專利名稱：：低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜及制備方法
技術(shù)領(lǐng)域：
：本發(fā)明涉及包裝工業(yè)領(lǐng)域，特別涉及一種低霧度、高光澤度、加工性能良好的雙向拉伸聚酰胺薄膜及制備方法。
背景技術(shù)：
：聚酰胺薄膜也稱尼龍薄膜，其具有優(yōu)良的機(jī)械性能、尺寸穩(wěn)定性、耐熱性、耐油性、耐溶劑性、耐穿剌性和阻氣性，因此被廣泛地應(yīng)用于包裝工業(yè)領(lǐng)域。但是，聚酰胺是一種極易結(jié)晶的聚合物，其分子之間存在著較強(qiáng)的氫鍵作用，以致聚酰胺薄膜的粘度和塑性對于溫度變化非常敏感。因此，在將聚酰胺鑄片拉伸成薄膜的過程中，如果由于溫度控制不當(dāng)而在聚酰胺大分子層次上產(chǎn)生了過多的結(jié)晶大顆粒，就會(huì)在后續(xù)的拉伸過程中，造成薄膜拉伸困難、破膜、薄膜斷裂等生產(chǎn)事故，從而極大增加企業(yè)的生產(chǎn)成本，并使產(chǎn)品的優(yōu)質(zhì)率降低，使生產(chǎn)企業(yè)在市場競爭中處于不利地位。為了擴(kuò)大雙向拉伸操作的彈性，降低雙向拉伸的操作難度，業(yè)界也作出了一些努力，最常用的是通過加入添加劑來提高薄膜表面的粗糙度。例如中國專利96105765.3的文件公開了一種雙軸向拉伸的聚酰胺基薄膜，是采用20%70%的聚烯烴加入到100%的脂族聚酰胺原料中形成共聚混合物，用來改進(jìn)拉伸加工的性能，以便制得更光滑、拉伸應(yīng)變性能更好的薄膜。然而目前被使用的這些添加劑，在改善了薄膜收巻和分切性能的同時(shí)，也可能導(dǎo)致薄膜霧度升高(霧度是指薄膜的不清晰或混濁程度，是由于薄膜表面和內(nèi)部對光的散射而產(chǎn)生)，造成透明度下降。另一方面，包裝工業(yè)長期以來對低霧度、高透明、高光澤度的聚酰胺薄膜有很大的需求，該種薄膜可以使包裝表面更具有吸引力，從而剌激消費(fèi)者對該包裝產(chǎn)品的購買欲望。因此，目前急需一種具有更低霧度、更好透明度的雙向拉伸聚酰胺薄膜，以適應(yīng)包裝工業(yè)市場迫切的需求。
發(fā)明內(nèi)容本發(fā)明的目的是提供一種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，以解決現(xiàn)有的聚酰胺薄膜霧度高的問題。本發(fā)明的另一目的是提供一種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，以解決現(xiàn)有的制備方法制造出的聚酰胺薄膜霧度高的問題。本發(fā)明提出一種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其包括表層A、表層C以及由聚酰胺原料構(gòu)成的中間層B，所述表層A和所述表層C分別位于中間層B的兩側(cè)，且中間層B、表層A及表層C共同形成共擠結(jié)構(gòu)，所述表層A、表層C和中間層B均包括一種添加劑，所述添加劑至少包含一種膠狀或鏈狀的二氧化硅。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，所述添加劑中的二氧化硅可以為納米級二氧化硅，其尺寸小于100納米。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜所述添加劑中的二氧化硅包括納米級二氧化硅和微米級二氧化硅，所述納米級二氧化硅的尺寸小于100納米，所述微米級二氧化硅的尺寸在0.5-5.0微米。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，所述表層A和所述表層C的厚度在0.2-2.5微米范圍內(nèi)。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，中間層B、表層A和表層C總的厚度在6-40微米范圍內(nèi)，且所述中間層B的厚度占總厚度的50%-90%。本發(fā)明另提出一種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，其包括以下步驟(l)擠出工序在聚酰胺原料中加入一種添加劑，然后在擠出機(jī)中熔融后通過一共擠模頭擠出一聚酰胺膜片，所述聚酰胺膜片包括一表層A、一表層C以及一中間層B，所述添加劑至少包含一種膠狀或鏈狀的二氧化硅。(2)鑄片工序?qū)⒕埘０纺て鋮s到5(TC以下。(3)縱向拉伸工序?qū)⒕埘０纺て刂圃?5-8(TC的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行縱向拉伸。(4)橫向拉伸工序?qū)⒕埘０纺て刂圃?0-16(TC的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行橫向拉伸，并形成聚酰胺薄膜。(5)熱定型工序?qū)⒕埘０繁∧た刂圃?50-25(TC的范圍內(nèi)進(jìn)行定型。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，其還包括干燥工序?qū)⒓尤肓颂砑觿┑木埘０吩线M(jìn)行真空干燥，并將水份控制在500-1500ppm范圍內(nèi)。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，在對聚酰胺膜片雙向拉伸后還進(jìn)一步包括步驟對拉伸后的聚酰胺薄膜進(jìn)行電暈處理，使薄膜的表面張力達(dá)到52mN/m以上。依照本發(fā)明較佳實(shí)施例所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，所述添加劑中的二氧化硅包含尺寸小于100納米的納米級二氧化硅。相對于現(xiàn)有技術(shù)，本發(fā)明的有益效果是1、本發(fā)明通過在聚酰胺原料中添加含有二氧化硅的添加劑，大大減少了聚酰胺膜片上存在的間隙，從而使聚酰胺薄膜可以具備良好的光學(xué)性能，例如很低的霧度、很高的光澤度和透明度等。2、本發(fā)明所采用的添加劑中，既含有納米級的二氧化硅，又可以含有微米級的二氧化硅，從而使聚酰胺薄膜在低霧度的基礎(chǔ)上，又具備良好的加工性能，特別是分切收巻性能。3、本發(fā)明在對聚酰胺薄膜雙向拉伸后，還可以對薄膜進(jìn)行電暈處理，使薄膜表面具有較強(qiáng)的張力，有利于提高聚酰胺薄膜的生產(chǎn)良率，以及提高薄膜使用過程中的韌性。當(dāng)然，實(shí)施本發(fā)明的任一產(chǎn)品并不一定需要同時(shí)達(dá)到以上所述的所有優(yōu)點(diǎn)。圖1為本發(fā)明低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜制備方法的一種實(shí)施例流程圖。具體實(shí)施例方式本發(fā)明的主要思想是在聚酰胺原料中添加含有二氧化硅的添加劑，因?yàn)槎趸枧c聚酰胺之間有良好的粘結(jié)性，因此在聚酰胺膜片拉伸后會(huì)使薄膜上的空隙較少。而由于空隙是造成薄膜霧度增加的主要原因，因此使得添加有二氧化硅的聚酰胺薄膜可以具備良好的光學(xué)性能，例如很低的霧度、很高的光澤度和透明度等。并且，所采用的二氧化硅顆粒越小，會(huì)使薄膜上的空隙越少，則霧度則越低。本發(fā)明的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其包括有三層結(jié)構(gòu)表層A、中間層B和表層C。表層A和表層C分別位于中間層B的兩側(cè)，表層A和表層C的厚度可以相同，也可以不同，一般大于O.liim，通常在O.2-2.5iim范圍內(nèi)，較好在0.5-1.8iim范圍內(nèi)。整個(gè)三層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的厚度，一般在6-40ym范圍內(nèi)，較好在10-25ym范圍內(nèi)。中間層8的厚度占所有厚度的50%-90%。并且，中間層B、表層A及表層C共同形成共擠結(jié)構(gòu)。這里所說的共擠結(jié)構(gòu)是指表層A、中間層B和表層C的聚合物是分別經(jīng)過三個(gè)螺桿擠出機(jī)擠出的，然后通過共擠模頭后進(jìn)入鑄片、拉伸、熱定型等工序，最終形成多層共擠的聚酰胺薄膜。其中，表層A和表層C的原料可以與中間層B層不同，但最好使用與B層相同的聚酰胺原料。本發(fā)明用于生產(chǎn)雙向拉伸聚酰胺薄膜的原料，可以是聚酰胺6(PA6或稱Nylon6)、聚酰胺66(PA66或稱Nylon66)及其共聚聚酰胺等，最好是PA6。所用聚酰胺6的特性粘度RV—般為2.5-3.5，較好為2.8-3.0。用于表層與中間層的聚酰胺原料特性粘度不能相差很大，以免生產(chǎn)過程中產(chǎn)生流動(dòng)不穩(wěn)定，使薄膜有條紋。為了使聚酰胺薄膜具有更好性能，本發(fā)明所使用的添加劑可以包括但不限于穩(wěn)定劑、抗靜電劑、潤滑劑、抗氧化劑、紫外光吸收劑、抗粘連劑等。這些添加劑可以采用母切片的方法，即在聚合過程中添加添加劑，也可以采用聚合物擠出熔融共混得方法。其中，抗粘連劑分為有機(jī)添加劑和無機(jī)添加劑，包括但不限于碳酸鈣、二氧化硅、滑石粉、碳酸鎂、碳酸鋇、磷酸鈣、氧化鋁、二氧化鈦、炭黑、高嶺土、交聯(lián)丙烯酸酯等。本發(fā)明所選的抗粘連劑可以采用相同化學(xué)成分、不同顆粒大小的上述添加劑，也可以采用兩種或兩種以上不同化學(xué)成分的添加劑。這些添加劑可以采用不同的方法、以不同的濃度添加到雙向拉伸聚酰胺薄膜的各層中。表層A和表層C中抗粘連劑的濃度一般為0.01%-0.4%(重量百分比)，較好為0.04%-0.2%。中間層B中抗粘連劑的濃度一般為0.001%-0.1%，較好為0.001%-0.02%。整個(gè)薄膜抗粘連劑的含量一般小于0.2%，最好小于0.16%。值得注意的是，本發(fā)明的重點(diǎn)就在于表層A、中間層B和表層C中均添加了含有二氧化硅的添加劑，可以大大降低聚酰胺薄膜的霧度，提高薄膜的透明度。而這種二氧化硅可以是膠狀或鏈狀的，且為了提高添加劑和聚酰胺之間的結(jié)合力，以及減小拉伸后薄膜上的空隙，本發(fā)明所用的二氧化硅可以是一種納米級二氧化硅，其尺寸一般小于100nm，較好在20-50nm范圍內(nèi)。同時(shí)為使所制的雙向拉伸聚酰胺薄膜有良好的加工性能，特別是分切收巻性能，本發(fā)明也可以采用微米級二氧化硅，其尺寸一般在0.5-5.0iim，較好在1.0-2.5ym范圍內(nèi)。本發(fā)明中，納米級的二氧化硅主要可以應(yīng)用在表層A和表層C中，微米級二氧化硅可以應(yīng)用于各層中。本發(fā)明另提出了上述低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，請參見圖l，其包括以下步驟Sll，擠出工序在聚酰胺原料中加入一種添加劑，然后在擠出機(jī)中熔融后通過一共擠模頭擠出一聚酰胺膜片，所述聚酰胺膜片包括一表層A、一表層C以及一中間層B，所述添加劑至少包含一種膠狀或鏈狀的二氧化硅。所用的二氧化硅可以是一種納米級二氧化硅，其尺寸一般小于100nm，較好在20-50nm范圍內(nèi)。同時(shí)為使所制的雙向拉伸聚酰胺薄膜有良好的加工性能，特別是分切收巻性能，也可以采用微米級二氧化硅，其尺寸一般在0.5-5.0iim，較好在1.0-2.5ym范圍內(nèi)。本發(fā)明中，納米級的二氧化硅主要可以應(yīng)用在表層A和表層C中，微米級二氧化硅可以應(yīng)用于各層中。另外，聚酰胺原料可以在擠出前進(jìn)行真空干燥工序，使其水分保持在500-1500ppm范圍內(nèi)，最好在800-1000ppm范圍內(nèi)。S12，鑄片工序?qū)⒕埘０纺て鋮s到5(TC以下，最好小于2(rC。為了獲得良好的鑄片效果，可以采用靜電輔助鑄片或氣流輔助鑄片，最好為靜電輔助鑄片。S13，縱向拉伸工序?qū)⒕埘０纺て刂圃?5-8(TC的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行縱向拉伸，可以用兩個(gè)不同速度的輥筒按預(yù)先設(shè)定的不同拉伸倍率進(jìn)行拉伸，縱拉倍率一般為2.5:i-5.o:1，最好為3.0:i-4.o:i?？v向拉伸可以一段進(jìn)行，也可以分為二段進(jìn)行。S14，橫向拉伸工序?qū)⒕埘０纺て刂圃?0-16(TC的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行橫向拉伸，并形成聚酰胺薄膜，此過程可以在帶夾子的烘箱中進(jìn)行。橫向拉伸的倍率一般為3.0:1-5.0:1，最好為3.5:1-4.5:i。特別地，上述縱向拉伸工序與橫向拉伸工序的先后順序可以根據(jù)實(shí)際需要進(jìn)行調(diào)整。而本實(shí)施例采用的縱向拉伸在橫向拉伸之前是一種較佳的實(shí)施方式，其原因是便于聚酰胺分子鏈的取向。S15，熱定型工序?qū)⒕埘０繁∧た刂圃?50-250°C的范圍內(nèi)進(jìn)行定型，時(shí)間一般為1-15秒。通過上述制備方法所制得的雙向拉伸聚酰胺薄膜不僅具有良好的光學(xué)性能，例如很高的光澤度和透明度，很低的霧度，而且具有良好的可加工性，特別是收巻分切性能良好，請參見表l，其為生產(chǎn)聚酰胺薄膜各項(xiàng)特征指標(biāo)的參數(shù)項(xiàng)目單位發(fā)明指標(biāo)較好測試方法厚度6-4010-25GB/T6672-2001光澤度(60°)->170>185GB/T2410-1980霧度%<2.0<1.5GB/T2410-1980摩擦系數(shù)(動(dòng))-<0.6<0.5GB/T10006-1988添力口劑含量表面層%0.01-0.40.04-0.2-中間層%O扁-O.l0.001-0.02-總量%<0.2<0.16-添力口劑尺寸納米級顆粒nm<10020-50-;微米級顆粒0.5-5,01.0-2,5-表16為了更深入地了解本發(fā)明，發(fā)明人通過大量的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)和實(shí)驗(yàn)結(jié)果，用以證明生產(chǎn)本發(fā)明的聚酰胺薄膜所需最佳的參數(shù)，以及揭示本發(fā)明的聚酰胺薄膜所具備的突出的光學(xué)性能和良好的可加工性。下述表2是發(fā)明人實(shí)驗(yàn)時(shí)所采用的聚酰胺原料。其中，母切片1(粘度RV=2.8)中含有硅S350(粒徑為1.8iim)10%，母切片2中含有硅0X-50(粒徑為50nm)1000卯m。上述母切片均是采用聚酰胺6切片和二氧化硅擠出熔融共混制得。編號<table>tableseeoriginaldocumentpage7</column></row><table>卯mRV=2.8表2下述的El-E4是本發(fā)明的共擠聚酰胺薄膜改變不同原料和參數(shù)的實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)。El:ABC三層共擠結(jié)構(gòu)，其中中間層B層所用原料為100X切片V，表層A層和表層C所用原料都是99%(重量比)的切片V和1X(重量比)的切片MB1。原料經(jīng)過真空干燥后經(jīng)過擠出機(jī)熔融擠出，三層原料通過共擠模頭，靜電吸附在冷鼓上鑄片，厚片經(jīng)過縱向拉伸、橫向拉伸、熱定型、松弛、牽引、收巻制成厚度為15ym的聚酰胺薄膜，其中A層和C層厚度為2ym。薄膜具有很低的霧度、很高的光澤度，但加工性能不良，收巻處大膜巻表觀有少許縱向條紋。E2:ABC三層共擠結(jié)構(gòu)，其中中間層B層所用原料為100%切片V，表層A層和表C所用原料都是98.5%(重量比)的切片V和1.5X(重量比)的切片MB1。原料經(jīng)過真空干燥后經(jīng)過擠出機(jī)熔融擠出，三層原料通過共擠模頭，靜電吸附在冷鼓上鑄片，厚片經(jīng)過縱向拉伸、橫向拉伸、熱定型、松弛、牽引、收巻制成厚度為15ym的聚酰胺薄膜，其中A層和C層厚度為2ym。薄膜具有較低的霧度、較高的光澤度，加工性能尚可，收巻基本正常。E3:ABC三層共擠結(jié)構(gòu)，其中中間層B層所用原料為99.84X切片V和0.16X的MB1，表層A層和C層所用原料都是59.4X(重量比)的切片V，0.6X(重量比)的切片MB1和40%(重量比)的切片MB2。原料經(jīng)過真空干燥后經(jīng)過擠出機(jī)熔融擠出，三層原料通過共擠模頭，靜電吸附在冷鼓上鑄片，厚片經(jīng)過縱向拉伸、橫向拉伸、熱定型、松弛、牽引、收巻制成厚度為15ym的聚酰胺薄膜，其中A層和C層厚度為2i！m。薄膜具有很低的霧度、很高的光澤度，加工性能非常好。E4:ABC三層共擠結(jié)構(gòu)，其中中間層B層的原料是100X的切片V。表層A層和C層所用原料都是59.4%(重量比)的切片V，0.6X(重量比)的切片MB1和40X(重量比)的切片MB2。原料經(jīng)過真空干燥后經(jīng)過擠出機(jī)熔融擠出，三層原料通過共擠模頭，靜電吸附在冷鼓上鑄片，厚片經(jīng)過縱向拉伸、橫向拉伸、熱定型、松弛、牽引、收巻制成厚度為25踐的聚酰胺薄膜，其中A層和C層厚度為3.5ym。薄膜具有很低的霧度、很高的光澤度，加工性能非常好。E5:ABC三層共擠結(jié)構(gòu)，其中中間層B層的原料由為99.84%切片V和0.16%MB1組成。表層A層和C層所用原料都是72.47X(重量比)的切片V，0.53X(重量比)的切片MB1和27.0X(重量比)的切片MB2。原料經(jīng)過真空干燥后經(jīng)過擠出機(jī)熔融擠出，三層原料通過共擠模頭，靜電吸附在冷鼓上鑄片，厚片經(jīng)過縱向拉伸、橫向拉伸、熱定型、松弛、牽引、收巻制成厚度為10ym的聚酰胺薄膜，其中A層和C層厚度為1iim。薄膜具有很低的霧度、很高的光澤度，加工性能非常好。下述表3是實(shí)施例El-E5的薄膜結(jié)構(gòu)參數(shù)。表4為實(shí)施例El-E5的薄膜性能對比。<table>tableseeoriginaldocumentpage8</column></row><table><table>tableseeoriginaldocumentpage9</column></row><table>表4注◎:表示不會(huì)粘輥，收巻不會(huì)發(fā)粘，沒有縱向條紋，非常好的加工性能。〇表示不會(huì)粘輥，收巻不會(huì)發(fā)粘，沒有縱向條紋，良好的加工性能?！?表示不會(huì)粘輥，收巻不會(huì)發(fā)粘，沒有縱向條紋，加工性能尚可。X:表示不會(huì)粘輥，收巻不會(huì)發(fā)粘，有少許縱向條紋，加工性能不良。本發(fā)明通過在聚酰胺原料中添加含有二氧化硅的添加劑，大大減少了聚酰胺膜片上存在的間隙，從而使聚酰胺薄膜可以具備良好的光學(xué)性能，例如很低的霧度、很高的光澤度和透明度等。以上公開的僅為本發(fā)明的幾個(gè)具體實(shí)施例，但本發(fā)明并非局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員能思之的變化，都應(yīng)落在本發(fā)明的保護(hù)范圍內(nèi)。權(quán)利要求一種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其特征在于，包括一表層A、一表層C以及由聚酰胺原料構(gòu)成的一中間層B，所述表層A和所述表層C分別位于中間層B的兩側(cè)，且中間層B、表層A及表層C共同形成共擠結(jié)構(gòu)，所述表層A、表層C和中間層B均包括一種添加劑，所述添加劑至少包含一種膠狀或鏈狀的二氧化硅。2.如權(quán)利要求1所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其特征在于，所述添加劑中的二氧化硅為納米級二氧化硅，其尺寸小于100納米。3.如權(quán)利要求1所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其特征在于，所述添加劑中的二氧化硅包括納米級二氧化硅和微米級二氧化硅，所述納米級二氧化硅的尺寸小于100納米，所述微米級二氧化硅的尺寸在0.5-5.0微米。4.如權(quán)利要求1所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其特征在于，所述表層A和所述表層C的厚度在0.2-2.5微米范圍內(nèi)。5.如權(quán)利要求1所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜，其特征在于，中間層B、表層A和表層C總的厚度在6-40微米范圍內(nèi)，且所述中間層B的厚度占總厚度的50%-90%。6.—種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，其特征在于，包括以下步驟(1)擠出工序在聚酰胺原料中加入一種添加劑，然后在擠出機(jī)中熔融后通過一共擠模頭擠出一聚酰胺膜片，所述聚酰胺膜片包括一表層A、一表層C以及一中間層B，所述添加劑至少包含一種膠狀或鏈狀的二氧化硅；(2)鑄片工序?qū)⒕埘０纺て鋮s到5(TC以下；(3)縱向拉伸工序?qū)⒕埘０纺て刂圃?5-8(TC的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行縱向拉伸；(4)橫向拉伸工序?qū)⒕埘０纺て刂圃?0-16(TC的溫度范圍內(nèi)進(jìn)行橫向拉伸，并形成聚酰胺薄膜；(5)熱定型工序?qū)⒕埘０繁∧た刂圃?50-25(TC的范圍內(nèi)進(jìn)行定型。7.如權(quán)利要求6所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，其特征在于，其還包括干燥工序?qū)⒓尤肓颂砑觿┑木埘０吩线M(jìn)行真空干燥，并將水份控制在500-1500ppm范圍內(nèi)。8.如權(quán)利要求6所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，其特征在于，在對聚酰胺膜片雙向拉伸后還進(jìn)一步包括步驟對拉伸后的聚酰胺薄膜進(jìn)行電暈處理，使薄膜的表面張力達(dá)到52mN/m以上。9.如權(quán)利要求6所述的低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜的制備方法，其特征在于，所述添加劑中的二氧化硅包含尺寸小于100納米的納米級二氧化硅。全文摘要本發(fā)明提出一種低霧度的多層共擠雙向拉伸聚酰胺薄膜及制備方法，其雙向拉伸聚酰胺薄膜包含至少三層的共擠結(jié)構(gòu)，即含有兩個(gè)表面層A層和C層、一個(gè)中間層B層，表面A層和C層中含有抗粘連劑。本發(fā)明還公開了該雙向拉伸聚酰胺薄膜的生產(chǎn)方法，包括聚酰胺原料制備、擠出、鑄片、拉伸、熱定型、松弛、牽引、收卷等步驟。本發(fā)明的雙向拉伸聚酰胺薄膜具有低霧度、高光澤度、高透明度的優(yōu)點(diǎn)，可以廣泛應(yīng)用于包裝工業(yè)領(lǐng)域。文檔編號B29B13/06GK101722700SQ20091019882公開日2010年6月9日申請日期2009年11月16日優(yōu)先權(quán)日2009年11月16日發(fā)明者孫明杰,莊國興申請人:上海紫東化工材料有限公司