光取向設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實用新型設(shè)及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體地，設(shè)及一種光取向設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002] 液晶顯示面板一般包括陣列基板、彩膜基板，W及設(shè)置在陣列基板和彩膜基板之 間的液晶。其中，陣列基板和彩膜基板均包括取向?qū)樱溆糜谙薅ㄒ壕Х肿拥呐挪?，使液?分子在未處于電場中時，按照預(yù)設(shè)的初始方向排布。
[0003] 目前，取向?qū)右话憧蒞通過對聚酷亞胺膜（PI膜）進行摩擦或者曝光制備，即所謂 "摩擦取向"和"光取向"。其中，光取向是利用紫外光照射，引發(fā)PI膜中的聚酷亞胺分子發(fā) 生光致聚合、光致異構(gòu)或光致分解反應(yīng)，產(chǎn)生各向異性，從而誘導(dǎo)液晶分子取向。在光取向 工藝中，PI膜不與其它介質(zhì)接觸，因此，不會產(chǎn)生摩擦取向工藝中存在的碎屑污染和靜電擊 穿等問題。
[0004] 圖1示出了一種現(xiàn)有的通過光取向工藝制備取向?qū)拥墓馊∠蛟O(shè)備，如圖1所示，該 光取向設(shè)備包括承載基臺1、曝光裝置2、驅(qū)動機構(gòu)（圖中未示出）和裝卸載裝置4;其中， 承載基臺1用于承載基板S，曝光裝置2用于對放置在承載基臺1上的基板S進行曝光，驅(qū) 動機構(gòu)用于驅(qū)動承載基臺1移動，裝卸載裝置4用于向承載基臺1上裝載基板S，W及，將基 板S從承載基臺1上卸載。
[0005] 具體地，在上述光取向設(shè)備制備取向?qū)訒r，首先，在第一階段，裝卸載裝置4將制 備有PI膜的基板S裝載到承載基臺1上，并檢測基板S是否被準(zhǔn)確放置，若否，則對基板S 的位置進行校正；在該第一階段，使用遮光裝置將曝光裝置2的出光區(qū)遮蔽，避免出現(xiàn)基板 S的部分區(qū)域被曝光，而其余區(qū)域未被曝光的現(xiàn)象，從而避免影響曝光工藝的均勻性。在第 二階段，遮光裝置從曝光裝置2的出光區(qū)移開，并在之后，驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動承載基臺1由初始 位置1-0移動至結(jié)束位置1-1 ;在該過程中，曝光裝置2對基板S的各區(qū)域進行曝光，使基 板S上的PI膜發(fā)生光致聚合、光致異構(gòu)或光致分解反應(yīng)，產(chǎn)生表面的各向異性。在第=階 段，使驅(qū)動機構(gòu)位于初始位置1-0,由裝卸載裝置4將基板S從承載基臺1上卸載。
[0006] 在采用上述光取向設(shè)備制備取向?qū)拥倪^程中，裝載和卸載基板S時，檢測基板S是 否被準(zhǔn)確放置時，W及，在遮光裝置遮蔽曝光裝置2的出光區(qū)和從曝光裝置2的出光區(qū)移開 的過程中，曝光裝置2無法照射基板S，對基板S進行曝光；該就使得制備取向?qū)拥拿總€周 期內(nèi)，進行曝光的時間所占的比例較少，從而導(dǎo)致曝光裝置2的利用率不高。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0007] 本實用新型旨在至少解決現(xiàn)有技術(shù)中存在的技術(shù)問題之一，提出了一種光取向設(shè) 備，其可W減少完成對一個基板的曝光所需的時間，從而提高生產(chǎn)效率，W及提高曝光裝置 的利用率。
[000引為實現(xiàn)本實用新型的目的而提供一種光取向設(shè)備，包括；多個承載基臺，每個承 載基臺用于承載基板；曝光裝置，用于對處于其照射范圍內(nèi)的基板進行曝光；驅(qū)動機構(gòu)，用 于驅(qū)動所述曝光裝置移動，使所述曝光裝置的照射范圍依次經(jīng)過多個承載基臺上的基板； 裝卸載裝置，用于將位于所述曝光裝置的照射范圍外的承載基臺上的已完成曝光的基板卸 載，W及，向位于所述曝光裝置的照射范圍外的承載基臺上裝載新的基板。
[0009] 其中，所述多個承載基臺排列成一行。
[0010] 其中，所述裝卸載裝置包括裝載裝置和卸載裝置；所述卸載裝置用于將位于所述 曝光裝置的照射范圍外的承載基臺上的已完成曝光的基板卸載；所述裝載裝置用于向位于 所述曝光裝置的照射范圍外的承載基臺上裝載新的基板。
[0011] 其中，所述光取向設(shè)備還包括遮光裝置，所述遮光裝置用于在預(yù)設(shè)時刻運動至所 述曝光裝置的出光區(qū)，使相應(yīng)的基板脫離所述曝光裝置的照射范圍。
[0012] 可替代地，所述曝光裝置包括光源、反光鏡和反光鏡驅(qū)動機構(gòu)，所述反光鏡驅(qū)動機 構(gòu)用于驅(qū)動反光鏡在第一位置和第二位置間運動，所述反光鏡在第一位置用于將所述光源 發(fā)出的射向非出光區(qū)的光反射向出光區(qū)，在第二位置用于將所述出光區(qū)遮擋。
[0013] 其中，所述曝光裝置的出光區(qū)在垂直于其運動方向上的尺寸不小于所述基板的對 角線的長度。
[0014] 其中，所述曝光裝置的出光區(qū)在垂直于其運動方向上的尺寸不大于5米。
[0015] 其中，所述光源包括至少一個燈組，每個燈組的長度不小于所述基板的對角線的 長度。
[0016] 其中，每個燈組內(nèi)的燈的數(shù)量的范圍為1~50個。
[0017] 其中，所述裝卸載裝置的數(shù)量與所述承載基臺的數(shù)量相等，且二者一一對應(yīng)。
[0018] 本實用新型具有W下有益效果：
[0019] 本實用新型提供的光取向設(shè)備，其驅(qū)動機構(gòu)驅(qū)動曝光裝置依次對多個承載基臺上 的基板進行曝光；并且，在曝光裝置對基板曝光時，裝卸載裝置將已完成曝光的基板從承載 基臺上卸載，并在曝光裝置下一次掠過該承載基臺之前，向該承載基臺上裝載新的基板，從 而使曝光裝置可W直接對該承載基臺上的基板進行曝光，而無需等待裝卸載裝置卸載和裝 載基板，從而可W減少完成一個基板的曝光所需的時間，提高生產(chǎn)效率，增加產(chǎn)能。同時，在 裝卸載裝置卸載和裝載基板時，曝光裝置仍用于對其他基板的曝光，與現(xiàn)有技術(shù)相比，提高 了曝光裝置的利用率。
【附圖說明】
[0020] 附圖是用來提供對本實用新型的進一步理解，并且構(gòu)成說明書的一部分，與下面 的【具體實施方式】一起用于解釋本實用新型，但并不構(gòu)成對本實用新型的限制。在附圖中：
[0021] 圖1為一種現(xiàn)有的光取向設(shè)備的示意圖；
[0022] 圖2為本實用新型實施方式提供的光取向設(shè)備的示意圖；
[0023] 圖3為承載基臺的數(shù)量為4個的示意圖；
[0024] 圖4為遮光裝置的示意圖；
[0025] 圖5為曝光裝置的示意圖；
[0026] 圖6為本實施方式與現(xiàn)有技術(shù)的曝光均一性的示意圖；
[0027] 圖7為燈組的第一種結(jié)構(gòu)的示意圖；
[002引圖8為燈組的第二種結(jié)構(gòu)的示意圖；
[0029] 圖9為燈組的第S種結(jié)構(gòu)的示意圖。
[0030] 其中，附圖標(biāo)記；
[0031] 1 ;承載基臺；2 ;曝光裝置；4 ;裝卸載裝置；5 ;遮光裝置；6 ;閩口；7 ;攝像頭；1-0 ; 承載基臺的初始位置；1-1 ;承載基臺的結(jié)束位置；2-0 ;曝光裝置的初始位置；2-1 ;曝光裝 置的第一位置；2-2 ;曝光裝置的第二位置；40 ;裝載裝置；41 ;卸載裝置；20 ;光源；21 ;反 光鏡；200 ;燈組；S;基板。
【具體實施方式】
[0032] W下結(jié)合附圖對本實用新型的【具體實施方式】進行詳細說明。應(yīng)當(dāng)理解的是，此處 所描述的【具體實施方式】僅用于說明和解釋本實用新型，并不用于限制本實用新型。
[0033] 本實用新型提供一種光取向設(shè)備的實施方式，圖2為本實用新型實施方式提供的 光取向設(shè)備的示意圖。如圖2所示，在本實施方式中，所述光取向設(shè)備包括；多個承載基臺 1，每個承載基臺1用于承載基板S;曝光裝置2,用于對處于其照射范圍內(nèi)的基板S進行曝 光；驅(qū)動機構(gòu)（圖中未示出），用于驅(qū)動所述曝光裝置2移動，使所述曝光裝置2的照射范 圍依次經(jīng)過多個承載基臺1上的基板S，即：使多個承載基臺1上的基板S依次進入所述曝 光裝置2的照射范圍，并依次脫離所述曝光裝置2的照射范圍；裝卸載裝置4,用于將位于 所述曝光裝置2的照射范圍外的承載基臺1上的已完成曝光的基板S卸載，W及，向位于所 述曝光裝置2的照射范圍外的承載