一種用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及一種用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載。
【背景技術(shù)】
[0002]工業(yè)的高速發(fā)展以及生活活動的不斷增加，使得大氣污染狀況持續(xù)惡化。以往的機(jī)械過濾、液體吸附、固體吸附、靜電吸附、催化轉(zhuǎn)化、生物吸附等技術(shù)對大氣污染的治理起著重要的作用。但隨著污染物成分的復(fù)雜化、濃度增大，這些技術(shù)的效率低、二次污染、腐蝕設(shè)備、工藝復(fù)雜、投資大、運(yùn)行費(fèi)用高等缺點(diǎn)逐漸顯露出來。而低溫等離子體技術(shù)作為國際環(huán)境科技領(lǐng)域內(nèi)的尖端技術(shù)，在降解處理有毒有害廢氣方面顯示了其能耗低、投資少、運(yùn)行費(fèi)用低、處理效率高、無二次污染的顯著優(yōu)點(diǎn)。
[0003]低溫等離子體是繼固態(tài)、液態(tài)、氣態(tài)之后的物質(zhì)第四態(tài)。低溫等離子體治理異味氣體是利用產(chǎn)生的高能電子的作用，通過碰撞將能量轉(zhuǎn)化為污染物分子的內(nèi)能或動能，這些獲得能量的分子被激發(fā)或發(fā)生電離形成活性基團(tuán)，同時(shí)空氣中的氧氣和水分在高能電子的作用下也可產(chǎn)生大量的新生態(tài)氫、臭氧和羥基氧等活性基團(tuán)。廢氣中的異味污染物質(zhì)與這些具有較高能量的活性基團(tuán)發(fā)生反應(yīng)后被分解，從而達(dá)到凈化廢氣的目的。
[0004]目前由于低溫等離子體單元負(fù)載結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)的原因，造成了低溫等離子體廢氣處理設(shè)備不能很好連續(xù)穩(wěn)定地運(yùn)行，使得低溫等離子體設(shè)備在處理異味氣體時(shí)，受到了限制。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]由于現(xiàn)有技術(shù)存在著上述問題，本實(shí)用新型提出一種用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載，其可以有效的解決現(xiàn)有技術(shù)的上述問題。
[0006]本實(shí)用新型通過以下技術(shù)方案解決上述問題:
[0007]一種用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載，包括:一框架，其由多個(gè)側(cè)面板組合而成，且各所述側(cè)面板間隔形成多個(gè)容納腔，各所述側(cè)面板上固定有一上法蘭板；多個(gè)單元負(fù)載，其分別一一對應(yīng)的設(shè)于所述容納腔中，每一所述單元負(fù)載包括一蜂窩板以及分別設(shè)于所述蜂窩板四個(gè)角上的四個(gè)正極柱；其中:所述正極柱與其相鄰的側(cè)面板之間的距離為100毫米?200毫米，且所述正極柱到其相鄰的上法蘭板與該正極柱到其相鄰的側(cè)面板之間的角度為45°?65°。
[0008]兩個(gè)相鄰的單元負(fù)載上的相鄰的兩個(gè)正極柱之間的距離為100毫米?200毫米。
[0009]本實(shí)用新型的用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載能克服高頻電源之間的相互干擾，確保低溫等離子體連續(xù)安全穩(wěn)定正常運(yùn)行，極大地提高了低溫等離子廢氣處理裝置的處理效率。
【附圖說明】
[0010]圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0011]圖2是本實(shí)用新型的正極柱到上法蘭板以及正極柱到側(cè)面板之間的夾角示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0012]下面結(jié)合【具體實(shí)施方式】，詳細(xì)描述本實(shí)用新型。
[0013]參見圖1和圖2所示，圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是本實(shí)用新型的正極柱到上法蘭板以及正極柱到側(cè)面板之間的夾角示意圖。
[0014]本實(shí)施例的低溫等離子體單元負(fù)載，包括:框架和多個(gè)單元負(fù)載。所述框架，其由多個(gè)側(cè)面板I組合而成，且各所述側(cè)面板間隔形成多個(gè)容納腔2，各所述側(cè)面板I上固定有一上法蘭板3。多個(gè)單元負(fù)載4，其分別一一對應(yīng)的設(shè)于所述容納腔2中。每一所述單元負(fù)載4包括一蜂窩板41以及分別設(shè)于所述蜂窩板四個(gè)角上的四個(gè)正極柱42。
[0015]其中:每一所述正極柱42與其相鄰的側(cè)面板I之間的距離記為a，如圖1所示，該距離a在100毫米到200毫米之間，且所述正極柱42到其相鄰的上法蘭板3與該正極柱42到其相鄰的側(cè)面板I之間的角度記為α，且如圖2所示，該角度α在45°到65°之間。
[0016]參見圖1所示，兩個(gè)相鄰的單元負(fù)載4上的相鄰的兩個(gè)正極柱之間的距離記為b，該距離b為100毫米到200毫米之間。
[0017]應(yīng)理解，這些實(shí)施方式僅用于說明本實(shí)用新型而不用于限制本實(shí)用新型的范圍。此外應(yīng)理解，在閱讀了本實(shí)用新型講授的內(nèi)容之后，本領(lǐng)域技術(shù)人員可以對本實(shí)用新型作各種改動或修改，這些等價(jià)形式同樣落于本申請所附權(quán)利要求書所限定的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載，其特征在于，包括: 一框架，其由多個(gè)側(cè)面板組合而成，且各所述側(cè)面板間隔形成多個(gè)容納腔，各所述側(cè)面板上固定有一上法蘭板； 多個(gè)單元負(fù)載，其分別一一對應(yīng)的設(shè)于所述容納腔中，每一所述單元負(fù)載包括一蜂窩板以及分別設(shè)于所述蜂窩板四個(gè)角上的四個(gè)正極柱； 其中:所述正極柱與其相鄰的側(cè)面板之間的距離為100毫米?200毫米，且所述正極柱到其相鄰的上法蘭板與該正極柱到其相鄰的側(cè)面板之間的角度為45°?65°。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載，其特征在于:兩個(gè)相鄰的單元負(fù)載上的相鄰的兩個(gè)正極柱之間的距離為100毫米?200毫米。
【專利摘要】本實(shí)用新型公開一種用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載，包括：一框架，其由多個(gè)側(cè)面板組合而成，且各所述側(cè)面板間隔形成多個(gè)容納腔，各所述側(cè)面板上固定有一上法蘭板；多個(gè)單元負(fù)載，其分別一一對應(yīng)的設(shè)于所述容納腔中，每一所述單元負(fù)載包括一蜂窩板以及分別設(shè)于所述蜂窩板四個(gè)角上的四個(gè)正極柱；其中：所述正極柱與其相鄰的側(cè)面板之間的距離為100毫米～200毫米，且所述正極柱到其相鄰的上法蘭板與該正極柱到其相鄰的側(cè)面板之間的角度為45°～65°。本實(shí)用新型的用于廢氣處理的低溫等離子體單元負(fù)載能克服高頻電源之間的相互干擾，確保低溫等離子體連續(xù)安全穩(wěn)定正常運(yùn)行，極大地提高了低溫等離子廢氣處理裝置的處理效率。
【IPC分類】B01D53-32
【公開號】CN204365114
【申請?zhí)枴緾N201420873373
【發(fā)明人】冼耀華, 武彥斌, 張建林, 戴雪根
【申請人】上海盛大環(huán)?？萍加邢薰?br>【公開日】2015年6月3日
【申請日】2014年12月30日