專利名稱：：光干涉式顯示面板及其制造方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明是有關(guān)于一種平面顯示器及其制造方法，且特別是有關(guān)于一種光干涉式顯示面板(opticalinterferencetypepanel)及其制造方法。
背景技術(shù)：
：目前具有重量輕、厚度薄的平面顯示器，例如液晶顯示器(LCD)、有機(jī)電激發(fā)光顯示器件(OLED)、等離子體顯示器(PDP)等已被廣泛的應(yīng)用于日常生活中。其中，液晶顯示器已經(jīng)漸漸成為顯示器的主流，但液晶顯示器仍然存在有許多的問(wèn)題，例如是視角不夠廣、應(yīng)答時(shí)間不夠快、需要通過(guò)彩色濾光片方能全彩化，以及需要使用偏光片而使光源利用效率不佳，進(jìn)而導(dǎo)致背光模塊更為耗電等等的問(wèn)題。現(xiàn)今已有一種光干涉式顯示面板被發(fā)展出來(lái)，其主要是由多個(gè)數(shù)組排列的光干涉調(diào)節(jié)器(OpticalInterferenceModulator)所構(gòu)成。其中，光干涉調(diào)節(jié)器主要由一透明電極、一反射電極以及一用以支撐反射電極的支撐層所構(gòu)成。通過(guò)支撐層的支撐，反射電極與透明電極之間會(huì)間隔一特定的空氣間隙(AirGap)，光線由透明電極端進(jìn)如光干涉調(diào)節(jié)器之后，會(huì)經(jīng)過(guò)空氣間隙并入射至第二電極上，接著再通過(guò)第二電極從透明電極端反射出來(lái)。由于光線在不同的空氣間隙中會(huì)受到不同程度的干涉(Interference)，進(jìn)而呈現(xiàn)不同色光，如紅光、綠光以及藍(lán)光。此外，光干涉調(diào)節(jié)器中的反射電極必須結(jié)合微機(jī)電系統(tǒng)(MicroElectroMechanicalSystem，MEMS)進(jìn)行設(shè)計(jì)，以使得光干涉調(diào)節(jié)器能夠切換于開(kāi)啟/關(guān)閉(on/off)兩種狀態(tài)之間，進(jìn)而達(dá)到顯示的目的。上述由光干涉調(diào)節(jié)器所構(gòu)成的光干涉式顯示面板不需架構(gòu)彩色濾光膜與偏光板即可顯示適當(dāng)?shù)牟噬?huà)面，能夠節(jié)省使用彩色濾光片所需的成本。此外，上述由光干涉調(diào)節(jié)器所構(gòu)成的光干涉式顯示面板具有低電力耗能、快速應(yīng)答時(shí)間及雙穩(wěn)態(tài)(Bi-stable)的特性，因此有利于低電力耗能產(chǎn)品的開(kāi)發(fā)，進(jìn)而應(yīng)用于可攜式(portable)的產(chǎn)品上，例如是移動(dòng)電話(MobilePhone)、個(gè)人數(shù)字助理(PDA)、電子書(shū)(e-book)等。圖1A至圖1F所繪示為公知一種光干涉式顯示面板的制造方法的流程剖面圖。首先，請(qǐng)參照?qǐng)D1A，于透明基板100上形成圖案化的第一電極層102、光學(xué)薄膜103與犧牲層104，其中犧牲層104的材質(zhì)使用不透光的鉬或是鉬的合金。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D1B，于犧牲層104上依序形成支撐材料層106與負(fù)型的光阻層108。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D1C，以不透光的犧牲層104為罩幕，進(jìn)行一背面曝光步驟110與顯影步驟，以形成圖案化的光阻層108a。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D1D，以光阻層108a為蝕刻罩幕，去除未被光阻層108a覆蓋的支撐材料層106以形成支撐層106a。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D1E，去除光阻層108a，再于支撐層106a間的犧牲層104上與支撐層106a上形成第二電極層112。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D1F，進(jìn)行一釋放制作工藝(ReleaseProcess)，以二氟化氙(XeF2)氣體為蝕刻劑，使?fàn)奚鼘?04轉(zhuǎn)化為氣體而加以移除，以形成由多個(gè)光干涉調(diào)節(jié)器數(shù)組排列所構(gòu)成的光干涉式顯示面板。然而，在上述的光干涉式顯示面板的制造方法中，犧牲層104的材質(zhì)必須采用不透光的材質(zhì)，且必須由釋放制作工藝移除，故能夠選擇的材料不多，因而需要采用鉬或是鉬的合金，然而如同上述大量使用鉬或是鉬的合金于犧牲層104，將會(huì)使得所需的制造成本較高。
發(fā)明內(nèi)容因此，本發(fā)明的目的就是在于提供一種光干涉式顯示面板及其制造方法，能夠降低光干涉式顯示面板的制造成本。本發(fā)明的再一目的就是在于提供一種光干涉式顯示面板及其制造方法，能夠簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。本發(fā)明提出一種光干涉式顯示面板的制造方法，此方法于透明基板上形成圖案化的支撐層，再于透明基板與支撐層上形成第一電極層，并再于第一電極層上形成光學(xué)薄膜。接著，于支撐層之間的光學(xué)薄膜上形成犧牲層，其中所形成的犧牲層低于支撐層上方的光學(xué)薄膜。然后，于相鄰的支撐層間的犧牲層上與部分的光學(xué)薄膜上形成第二電極層，再去除犧牲層。而且，本發(fā)明亦可以于光學(xué)薄膜上形成一犧牲材料層，再去除部分犧牲材料層至露出支撐層上方的光學(xué)薄膜以形成犧牲層，其中犧牲層低于支撐層上方的光學(xué)薄膜。尚且，本發(fā)明亦可以在形成犧牲材料層后，以支撐層為罩幕進(jìn)行一背面曝光制作工藝，以暴露出支撐層上方的光學(xué)薄膜。本發(fā)明提出一種光干涉式顯示面板，主要由一透明基板、一圖案化支撐層、一第一電極、一光學(xué)薄膜與一第二電極所構(gòu)成。其中，支撐層設(shè)置在透明基板上，第一電極設(shè)置在透明基板上與支撐層上，光學(xué)薄膜設(shè)置在第一電極上，而第二電極的邊緣設(shè)置在相鄰的支撐層上方的部分光學(xué)薄膜上。由上述本發(fā)明較佳實(shí)施例可知，由于本發(fā)明的光干涉式顯示面板先形成不透光的支撐層，再依序形成第一電極層、光學(xué)薄膜與光阻材質(zhì)的透光犧牲層，此外，犧牲層的材質(zhì)可以選用成本低且適用于釋放制作工藝的材質(zhì)，并不需采用鉬或是鉬的合金作為犧牲層，因而能夠降低光干涉式顯示面板的制造成本。而且，由于本發(fā)明的光干涉式顯示面板直接使用光阻材質(zhì)以形成犧牲層，因此本發(fā)明能夠避免公知必須在支撐層上再涂布一層光阻層的步驟，進(jìn)而能夠簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。再者，本發(fā)明的犧牲材料層在形成于光學(xué)薄膜上之后，可省略背面曝光步驟而采取直接回蝕的方式以形成犧牲層，因而能夠更進(jìn)一步的簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。尚且，本發(fā)明更可以在支撐層之間的光學(xué)薄膜上，直接形成低于支撐層上方的光學(xué)薄膜的犧牲層，因而夠再更進(jìn)一步的簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。圖1A至圖1F是公知一種光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。圖2A至圖2F是依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。圖3A至圖3F是依照本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。圖4A至圖4E是依照本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。圖5圖依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的結(jié)構(gòu)剖面圖。標(biāo)示說(shuō)明100、200、300、400、500透明基板102、204、304、404、504第一電極層103、205、305、405光學(xué)薄膜104、206b、306a、406犧牲層106支撐材料層106a、202、302、402、502支撐層108、108a光阻層110、208背面曝光制作工藝112、210、308、408、506第二電極層206、206a、306犧牲材料層508空氣間隙具體實(shí)施方式圖2A至圖2F所繪示為依照本發(fā)明一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。首先，請(qǐng)參照?qǐng)D2A，于透明基板200上形成圖案化的支撐層202。其中透明基板200的材質(zhì)例如是玻璃或是透明材質(zhì)，且支撐層202的材質(zhì)例如是由不透光的材質(zhì)所構(gòu)成，此不透光的材質(zhì)可為絕緣材料或是高分子樹(shù)脂等。形成圖案化的支撐層202的方法例如是可以使用微影蝕刻法。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D2B，于透明基板200與支撐層202上依序形成共形的第一電極層204與光學(xué)薄膜205，其中此第一電極層204例如是透光的導(dǎo)體材料，且此透光的導(dǎo)體材料例如是銦錫氧化物，而光學(xué)薄膜205例如是多層高介電常數(shù)材料層與低介電常數(shù)材料層的交互堆棧層。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D2C，于光學(xué)薄膜205上形成一層犧牲材料層206，其中此犧牲材料層206的材質(zhì)可為透光的材質(zhì)例如是負(fù)型光阻，并且形成此犧牲材料層206的方法例如是使用旋轉(zhuǎn)涂布法(spinoncoating)。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D2D，以支撐層202為罩幕進(jìn)行一背面曝光制作工藝208，以使未被支撐層202遮蔽部分的犧牲材料層206產(chǎn)生光化學(xué)反應(yīng)(Photochemistry)。然后再進(jìn)行顯影、固化制作工藝以形成具有開(kāi)口的犧牲材料層206a，并且此犧牲材料層206a的開(kāi)口暴露出支撐層202上方的光學(xué)薄膜205。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D2E，去除部分的犧牲材料層206a以形成犧牲層206b，其中去除部分犧牲材料層206a的方法例如是使用蝕刻法，較佳為使用非等向性蝕刻法，并且所形成的犧牲層206b較佳為低于支撐層202上方的光學(xué)薄膜205，以使?fàn)奚鼘?06b形成于支撐層202之間的光學(xué)薄膜205上。然后再于支撐層202間的犧牲層206b上與部分支撐層202上方的光學(xué)薄膜205上形成第二電極層210。其中第二電極層210較佳例如是由不透光且具良好延展性與機(jī)械特性的材質(zhì)，例如是金屬所構(gòu)成。此處值得注意的是，由于第二電極層210形成于光學(xué)薄膜205上，且光學(xué)薄膜205為絕緣體，因此第二電極層210并不會(huì)與第一電極層204電性連接，而能夠維持器件的正常運(yùn)作。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D2F，去除所有的犧牲層206b以形成由光干涉調(diào)節(jié)器所構(gòu)成的光干涉式顯示面板，其中去除犧牲層206b的方法例如是采用釋放制作工藝。本發(fā)明除了上述制造方法之外，尚具有其它的制造方法。圖3A至圖3F所繪示為依照本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。首先，請(qǐng)參照?qǐng)D3A，于透明基板300上形成圖案化的支撐層302。其中透明基板300的材質(zhì)例如是玻璃或是透明樹(shù)脂，且支撐層302的材質(zhì)例如是由不透光的材質(zhì)所構(gòu)成，此不透光的材質(zhì)例如是絕緣材料或是高分子樹(shù)脂等。形成圖案化的支撐層302的方法例如是可以使用微影蝕刻法。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D3B，于透明基板300與支撐層302上形成共形的第一電極層304與光學(xué)薄膜305，其中此第一電極層304例如是由透光的導(dǎo)體材料所構(gòu)成，且透光的導(dǎo)體材料例如是銦錫氧化物，而光學(xué)薄膜205例如是多層高介電常數(shù)材料層與低介電常數(shù)材料層的交互堆棧層。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D3C，于光學(xué)薄膜305上形成一層犧牲材料層306，然后再經(jīng)過(guò)固化制作工藝將此犧牲材料層306固化。其中此犧牲材料層306的材質(zhì)可為透明的材質(zhì)例如是光阻，并且其形成此犧牲材料層306的方法例如是使用旋轉(zhuǎn)涂布法。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D3D，去除部分的犧牲材料層306以形成犧牲層306a，此犧牲層306a暴露出支撐層302上方的光學(xué)薄膜305，并且犧牲層306a低于支撐層302上方的光學(xué)薄膜305，以使?fàn)奚鼘?06a形成于支撐層302之間的光學(xué)薄膜305上。其中去除部分犧牲材料層306a的方法例如是使用回蝕刻(etchback)法。然后再于支撐層302間的犧牲層306a上與部分支撐層302上方的光學(xué)薄膜305上形成第二電極層308。其中第二電極層308較佳例如是由不透光且具良好延展性與機(jī)械特性的材質(zhì)，例如是金屬所構(gòu)成。同樣的，由于第二電極層308形成于第一電極層304的光學(xué)薄膜305上，因此第二電極層308并不會(huì)與第一電極層304電性連接，而能夠維持器件的正常運(yùn)作。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D3F，去除所有的犧牲層306a以形成由光干涉調(diào)節(jié)器所構(gòu)成的光干涉式顯示面板，其中去除犧牲層306a的方法例如是采用釋放制作工藝。尚且，本發(fā)明還具有其它的制造方法。圖4A至圖4E所繪示為依照本發(fā)明另一較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的制造流程的剖面示意圖。首先，請(qǐng)參照?qǐng)D4A，于透明基板400上形成圖案化的支撐層402。其中透明基板400的材質(zhì)例如是玻璃或是透明樹(shù)脂，且支撐層402的材質(zhì)例如是由不透光的材質(zhì)所構(gòu)成，此不透光的材質(zhì)例如是絕緣材料或是高分子樹(shù)脂等。形成圖案化的支撐層402的方法例如是可以使用微影蝕刻法。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D4B，于透明基板400與支撐層402上形成共形的第一電極層404與光學(xué)薄膜405，其中此第一電極層404例如是由透光的導(dǎo)體材料所構(gòu)成，且透光的導(dǎo)體材料例如是銦錫氧化物，而光學(xué)薄膜405例如是多層高介電常數(shù)材料層與低介電常數(shù)材料層的交互堆棧層。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D4C，于光學(xué)薄膜405上形成一層犧牲層406，然后再經(jīng)過(guò)固化制作工藝將此犧牲層406固化，其中此犧牲層406暴露出支撐層402上方的光學(xué)薄膜305，并且犧牲層406a低于支撐層402上方的光學(xué)薄膜405以使?fàn)奚鼘?06形成于支撐層402之間的光學(xué)薄膜405上。其中此犧牲材料層406的材質(zhì)可為透明的材質(zhì)例如是光阻，并且其形成此犧牲材料層406的方法例如是使用旋轉(zhuǎn)涂布法與平坦化技術(shù)，直接將犧牲材料層406的厚度形成為低于支撐層402上方的光學(xué)薄膜405。接著，進(jìn)行一氧等離子體表面處理(slightlyO2plasmaetchforsurfacetreatment)將殘留于支撐層402上方的光學(xué)薄膜405上的極薄或極少許的犧牲層材料予以去除，而得到如圖4C所示的結(jié)構(gòu)。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D4D，于支撐層402間的犧牲層406上與部分支撐層402上方的光學(xué)薄膜405上形成第二電極層408。其中第二電極層408較佳例如是由不透光且具良好延展性與機(jī)械特性的材質(zhì)，例如是金屬所構(gòu)成。同樣的，由于第二電極層408形成于第一電極層404的光學(xué)薄膜405上，因此第二電極層408并不會(huì)與第一電極層404電性連接，而能夠維持器件的正常運(yùn)作。接著，請(qǐng)參照?qǐng)D4E，去除所有的犧牲層406以形成由光干涉調(diào)節(jié)器所構(gòu)成的光干涉式顯示面板，其中去除犧牲層406的方法例如是采用釋放制作工藝。就應(yīng)用釋放制作工藝的角度而言，光阻材料相當(dāng)適用于釋放制作工藝，此外還可以使用其它各種合適的材質(zhì)，例如是公用的介電材料等，因此本發(fā)明能夠選擇成本低的材質(zhì)以形成犧牲層。圖5所繪示為依照本發(fā)明較佳實(shí)施例的光干涉式顯示面板的結(jié)構(gòu)剖面圖。一般而言，一光干涉式顯示面板由多數(shù)的光干涉調(diào)節(jié)器件呈數(shù)組配置于透明基板而形成，然而為求簡(jiǎn)化起見(jiàn)，于圖5中僅繪示一個(gè)光干涉調(diào)節(jié)器件。請(qǐng)參照?qǐng)D5，本發(fā)明的光干涉式顯示面板中的光干涉式調(diào)節(jié)器件主要由透明基板500、支撐層502、第一電極504、光學(xué)薄膜505與第二電極506所構(gòu)成。支撐層502設(shè)置于透明基板500上，其中支撐層502由不透光的材質(zhì)例如是絕緣材料或是高分子樹(shù)脂等所構(gòu)成。第一電極504設(shè)置于透明基板500與支撐層502上，其中第一電極504由透光的的導(dǎo)體材料例如是銦錫氧化物所構(gòu)成且略共形于透明基板500與支撐層502。光學(xué)薄膜505設(shè)置于第一電極504上且略共形于第一電極504，光學(xué)薄膜505例如是由多層高介電常數(shù)材料層與低介電常數(shù)材料層的交互堆棧層。第二電極506的邊緣個(gè)別設(shè)置于支撐層502上方的光學(xué)薄膜505上，且于第二電極506與光學(xué)薄膜505之間形成一空氣間隙508。其中第二電極層506較佳由不透光且具良好延展性與機(jī)械特性的材質(zhì)所構(gòu)成。上述光干涉式顯示面板的驅(qū)動(dòng)方式于公知相同，亦即是在光干涉式顯示面板中，同一行的像素(光干涉式調(diào)節(jié)器件)受到同一行的第一電極的驅(qū)動(dòng)，并且同一列的像素受到同一列的第二電極的驅(qū)動(dòng)，也就是說(shuō)當(dāng)驅(qū)動(dòng)像素?cái)?shù)組中的一特定像素時(shí)，驅(qū)動(dòng)此像素所對(duì)應(yīng)行的第一電極，且驅(qū)動(dòng)此像素所對(duì)應(yīng)列的第二電極。綜上所述，本發(fā)明至少具有下列優(yōu)點(diǎn)1.由于本發(fā)明的光干涉式顯示面板先形成不透光的支撐層，再依序形成第一電極層、光學(xué)薄膜與光阻材質(zhì)的透光犧牲層，而且，犧牲層的材質(zhì)可以選用成本低且適用于釋放制作工藝的材質(zhì)，并不需采用鉬或是鉬的合金作為犧牲層，因此能夠降低光干涉式顯示面板的制造成本。2.由于本發(fā)明的光干涉式顯示面板直接使用光阻材質(zhì)以形成犧牲層，因此，本發(fā)明能夠避免如同公知必須再于支撐層上形成一層光阻層的步驟，進(jìn)而能夠簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。3.再者，本發(fā)明的犧牲材料層在形成于光學(xué)薄膜上之后，可省略背面曝光的步驟而采取直接回蝕的方式以形成犧牲層，因而能夠更進(jìn)一步的簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。4.尚且，本發(fā)明更可以在支撐層之間的光學(xué)薄膜上，直接形成低于支撐層上方的光學(xué)薄膜的犧牲層，因而夠再更進(jìn)一步的簡(jiǎn)化光干涉式顯示面板的制作工藝。雖然本發(fā)明已以較佳實(shí)施例公開(kāi)如上，然其并非用以限定本發(fā)明，任何熟悉此技術(shù)者，在不脫離本發(fā)明的精神和范圍內(nèi)，當(dāng)可作些許之更動(dòng)與潤(rùn)飾，因此本發(fā)明的保護(hù)范圍當(dāng)視權(quán)利要求書(shū)所界定者為準(zhǔn)。權(quán)利要求1.一種光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該方法包括下列步驟于一透明基板上形成圖案化的一支撐層；于該透明基板與該支撐層上形成一第一電極層；于該第一電極層上形成一光學(xué)薄膜；于該支撐層之間的該光學(xué)薄膜上形成一犧牲層；于相鄰的該支撐層間的該犧牲層上與部分該光學(xué)薄膜上形成一第二電極層；以及去除該犧牲層。2.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該支撐層的材質(zhì)包括不透光的材質(zhì)。3.如權(quán)利要求2所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該支撐層的材質(zhì)包括絕緣材料與高分子樹(shù)脂所組的族群其中之一。4.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該犧牲層的材質(zhì)包括光阻材料。5.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于形成該犧牲層的方法包括旋轉(zhuǎn)涂布法。6.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該犧牲層低于該支撐層上方的該光學(xué)薄膜。7.如權(quán)利要求6所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于于該支撐層之間的該光學(xué)薄膜上形成一犧牲層后，還包括對(duì)該犧牲層與該光學(xué)薄膜進(jìn)行一氧等離子體處理制作工藝，以去除附著于該支撐層上方的該光學(xué)薄膜上的該犧牲層。8.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該第一電極層的材質(zhì)包括透光的材質(zhì)。9.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該光學(xué)薄膜由多層高介電常數(shù)材料層與低介電常數(shù)材料層所交互堆棧形成。10.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于形成該犧牲層的方法包括下列步驟于該光學(xué)薄膜上形成一犧牲材料層；以及去除部分該犧牲材料層至露出該支撐層上方的該光學(xué)薄膜以形成該犧牲層，其中該犧牲層低于該支撐層上方的該光學(xué)薄膜。11.如權(quán)利要求10所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于去除該犧牲材料層至露出該些支撐層上方的該光學(xué)薄膜以形成該犧牲層的方法包括蝕刻法。12.如權(quán)利要求11所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于于該光學(xué)薄膜上形成一犧牲材料層之后，去除部分該犧牲材料層至露出該支撐層上方的該光學(xué)薄膜以形成該犧牲層之前，還包括以該支撐層為罩幕進(jìn)行一背面曝光制作工藝，以圖案化該犧牲材料層。13.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于該第二電極層的材質(zhì)包括金屬。14.如權(quán)利要求1所述的光干涉式顯示面板的制造方法，其特征在于去除該犧牲層的方法包括釋放制作工藝。15.一種光干涉式顯示面板，其特征在于包括一透明基板；一支撐層，設(shè)置在該透明基板上；一第一電極，設(shè)置在該透明基板上與該些支撐層上；一光學(xué)薄膜，設(shè)置在該第一電極上；以及一第二電極，其中該第二電極的邊緣設(shè)置在相鄰的該支撐層上方的部分該光學(xué)薄膜上。16.如權(quán)利要求15所述的光干涉式顯示面板，其特征在于該支撐層的材質(zhì)包括不透光的材質(zhì)。17.如權(quán)利要求15所述的光干涉式顯示面板，其特征在于該支撐層的材質(zhì)包括絕緣材料與高分子樹(shù)脂所組的族群其中之一。18.如權(quán)利要求15所述的光干涉式顯示面板，其特征在于該第一電極的材質(zhì)包括透光的材質(zhì)。19.如權(quán)利要求15所述的光干涉式顯示面板，其特征在于該光學(xué)薄膜由多層高介電常數(shù)材料層與低介電常數(shù)材料層所交互堆棧形成。20.如權(quán)利要求15所述的光干涉式顯示面板，其特征在于該第二電極層的材質(zhì)包括金屬。全文摘要一種光干涉式顯示面板的制造方法，此方法于透明基板上形成圖案化的支撐層，再依序于透明基板與支撐層上形成第一電極層與光學(xué)薄膜。接著，于光學(xué)薄膜上形成犧牲材料層，再以支撐層為罩幕進(jìn)行背面曝光制作工藝以圖案化犧牲材料層。然后，去除部分圖案化的犧牲材料層至露出支撐層上方的光學(xué)薄膜以形成犧牲層，再于相鄰的支撐層間的犧牲層上與部分光學(xué)薄膜上形成第二電極層，最后再去除犧牲層。文檔編號(hào)G02F1/01GK1515932SQ0310029公開(kāi)日2004年7月28日申請(qǐng)日期2003年1月9日優(yōu)先權(quán)日2003年1月9日發(fā)明者林文堅(jiān)申請(qǐng)人:元太科技工業(yè)股份有限公司