊二酸、葡萄糖酸、乳酸、天冬氨酸、谷氨酸、庚二酸、辛二酸和甲磺酸；無(wú)機(jī)酸，例如鹽酸、硝酸和磷酸；和這些酸的鹽。為了將水合氧化鋁分散在水中，優(yōu)選使用一元酸。因此，在這些PH調(diào)節(jié)劑中，優(yōu)選使用有機(jī)酸，例如甲酸、乙酸、乙醇酸或甲磺酸；鹽酸；硝酸等。此外，作為用于涂布液的其他添加劑，可使用顏料分散齊U、增稠劑、流動(dòng)性改進(jìn)劑、消泡劑、抑泡劑、表面活性劑、脫模劑、浸透劑、著色顏料和著色染料。此外，也可使用熒光增白劑、紫外線吸收劑、抗氧化劑、防腐劑、防霉劑、防水劑、固化劑、耐候材料等。<墨接受層用涂布液的施涂方法>可使用各種簾式涂布機(jī)、使用擠出系統(tǒng)的涂布機(jī)或使用滑動(dòng)料斗系統(tǒng)的涂布機(jī)中的任何涂布機(jī)，以機(jī)內(nèi)(on-machine)或機(jī)外(off-machine)涂布來(lái)施涂用于形成墨接受層的涂布液。施涂涂布液時(shí)，為了例如調(diào)節(jié)涂布液的粘度，可加熱涂布液或者可加熱涂布機(jī)頭。將涂布液施涂后，優(yōu)選使用熱風(fēng)干燥機(jī)，例如直線隧道式干燥機(jī)、拱式干燥機(jī)、空氣套網(wǎng)干燥機(jī)(air loop drier)或sign-curve氣浮干燥機(jī)進(jìn)行干燥。也可適當(dāng)選擇利用了紅外線、加熱干燥器、微波干燥器等的干燥機(jī)使用。只要墨吸收性令人滿意，對(duì)墨接受層的涂布量并無(wú)特別限制。最外墨接受層的涂布量?jī)?yōu)選為10. Og/m2以下。如果最外墨接受層的涂布量為10. Og/m2以下，將墨印刷到墨接受層上時(shí)，墨中的水分等迅速移動(dòng)到與最外墨接受層相鄰的墨接受層，因此能夠有效地抑制轉(zhuǎn)移不足的產(chǎn)生。實(shí)施例以下基于實(shí)施例和比較例更詳細(xì)地說(shuō)明本發(fā)明，但應(yīng)理解本發(fā)明并不限于此。下述說(shuō)明中，“份”或“ ％ ”相對(duì)于質(zhì)量，除非另有注釋?！从涗浗橘|(zhì)的制備方法〉(基材的制備)首先，將20份沉淀碳酸鈣添加到100份漂白硬木牛皮漿的漿料中，并且進(jìn)一步將2 份陽(yáng)離子淀粉和0. 3份烯基琥珀酸酐系中性施膠劑添加到其中，然后充分混合以制備紙材料。接下來(lái)，使用多筒式i^ourdrinier抄紙機(jī)將該紙材料干燥到水含量10%。然后，使用施膠壓機(jī)以4g/m2的量將氧化淀粉的7%溶液施涂于得到的紙的兩表面，然后干燥到水含量 7%。由此，得到定量為120g/m2的基紙。通過(guò)熔融擠出將由70份高密度聚乙烯和20份低密度聚乙烯組成的樹(shù)脂組合物施涂到該基紙的前表面和后表面以使涂布量為20. Og/m2。之后即刻，使用具有不規(guī)則形狀的凸凹的冷卻輥，在冷卻下在聚乙烯表面上進(jìn)行四種壓花。通過(guò)調(diào)節(jié)凸凹的密度和高度來(lái)得到不同的壓花圖案。以這種方式，制備定量為160g/m2的基材 A、B、C 禾口 D。測(cè)定各基材的算術(shù)平均表面粗糙度Ra。測(cè)定中，將各基材切割為適合測(cè)定的尺寸， 并且根據(jù) JIS B 0601 中規(guī)定的方法使用 SURFC0M1500DX(由 Tokyo Seimitsu Co.，Ltd. 制造)。作為測(cè)定的結(jié)果，算術(shù)平均表面粗糙度Ra對(duì)于基材A為0. 59 μ m，對(duì)于基材B為 0. 72 μ m,對(duì)于基材C為0. 95 μ m，和對(duì)于基材D為2. 10 μ m。(墨接受層用涂布液1的制備)將醋酸酐份)添加到離子交換水(314.7份)中，然后充分混合。然后，向其添加100份水合氧化鋁(Disperal HP18，由SASOL制造)作為無(wú)機(jī)細(xì)顆粒，然后充分混合以由此得到膠體溶膠。用離子交換水將得到的膠體溶膠適當(dāng)?shù)叵♂屢允顾涎趸X的含量為22%，由此得到膠體溶膠。同時(shí)，將聚乙烯醇(PVA235，聚合度3，500，皂化度88 % ；由Kuraray Co.，Lt d.制造)溶解在離子交換水中以得到固體含量為8.0%的聚乙烯醇水溶液。然后，將得到的聚乙烯醇溶液與如上所述制備的膠體溶膠混合以使聚乙烯醇的固體含量與水合氧化鋁的固體含量之比[(粘結(jié)劑)/(水合氧化鋁)X100]為10%。接下來(lái)，在該混合物中混合 3.0%硼酸水溶液以使硼酸的固體含量為1.5%，基于水合氧化鋁的固體含量，以得到墨接受層用涂布液1。(墨接受層用涂布液2的制備)如墨接受層用涂布液1的制備中那樣得到墨接受層用涂布液2，不同之處在于將水合氧化鋁(Disperal HP18)變?yōu)樗涎趸X(Disperal HP14，由SASOL制造)。(墨接受層用涂布液3的制備)如墨接受層用涂布液1的制備中那樣得到墨接受層用涂布液3，不同之處在于將水合氧化鋁(Disperal HP18)變?yōu)樗涎趸X(Disperal HP10，由SASOL制造)。(墨接受層用涂布液4的制備)通過(guò)將100份二氧化硅(A300,由Nippon Aerosil Co.，Ltd.制造)和4份陽(yáng)離子聚合物(SHALLOL DC902P，由 Dai-ichi Kogyo SeiyakuCo.，Ltd.制造)分散在水中以使固體濃度為18%，并且進(jìn)一步用高壓均化器分散，從而得到二氧化硅分散液。同時(shí)，將聚乙烯醇(PVA235，聚合度3，500，皂化度88% ；由Kuraray Co.，Ltd.制造)溶解在離子交換水中以得到固體含量為8.0%的聚乙烯醇水溶液。然后，將得到的聚乙烯醇溶液與如上所述制備的膠體溶膠混合以使聚乙烯醇的固體含量與二氧化硅的固體含量之比[(粘結(jié)劑)/( 二氧化硅)X100]為15%。接下來(lái)，在該混合物中混合3.0%硼酸水溶液以使硼酸的固體含量為2. 3%，基于二氧化硅的固體含量，以得到墨接受層用涂布液 4。(墨接受層用涂布液5的制備)將墨接受層用涂布液2和墨接受層用涂布液3混合以使DisperalHPH與 Disperal HPlO之間的固體含量比為40 60以得到墨接受層用涂布液5。(墨接受層用涂布液6的制備)將墨接受層用涂布液1和墨接受層用涂布液2混合以使DisperalHPIS與 Disperal HP14之間的固體含量比為20 80以得到墨接受層用涂布液6。(墨接受層用涂布液7的制備)將墨接受層用涂布液2和墨接受層用涂布液3混合以使DisperalHPH與 Disperal HPlO之間的固體含量比為70 30以得到墨接受層用涂布液7。(墨接受層用涂布液8的制備)將墨接受層用涂布液1和墨接受層用涂布液2混合以使DisperalHPIS與 Disperal HP14之間的固體含量比為90 10以得到墨接受層用涂布液8。(墨接受層用涂布液9的制備)將墨接受層用涂布液1和墨接受層用涂布液2混合以使DisperalHPIS與 Disperal HP14之間的固體含量比為70 30以得到墨接受層用涂布液9。(墨接受層用涂布液10的制備)
將墨接受層用涂布液2和墨接受層用涂布液3混合以使DisperalHPH與 Disperal HPlO之間的固體含量比為80 20以得到墨接受層用涂布液10。(墨接受層用涂布液11的制備)將墨接受層用涂布液1和墨接受層用涂布液2混合以使DisperalHPIS與 Disperal HP14之間的固體含量比為60 40以得到墨接受層用涂布液11。<孔半徑分布的峰位置的測(cè)定>將各墨接受層用涂布液施涂于基材A的第一表面(前表面)以使干燥后的涂布量為30.0g/m2。使用滑動(dòng)模(slide die)在40°C下進(jìn)行涂布液的施涂。然后，在60°C下進(jìn)行干燥以得到用于測(cè)定孔半徑分布的峰位置的記錄介質(zhì)。使用下述的裝置測(cè)定得到的記錄介質(zhì)的墨接受層的孔半徑分布的峰位置?！た装霃降臏y(cè)定自動(dòng)比表面積/孔分布測(cè)定裝置TriMar3000(由Siimadzu Corporation 制造)· #ηππ 頁(yè)^hii :Vacu-prep 061 (由 Shimadzu Corporation ^ljit)將記錄介質(zhì)片材切割為5. 0X10. Ocm的尺寸，并且將該片材切割為能夠放入用于測(cè)定孔半徑的3/8英寸室的尺寸。然后，將切割的記錄介質(zhì)放入該室內(nèi)，并且使用Vacu-pr印061，在80°C下加熱的同時(shí)進(jìn)行脫氣干燥直至達(dá)到20毫托以下。使用 TriStar3000通過(guò)氮吸附-脫吸法測(cè)定進(jìn)行了脫氣干燥的樣品的孔直徑分布。測(cè)定后，使用在氮脫吸側(cè)得到的數(shù)據(jù)，最終得到孔半徑分布的峰位置。將測(cè)定結(jié)果示于表1中。表權(quán)利要求
1.記錄介質(zhì)，包括基材；設(shè)置在該基材的第一表面上的兩個(gè)以上的墨接受層；和設(shè)置在該基材的第二表面上的兩個(gè)以上的墨接受層，該第二表面與該第一表面相反，其中該墨接受層均含有顏料和粘結(jié)劑；滿足關(guān)系(I)A1 >A2、(2)B1 >4和(3) IA1-B1彡1.0，其中A1為該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?單位為nm)，A2為該第一表面?zhèn)鹊呐c該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置(單位為nm)，B1為該第二表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?單位為nm)，和化為該第二表面?zhèn)鹊呐c該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置(單位為nm)；和該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐雍驮摰诙砻鎮(zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥拿恳粋€(gè)的算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 50 μ m以上，該算術(shù)平均粗糙度Ra在JIS B 0601中規(guī)定。
2.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中滿足關(guān)系A(chǔ)1-A2> 2. 0和B1-B2 > 2. 0。
3.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐雍驮摰诙砻鎮(zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥拿恳粋€(gè)的算術(shù)平均粗糙度Ra為0. 70 μ m以上，該算術(shù)平均粗糙度Ra在JIS B 0601中規(guī)定。
4.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐雍驮摰诙砻鎮(zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥拿恳粋€(gè)的涂布量為10. Og/m2以下。
5.根據(jù)權(quán)利要求1的記錄介質(zhì)，其中該顏料為水合氧化鋁。
全文摘要
記錄介質(zhì)包括基材和該基材的第一表面和第二表面的每一個(gè)上的兩個(gè)以上的墨接受層。該墨接受層均含有顏料和粘結(jié)劑。A1、A2、B1和B2(nm)滿足關(guān)系(1)、(2)和(3)，其中A1為該第一表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?，A2為與該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置，B1為該第二表面?zhèn)鹊淖钔饽邮軐拥目装霃椒植嫉姆逦恢?，和B2為與該最外墨接受層相鄰的墨接受層的孔半徑分布的峰位置。該最外墨接受層的每一個(gè)的JIS B 0601中規(guī)定的算術(shù)平均粗糙度Ra為0.50μm以上。
文檔編號(hào)B41J2/01GK102189865SQ20111003069
公開(kāi)日2011年9月21日 申請(qǐng)日期2011年1月28日 優(yōu)先權(quán)日2010年1月28日
發(fā)明者永島齊, 淺川浩, 田中考利 申請(qǐng)人:佳能株式會(huì)社