射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提出了一種射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，包括圓環(huán)管，所述圓環(huán)管上均布設(shè)置數(shù)個霧化噴頭，所述霧化噴頭的軸線與所述圓環(huán)管環(huán)面的夾角為55～65度，所述霧化噴頭兩兩間的距離為50～65mm。本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)巧妙，霧化效果好，噴出的霧粒度最小為幾個微米至幾十個微米，能滿足射霧降塵設(shè)備霧化系統(tǒng)的特殊要求。
【專利說明】
射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型屬于環(huán)保設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)。
【背景技術(shù)】
[0002]目前市場上射霧降塵設(shè)備很多，但功能單一，只能噴射普通的清水，并且所噴射出的霧粒直徑一般為幾百微米，顆粒度大，霧粒在空中停留時間短，對塵埃的吸附力不強(qiáng)，特別是對于空氣中直徑小于或等于2.5微米的顆粒物，其吸附力很弱，使除塵凈化空氣效果大打折扣。PM2.5雖然只是大氣成分中很小的組分，但它對空氣質(zhì)量和能見度有很大影響，與較粗大的大氣顆粒物相比，PM2.5直徑小，含有大量有毒有害物質(zhì)(細(xì)顆粒物的化學(xué)成分主要包括有機(jī)碳(OC)、元素碳(EC)、硝酸鹽、硫酸鹽、銨鹽、鈉鹽(Na+)等)，在大氣中停留時間長，飄浮距離遠(yuǎn)，對人體健康和大氣質(zhì)量影響更大，所以一臺射霧降塵設(shè)備的好壞，能否去除PM2.5是一個很重要的指標(biāo)。
[0003]中國專利CN204494612U公開了一種可消除PM2.5污染的雙流體射霧降塵空氣凈化設(shè)備，其去除PM2.5的效果明顯。射霧降塵設(shè)備的霧化系統(tǒng)對其功效的發(fā)揮至關(guān)重要?，F(xiàn)有的霧化環(huán)難以滿足射霧降塵設(shè)備的霧化系統(tǒng)的特殊要求。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0004]本實(shí)用新型的目的是提出一種射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，能滿足射霧霧降塵設(shè)備的霧化系統(tǒng)的特殊要求。
[0005]本實(shí)用新型的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:一種射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，包括圓環(huán)管，所述圓環(huán)管上均布設(shè)置數(shù)個霧化噴頭，所述霧化噴頭的軸線與所述圓環(huán)管環(huán)面的夾角為55?65度，所述霧化噴頭兩兩間的距離為50?65mm。
[0006]較優(yōu)地，所述霧化噴頭包括包括噴頭本體，所述噴頭本體設(shè)有進(jìn)液直通道、頸縮通道及增壓腔，所述增壓腔的內(nèi)徑大于頸縮通道的內(nèi)徑，所述增壓腔內(nèi)設(shè)有渦流腔，所述渦流腔通過渦流腔進(jìn)孔與所述增壓腔連通，所述渦流腔設(shè)有噴孔，所述渦流腔進(jìn)孔設(shè)于靠近所述渦流腔的內(nèi)壁。
[0007]圓環(huán)管中的液體從進(jìn)液直通道進(jìn)入霧化噴頭，頸縮通道使得液體流過后壓力增大，液體進(jìn)入增壓腔后流速減緩，壓力增大，然后高速由渦流腔進(jìn)孔進(jìn)入渦流腔形成強(qiáng)渦流并霧化，最后從噴孔噴出霧化液體。
[0008]較優(yōu)地，所述渦流腔進(jìn)口的數(shù)量為四個，且環(huán)向均布。
[0009]進(jìn)一步地，所述噴孔由噴孔第一段和噴孔第二段組成，所述噴孔第一段的直徑小于所述噴孔第二段的直徑，可增強(qiáng)霧化效果。
[0010]較優(yōu)地，所述所述噴孔第一段的直徑為I?1.5mm，所述噴孔第二段的直徑為2?3mm ο
[0011 ]本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)巧妙，霧化效果好，噴出的霧粒度最小為幾個微米至幾十個微米，能滿足射霧降塵設(shè)備霧化系統(tǒng)的特殊要求。
【附圖說明】
[0012]圖1為本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)不意圖；
[0013]圖2為圖1中的右視圖不意圖；
[0014]圖3為霧化噴頭的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0015]圖4為渦流腔外殼的橫剖面示意圖；
[0016]圖5為嗔孔的結(jié)構(gòu)不意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0017]下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖，對本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述，顯然，所描述的實(shí)施例僅僅是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例?；诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有作出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。
[0018]如圖1和圖2所示的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，包括圓環(huán)管1，所述圓環(huán)管上均布設(shè)置數(shù)個霧化噴頭2，所述霧化噴頭的軸線與所述圓環(huán)管環(huán)面的夾角α為60度，所述霧化噴頭兩兩間的距離c為60mm。
[0019]如圖3至圖5所示的霧化噴頭，包括噴頭本體21，噴頭本體21順序設(shè)有進(jìn)液直通道22、頸縮通道23及增壓腔24，增壓腔24的內(nèi)徑顯著大于頸縮通道23的內(nèi)徑，增壓腔24內(nèi)設(shè)有渦流腔25，渦流腔外殼28從增壓腔24的下部向上延伸形成一個封閉的渦流腔25，渦流腔通過四個渦流腔進(jìn)孔26與增壓腔24連通，渦流腔進(jìn)孔26設(shè)于靠近渦流腔25的內(nèi)壁，以使液體進(jìn)入渦流腔25后形成渦流，渦流腔26設(shè)有三個噴孔27，噴孔7由噴孔第一段271和噴孔第二段272組成，噴孔第一段271的直徑dl為1.2mm，噴孔第二段272的直徑d2為2.4mm，噴頭本體21的外圓設(shè)有外螺紋，與圓環(huán)管I螺紋連接。
[0020]以上所述僅為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施例而已，并不用以限制本實(shí)用新型，凡在本實(shí)用新型的精神和原則之內(nèi)，所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等，均應(yīng)包含在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍之內(nèi)。
【主權(quán)項】
1.一種射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，包括圓環(huán)管，所述圓環(huán)管上均布設(shè)置數(shù)個霧化噴頭，其特征在于:所述霧化噴頭的軸線與所述圓環(huán)管環(huán)面的夾角為55?65度，所述霧化噴頭兩兩間的距離為50?65mm。2.如權(quán)利要求1所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述霧化噴頭的軸線與所述圓環(huán)管環(huán)面的夾角為60度，所述霧化噴頭兩兩間的距離為60mm。3.如權(quán)利要求1或2所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述霧化噴頭包括噴頭本體，所述噴頭本體設(shè)有進(jìn)液直通道、頸縮通道及增壓腔，所述增壓腔的內(nèi)徑大于頸縮通道的內(nèi)徑，所述增壓腔內(nèi)設(shè)有渦流腔，所述渦流腔通過渦流腔進(jìn)孔與所述增壓腔連通，所述渦流腔設(shè)有噴孔，所述渦流腔進(jìn)孔設(shè)于靠近所述渦流腔的內(nèi)壁。4.如權(quán)利要求3所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述渦流腔進(jìn)口的數(shù)量為四個，且環(huán)向均布。5.如權(quán)利要求4所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述噴孔由噴孔第一段和噴孔第二段組成，所述噴孔第一段的直徑小于所述噴孔第二段的直徑。6.如權(quán)利要求5所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述噴孔的數(shù)量為三個。7.如權(quán)利要求6所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述噴孔第一段的直徑為.1?1.5mm，所述噴孔第二段的直徑為2?3mm。8.如權(quán)利要求7所述的射霧降塵設(shè)備的霧化環(huán)，其特征在于:所述噴孔第一段的直徑為.1.2mm，所述噴孔第二段的直徑為2.4mm。
【文檔編號】B05B13/02GK205650365SQ201620318504
【公開日】2016年10月19日
【申請日】2016年4月18日 公開號201620318504.2, CN 201620318504, CN 205650365 U, CN 205650365U, CN-U-205650365, CN201620318504, CN201620318504.2, CN205650365 U, CN205650365U
【發(fā)明人】劉冠甫, 劉軒甫
【申請人】昆明奧圖環(huán)保設(shè)備股份有限公司