一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)。它包括拋光盤，冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，拋光盤、研磨盤和轉(zhuǎn)臺連接在一起，拋光盤上端面加工有螺旋形冷卻水管槽，安裝有冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，研磨盤下端面與拋光盤上端面粘接在一起，冷卻水循環(huán)系統(tǒng)可通過冷卻水實現(xiàn)拋光過程中研磨盤的恒溫控制，讓研磨盤保持較好的面形，拋光盤與轉(zhuǎn)臺之間通過螺紋固定，轉(zhuǎn)臺帶動拋光盤旋轉(zhuǎn)，螺旋冷卻水管路中的冷卻水在離心力的作用下能實現(xiàn)快速循環(huán)。本發(fā)明能夠很好地控制研磨盤和拋光盤溫度恒定。
【專利說明】
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及超精密制造裝備【技術(shù)領(lǐng)域】，具體涉及一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié) 構(gòu)。 一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)

【背景技術(shù)】
[0002] 環(huán)拋技術(shù)主要用來進行平面光學元件的超精密拋光，直接決定光學元件的加工精 度。在光學元件加工過程中，研磨盤的面形對光學元件的面形精度非常重要，由于拋光作用 會引起拋光盤局部溫度變化從而導致研磨盤面形的變化，影響光學元件的拋光精度，為了 實現(xiàn)光學元件的超精密拋光，需要控制拋光盤表面的溫度恒定。
[0003] 目前主要是通過控制拋光液的溫度來控制拋光盤溫度的變化，在實際使用過程 中，由于拋光盤的局部溫度變化仍然較大。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004] 有鑒于現(xiàn)有技術(shù)的上述缺陷，本發(fā)明提供一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)。
[0005] 為實現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)，包括拋光盤， 冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，拋光盤、研磨盤和轉(zhuǎn)臺連接在一起，拋光盤上端面加工有螺旋形冷卻水管 槽，安裝有冷卻水循環(huán)系統(tǒng)，研磨盤下端面與拋光盤上端面粘接在一起，冷卻水循環(huán)系統(tǒng)可 通過冷卻水實現(xiàn)拋光過程中研磨盤的恒溫控制，讓研磨盤保持較好的面形，拋光盤與轉(zhuǎn)臺 之間通過螺紋固定，轉(zhuǎn)臺帶動拋光盤旋轉(zhuǎn)，螺旋冷卻水管路中的冷卻水在離心力的作用下 能實現(xiàn)快速循環(huán)。
[0006] 作為優(yōu)選，所述的冷卻管為螺旋型。
[0007] 作為優(yōu)選，所述的拋光盤冷卻管道安裝在拋光盤與轉(zhuǎn)臺中間。
[0008] 作為優(yōu)選，所述的拋光盤與轉(zhuǎn)臺上臺面之間是粘接的。
[0009] 作為優(yōu)選，所述的冷卻管材料采用的黃銅。
[0010] 本發(fā)明具有以下有益效果： 1、 冷卻管采用螺旋型布置，轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)過程中的離心力有利于冷卻水的很好循環(huán)； 2、 通過在拋光盤與研磨盤之間增加冷卻循環(huán)系統(tǒng)，能更好實現(xiàn)研磨盤及拋光盤的恒溫 控制。
[0011] 以下將結(jié)合附圖對本發(fā)明的構(gòu)思、具體結(jié)構(gòu)及產(chǎn)生的技術(shù)效果作進一步說明，以 充分地了解本發(fā)明的目的、特征和效果。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0012] 圖1為本發(fā)明的結(jié)構(gòu)示意圖； 圖2為本發(fā)明的拋光盤的冷卻水槽結(jié)構(gòu)圖。

【具體實施方式】
[0013] 參照圖1-2,本【具體實施方式】采用以下技術(shù)方案：一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻 結(jié)構(gòu)，包括旋轉(zhuǎn)接頭1、轉(zhuǎn)臺2、拋光盤3、冷卻水循環(huán)系統(tǒng)4和研磨盤5,轉(zhuǎn)臺2上安裝有拋 光盤3,拋光盤3上粘接有研磨盤5,拋光盤3和研磨盤5之間設(shè)置有螺旋形的冷卻水循環(huán) 系統(tǒng)4,冷卻水循環(huán)系統(tǒng)4的冷卻管路穿設(shè)在轉(zhuǎn)臺2、拋光盤3中間并與旋轉(zhuǎn)接頭1連接。
[0014] 值得注意的是，所述的拋光盤3上設(shè)置有螺旋形冷卻水槽，螺旋形冷卻水槽內(nèi)安 裝有冷卻水循環(huán)系統(tǒng)4的螺旋形冷卻銅管。
[0015] 本實施例中，所述的研磨盤5為錫盤，所述的研磨盤5和拋光盤3之間通過粘接劑 固定，轉(zhuǎn)臺2采用氣體靜壓轉(zhuǎn)臺，減少轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)過程中發(fā)熱。
[0016] 此外，所述的旋轉(zhuǎn)接頭1是保證在拋光盤旋轉(zhuǎn)過程中冷卻水的正常輸入和輸出。
[0017] 本【具體實施方式】采用"螺旋型"冷卻水循環(huán)系統(tǒng)即上述結(jié)構(gòu)，通過冷卻水的離心力 作用使得冷卻水迅速實現(xiàn)循環(huán)回路，從而達到對拋光盤的快速冷卻作用，并通過旋轉(zhuǎn)接頭 實現(xiàn)冷卻水的快速循環(huán)。
[0018] 本發(fā)明在實際運行中，冷卻管采用螺旋型布置，轉(zhuǎn)臺旋轉(zhuǎn)過程中的離心力有利于 冷卻水的很好循環(huán)；其次，通過在拋光盤與研磨盤之間增加冷卻循環(huán)系統(tǒng)，能更好實現(xiàn)研磨 盤及拋光盤的恒溫控制。
[0019] 以上詳細描述了本發(fā)明的較佳具體實施例。應(yīng)當理解，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員無 需創(chuàng)造性勞動就可以根據(jù)本發(fā)明的構(gòu)思作出諸多修改和變化。因此，凡本【技術(shù)領(lǐng)域】中技術(shù) 人員依本發(fā)明的構(gòu)思在現(xiàn)有技術(shù)的基礎(chǔ)上通過邏輯分析、推理或者有限的實驗可以得到的 技術(shù)方案，皆應(yīng)在由權(quán)利要求書所確定的保護范圍內(nèi)。
【權(quán)利要求】
1. 一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)，其特征在于，包括旋轉(zhuǎn)接頭（1)、轉(zhuǎn)臺（2)、拋光 盤（3)、冷卻水循環(huán)系統(tǒng)（4)和研磨盤（5)，轉(zhuǎn)臺（2)上安裝有拋光盤（3)，拋光盤（3)上粘 接有研磨盤（5)，拋光盤（3)和研磨盤（5)之間設(shè)置有螺旋形的冷卻水循環(huán)系統(tǒng)（4)，冷卻 水循環(huán)系統(tǒng)（4)的冷卻管路穿設(shè)在轉(zhuǎn)臺（2)、拋光盤（3)中間并與旋轉(zhuǎn)接頭（1)連接。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的拋 光盤（3)上設(shè)置有螺旋形冷卻水槽，螺旋形冷卻水槽內(nèi)安裝有冷卻水循環(huán)系統(tǒng)（4)的螺旋 形冷卻銅管。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的研 磨盤（5)為錫盤。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的研 磨盤（5)和拋光盤（3)之間通過粘接劑固定。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種環(huán)拋機拋光盤螺旋型冷卻結(jié)構(gòu)，其特征在于，所述的轉(zhuǎn) 臺（2)采用氣體靜壓轉(zhuǎn)臺。
【文檔編號】B24B37/34GK104084877SQ201410284975
【公開日】2014年10月8日 申請日期:2014年6月24日 優(yōu)先權(quán)日:2014年6月24日
【發(fā)明者】趙惠英, 張楚鵬, 范智源, 楊和清, 于賀春, 李彬, 席建普, 任東旭, 袁林, 周國強 申請人:北京微納精密機械有限公司, 西安交通大學