拋光設(shè)備的制造方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型關(guān)于一種加工設(shè)備，尤指一種能提高運(yùn)作可靠性的拋光設(shè)備。
【背景技術(shù)】
[0002]現(xiàn)有半導(dǎo)體制程中，晶圓于制造完成后，會(huì)進(jìn)行薄化加工，其包含研磨作業(yè)與拋光作業(yè)，之后才會(huì)進(jìn)行切單、封裝等制程。
[0003]如圖1所示，現(xiàn)有拋光機(jī)1包括:一機(jī)臺(tái)本體(圖略)、一設(shè)于該機(jī)臺(tái)本體上側(cè)的固定裝置11、一設(shè)于該機(jī)臺(tái)本體下側(cè)的拋光裝置12、以及一設(shè)于該固定裝置11的承載裝置13。該固定裝置11包含一真空吸盤111、及一環(huán)繞固定該真空吸盤111的固定架112，且該真空吸盤111凸出該固定架112，以利于吸附該承載裝置13。該承載裝置13包含一結(jié)合于該真空吸盤111上的貼膜130、及供設(shè)置該貼膜130的一鐵環(huán)131。
[0004]于進(jìn)行拋光作業(yè)時(shí)，先將一如晶圓的欲拋光件9粘貼于該貼膜130上，再以該真空吸盤111吸附(如圖所示的箭頭的向上方向)該貼膜130，使該承載裝置13固定于該固定裝置11上。之后，該拋光裝置12配合漿液(如圖1所示的流入方向F)磨平該欲拋光件9的表面。
[0005]然而，現(xiàn)有拋光機(jī)1中，該固定架112與該鐵環(huán)131之間為懸空，兩者間并無支撐力，故于進(jìn)行拋光作業(yè)時(shí)，該鐵環(huán)131容易震動(dòng)，致使該欲拋光件9容易受震而損壞(如晶圓碎裂)。
[0006]因此，如何克服現(xiàn)有技術(shù)的問題，實(shí)為一重要課題。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0007]為解決上述現(xiàn)有技術(shù)的問題，本實(shí)用新型遂揭露一種拋光設(shè)備，能避免該欲拋光件的邊緣因震動(dòng)而損壞的發(fā)生。
[0008]本實(shí)用新型的拋光設(shè)備包括:機(jī)臺(tái)本體，其具有相對的第一側(cè)與第二側(cè)，以及位于該第一側(cè)與第二側(cè)之間的一容置空間；固定裝置，其設(shè)于該機(jī)臺(tái)本體的第一側(cè)上并位于該容置空間中，且該固定裝置包含相鄰接的作用部及延伸部，該作用部相對該延伸部朝該第二側(cè)的方向凸出以固定至少一欲拋光件，而該延伸部相隔一間隙固定該欲拋光件；以及拋光裝置，其設(shè)于該機(jī)臺(tái)本體的第二側(cè)上并位于該容置空間中。
[0009]前述的拋光設(shè)備中，該作用部為吸附結(jié)構(gòu)、供粘附結(jié)構(gòu)或卡固結(jié)構(gòu)，例如，該吸附結(jié)構(gòu)為真空式吸附結(jié)構(gòu)或磁力式吸附結(jié)構(gòu)。
[0010]前述的拋光設(shè)備中，該延伸部形成于該作用部的側(cè)緣。
[0011]前述的拋光設(shè)備中，該延伸部具有吸附結(jié)構(gòu)。例如，該吸附結(jié)構(gòu)為磁力式吸附結(jié)構(gòu)。
[0012]前述的拋光設(shè)備中，該延伸部中設(shè)有磁性件，以吸引該欲拋光件。又，該延伸部中還設(shè)有止擋件，以令該止擋件外露于該延伸部表面。
[0013]前述的拋光設(shè)備中，還包括用以承載該欲拋光件的承載裝置，其結(jié)合于該固定裝置上，且位于該固定裝置與該拋光裝置之間的容置空間中。例如，該承載裝置與該延伸部之間具有間隙?；蛘?，該承載裝置包含用以承載該欲拋光件的承載部、及設(shè)于該承載部上的支撐部。
[0014]由上可知，本實(shí)用新型的拋光設(shè)備中，主要藉由該延伸部相隔一間隙固定該欲拋光件的設(shè)計(jì)，以固定該欲拋光件的邊緣，故相較于現(xiàn)有技術(shù)，于進(jìn)行拋光作業(yè)時(shí)，本實(shí)用新型的拋光設(shè)備能避免該欲拋光件的邊緣因震動(dòng)而損壞的發(fā)生。
【附圖說明】
[0015]圖1為現(xiàn)有拋光設(shè)備的剖面示意圖；
[0016]圖2為本實(shí)用新型的拋光設(shè)備的第一實(shí)施例的剖面示意圖；其中，圖2’為圖2的局部上視圖；
[0017]圖3為本實(shí)用新型的拋光設(shè)備的第二實(shí)施例的剖面示意圖；以及
[0018]圖4A至圖4D為本實(shí)用新型的拋光設(shè)備的延伸部的各種實(shí)施例的局部剖面放大示意圖。
[0019]其中，附圖標(biāo)記說明如下:
[0020]1拋光機(jī)
[0021]11,21固定裝置
[0022]111真空吸盤
[0023]112固定架
[0024]12、22拋光裝置
[0025]13、33承載裝置
[0026]130貼膜
[0027]131鐵環(huán)
[0028]2、3拋光設(shè)備
[0029]20機(jī)臺(tái)本體
[0030]20a第一側(cè)
[0031]20b第二側(cè)
[0032]210吸附結(jié)構(gòu)
[0033]211作用部
[0034]212延伸部
[0035]330承載部
[0036]331支撐部
[0037]40、40，開孔
[0038]41磁性件
[0039]42、42，止擋件
[0040]43支撐件
[0041]9欲拋光件
[0042]9a外露表面
[0043]S容置空間
[0044]t間隙。
【具體實(shí)施方式】
[0045]以下藉由特定的具體實(shí)施例說明本實(shí)用新型的實(shí)施方式，本領(lǐng)域技術(shù)人員可由本說明書所揭示的內(nèi)容輕易地了解本實(shí)用新型的其他優(yōu)點(diǎn)及功效。
[0046]須知，本說明書所附圖式所繪示的結(jié)構(gòu)、比例、大小等，均僅用以配合說明書所揭示的內(nèi)容，以供本領(lǐng)域技術(shù)人員了解與閱讀，并非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的限定條件，故不具技術(shù)上的實(shí)質(zhì)意義，任何結(jié)構(gòu)的修飾、比例關(guān)系的改變或大小的調(diào)整，在不影響本實(shí)用新型所能產(chǎn)生的功效及所能達(dá)成的目的下，均應(yīng)仍落在本實(shí)用新型所揭示的技術(shù)內(nèi)容得能涵蓋的范圍內(nèi)。同時(shí)，本說明書中所引用的如“上”、“第一”、“第二”及“一”等的用語，也僅為便于敘述的明了，而非用以限定本實(shí)用新型可實(shí)施的范圍，其相對關(guān)系的改變或調(diào)整，在無實(shí)質(zhì)變更技術(shù)內(nèi)容下，當(dāng)也視為本實(shí)用新型可實(shí)施的范疇。
[0047]圖2為本實(shí)用新型的拋光設(shè)備2的第一實(shí)施例的剖面示意圖。
[0048]如圖2所示，該拋光設(shè)備2包括:一機(jī)臺(tái)本體20、一固定裝置21以及一拋光裝置22。
[0049]所述的機(jī)臺(tái)本體20具有相對的第一側(cè)20a與第二側(cè)20b，以及位于該第一側(cè)20a與第二側(cè)20b之間的一容置空間S。
[0050]于本實(shí)施例中，該第一側(cè)20a為上側(cè)，且該第二側(cè)20b為下側(cè)。
[0051]此外，圖中為簡化繪示該機(jī)臺(tái)本體20，而非表示該機(jī)臺(tái)本體20的實(shí)際機(jī)構(gòu)。
[0052]所述的固定裝置21設(shè)于該機(jī)臺(tái)本體20的第一側(cè)20a上并位于該容置空間S中，且該固定裝置21包含相鄰接的一作用部211及一延伸部212，該作用部211相對該延伸部212朝該第二側(cè)20b的方向凸出，以接觸固定一欲拋光件9，而該延伸部212相隔一間隙固定該欲拋光件9。
[0053]于本實(shí)施例中，該作用部211為盤體(可參考圖2’)，其為真空式吸附結(jié)構(gòu)(例如具有多個(gè)孔道)，使該固定裝置21成為吸附裝置，但也可為磁力式吸附裝置，并無特別限制。于其它實(shí)施例中，該作用部211也可為供粘附結(jié)構(gòu)或卡固結(jié)構(gòu)等，故該固定裝置21的種類繁多，并不限于上述。
[0054]此外，該延伸部212為