倒置電解池的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實(shí)用新型涉及電化學(xué)電解池領(lǐng)域，特別涉及一種倒置電解池。
【背景技術(shù)】
[0002]目前利用模板輔助電化學(xué)沉積法制備納米材料主要是利用電鍍液的重力作用使電鍍液與模板接觸，將模板放在電解池的底部，也就是電鍍液在上，模板在下，最終的沉積得到的納米材料受到重力(有助于沉積影響的)的影響。而對(duì)于想觀察重力對(duì)沉積不利影響的實(shí)驗(yàn)或者不需重力作用的時(shí)候便不能使用當(dāng)前廣泛使用的電解池。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003]本實(shí)用新型所要解決的技術(shù)問題是提供一種能觀察重力對(duì)沉積不利影響的實(shí)驗(yàn)或者不需重力作用的倒置電解池。
[0004]為解決上述問題，本實(shí)用新型提供一種倒置電解池，包括一端具有凹槽的框架及用于將樣品固定在所述框架所述凹槽內(nèi)的一固定件；所述凹槽底部附有一層金片；所述凹槽底部設(shè)置有與所述金片連接的一根銅引線；所述銅引線從框架的另一端的開口處穿出。
[0005]進(jìn)一步地，所述凹槽內(nèi)側(cè)設(shè)置有螺紋。
[0006]進(jìn)一步地，所述固定件是帶有螺紋的圓環(huán)，所述圓環(huán)能旋入所述凹槽中，從而將樣品固定在凹槽中。
[0007]進(jìn)一步地，所述框架和所述圓環(huán)的材料是聚四氟乙烯。
[0008]進(jìn)一步地，所述框架的形狀呈火炬狀。
[0009]本實(shí)用新型提供的一種倒置電解池，可以使得電鍍液在下，而樣品在上，使納米材料沉積的方向與重力相反，進(jìn)而能觀察重力對(duì)沉積不利影響。
【附圖說明】
[0010]圖1為本實(shí)用新型實(shí)施例提供的倒置電解池的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0011]參見圖1，本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種倒置電解池，包括一端具有凹槽5的框架2及用于將樣品固定在框架內(nèi)凹槽5的一固定件；凹槽5底部附有一層金片3 ;凹槽5底部設(shè)置有與金片3連接的一根銅引線I ;銅引線I從框架2的另一端的開口處穿出。凹槽5內(nèi)側(cè)設(shè)置有螺紋。固定件是帶有螺紋的圓環(huán)4，圓環(huán)4能旋入凹槽5中，從而將樣品固定在凹槽5中?？蚣?和圓環(huán)的材料是聚四氟乙烯?？蚣?的形狀可以呈火炬狀。
[0012]本實(shí)用新型提供的一種倒置電解池，可以使得電鍍液在下，而樣品在上，使納米材料沉積的方向與重力相反，金屬電沉積時(shí)，原子可以抵抗重力的影響，可以改變常規(guī)的沉積材料的形貌，進(jìn)而能觀察重力對(duì)沉積不利影響。
[0013]最后所應(yīng)說明的是，以上【具體實(shí)施方式】僅用以說明本實(shí)用新型的技術(shù)方案而非限制，盡管參照實(shí)例對(duì)本實(shí)用新型進(jìn)行了詳細(xì)說明，本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員應(yīng)當(dāng)理解，可以對(duì)本實(shí)用新型的技術(shù)方案進(jìn)行修改或者等同替換，而不脫離本實(shí)用新型技術(shù)方案的精神和范圍，其均應(yīng)涵蓋在本實(shí)用新型的權(quán)利要求范圍當(dāng)中。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種倒置電解池，其特征在于，包括一端具有凹槽的框架及用于將樣品固定在所述框架所述凹槽內(nèi)的一固定件；所述凹槽底部附有一層金片；所述凹槽底部設(shè)置有與所述金片連接的一根銅引線；所述銅引線從框架的另一端的開口處穿出。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的倒置電解池，其特征在于，所述凹槽內(nèi)側(cè)設(shè)置有螺紋。3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的倒置電解池，其特征在于，所述固定件是帶有螺紋的圓環(huán)，所述圓環(huán)能旋入所述凹槽中，從而將樣品固定在凹槽中。4.據(jù)權(quán)利要求3所述的倒置電解池，其特征在于，所述框架和所述圓環(huán)的材料是聚四氟乙稀。5.據(jù)權(quán)利要求1-3任一項(xiàng)所述的倒置電解池，其特征在于，所述框架的形狀呈火炬狀。
【專利摘要】本實(shí)用新型提供的一種倒置電解池，其包括一端具有凹槽的框架及用于將樣品固定在所述框架所述凹槽內(nèi)的一固定件；所述凹槽底部附有一層金片；所述凹槽底部設(shè)置有與所述金片連接的一根銅引線；所述銅引線從框架的另一端的開口處穿出。本實(shí)用新型提供的一種倒置電解池，可以使得電鍍液在下，而樣品在上，使納米材料沉積的方向與重力相反，進(jìn)而能觀察重力對(duì)沉積不利影響。
【IPC分類】C25D17/00
【公開號(hào)】CN204918817
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201520412223
【發(fā)明人】鄭意紅, 張宏敏, 徐勇財(cái), 張立秋, 劉立春
【申請(qǐng)人】嘉興學(xué)院
【公開日】2015年12月30日
【申請(qǐng)日】2015年6月15日