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一種在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法與流程

文檔序號:11249397閱讀:526來源:國知局
一種在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法與流程

本發(fā)明屬于管道檢測領(lǐng)域,尤其是涉及一種在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法。



背景技術(shù):

由于我國工業(yè)壓力管道安全管理起步較晚,據(jù)普查統(tǒng)計(jì)其中未焊透缺陷所占比例很大,約占了普查總隱患處的2/3。因此,針對這一長期、普遍存在的共性問題,開展在役壓力管道缺陷檢測和安全評估關(guān)鍵技術(shù)研究,是有效提高我國在役壓力管道安全狀況和科學(xué)管理水平的技術(shù)關(guān)鍵。而未焊透的深度測量是評定在用工業(yè)壓力管道等級的關(guān)鍵所在。現(xiàn)有的未焊透深度測量主要是采用試塊與缺陷處一同利用膠片成像,再采用密度計(jì)來進(jìn)行測量,由于很難比對出相同的黑度值,及未焊透缺陷成像狹窄,不能用密度計(jì)來準(zhǔn)確定位黑度值,存在“測不準(zhǔn)”的問題,則不能準(zhǔn)確判斷其深度。

針對這一問題,采用射線數(shù)字成像技術(shù)。射線數(shù)字成像技術(shù)標(biāo)志著x射線檢測技術(shù)將進(jìn)入無膠片時(shí)代,是無損檢測技術(shù)的一次革命。隨著x射線數(shù)字化采集、計(jì)算機(jī)少量存儲(chǔ)和寬帶互聯(lián)網(wǎng)的發(fā)展,未來的工業(yè)x射線檢測將具備下述特點(diǎn):圖像數(shù)字化、計(jì)算機(jī)存儲(chǔ)、網(wǎng)絡(luò)傳送、遠(yuǎn)程評定。在電腦上對圖像進(jìn)行比對分析,通過不同厚度處灰度值的不同,利用這一原理求出厚度差,進(jìn)而求出未焊透的深度。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

有鑒于此,本發(fā)明旨在提出一種在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法,可以解決上述問題。

為達(dá)到上述目的,本發(fā)明的技術(shù)方案是這樣實(shí)現(xiàn)的:

一種在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法,包括

步驟s1:選擇待檢查工件,對工件進(jìn)行射線透照;

步驟s2:按照射線的吸收規(guī)律形成反映工件信息的射線強(qiáng)度分布信號;

步驟s3:數(shù)字探測器對此信號進(jìn)行探測、轉(zhuǎn)換、數(shù)字化采樣和量化,形成檢測數(shù)字圖像;

步驟s4:傳送給圖像顯示和處理單元,供檢測人員評定。

進(jìn)一步的,所述步驟s3中形成的圖像為數(shù)字圖像。

進(jìn)一步的,數(shù)字圖像在顯示器屏幕上觀察圖像的,必須控制圖像顯示條件與觀察條件。圖像顯示條件主要是關(guān)于顯示器性能的要求,顯示器的基本性能包括亮度、分辨率、顯示亮度比、灰度級、響應(yīng)時(shí)間。

進(jìn)一步的,所述研究方法的原理在于當(dāng)強(qiáng)度均勻的射線束照射物體時(shí),如果物體局部區(qū)域存在缺陷或結(jié)構(gòu)存在差異,它將改變物體對射線的衰減,使得不同部位透射射線強(qiáng)度不同,這樣,采用一定的輻射探測器檢測透射射線強(qiáng)度,就可以判斷物體內(nèi)部的缺陷和物質(zhì)分布。

進(jìn)一步的,所述步驟s2包括射線檢測技術(shù)基于物體對比度,采用輻射探測器拾取這個(gè)物體對比度信號。

進(jìn)一步的,步驟s4包括傳送給圖像顯示和處理單元,形成不同檢測條件下的走勢對比圖,供檢測人員評定。

射線數(shù)字成像檢測系統(tǒng)由射線源、被檢工件、數(shù)字成像器件、機(jī)械支撐與傳動(dòng)以及控制與處理系統(tǒng)組成,如圖1所示,在射線源控制器作用下,射線源電場中被加速的高速電子撞擊陽極靶,產(chǎn)生一系列波長的電磁波,即x射線:x射線穿過被檢測物體,與物體原子相互作用,在光電效應(yīng)、康普頓效應(yīng)和電子對效應(yīng)等作用下,使部分光子能量和方向發(fā)生改變,通常稱為二次光子:它們與方向不發(fā)生改變的一次光子進(jìn)入成像探測器,在探測器的閃爍體屏和光電二極管等集成電子器件中完成x射線到可見光到電子信號的轉(zhuǎn)變;最后經(jīng)過離散化的數(shù)字信號在計(jì)算機(jī)完成圖像的顯示。

射線數(shù)字成像檢測系統(tǒng)中的成像器件與射線膠片照相中的膠片不同,其采用的是數(shù)字探測器系統(tǒng)。

非晶硅面陣探測器是基于大規(guī)模非晶硅光電二極管高密度、大尺寸集成技術(shù)研發(fā)的x射線數(shù)字探測器。與一般的微光成像器件一樣,是一種以光、電子累積的方式成像。非晶硅探測器包括三部分:

1)亞毫米級厚度的閃爍體屏,一般為gd2o2st和csi材料組成;

2)與閃爍體屏耦合的大規(guī)模集成的光電二極管陣列,即像元,材料為α-si;

3)像元讀出和放大電路。圖2為其射線數(shù)字成像光電轉(zhuǎn)換過程。這類型的非晶硅平板探測器是目前市場上應(yīng)用最多的平板探測器。

工作原理:x射線透照探測器,射線光子由閃爍體屏轉(zhuǎn)換為可見光,再由光電二極管陣列轉(zhuǎn)換為電信號,經(jīng)a/d轉(zhuǎn)換輸出。像素信號逐行讀出,每個(gè)像素由一個(gè)連到tft上的非晶硅光電二極管組成。每列像素信號線共同連到通用的偏置線上,通往讀出電路(放大器);一行像素共用tft的控制線,在行驅(qū)動(dòng)(門控電路)的控制下,一起打開或關(guān)閉,讀取一行上所有二極管電容存儲(chǔ)的電荷,通過多路并行列的電荷放大器累積并放大這些電荷,數(shù)字化后傳到計(jì)算機(jī)的內(nèi)存。接著進(jìn)行下一行,直至數(shù)據(jù)行全部讀出。

射線檢測技術(shù)的基本原理是,當(dāng)強(qiáng)度均勻的射線束照射物體時(shí),如果物體局部區(qū)域存在缺陷或結(jié)構(gòu)存在差異,它將改變物體對射線的衰減,使得不同部位透射射線強(qiáng)度不同,這樣,采用一定的輻射探測器檢測透射射線強(qiáng)度,就可以判斷物體內(nèi)部的缺陷和物質(zhì)分布等。

設(shè)階梯塊上有一很小的厚度差進(jìn)行檢測原理討論,如圖3所示,

設(shè):μ—階梯塊物質(zhì)的線衰減系數(shù);

i0—入射射線強(qiáng)度;

id,i′d—階梯塊上不同部位透射的一次射線強(qiáng)度;

is,i′s—階梯塊上不同部位透射的散射射線強(qiáng)度;

i,i′—階梯塊上不同部位透射射線總強(qiáng)度。

由于

i=id+is;i'=i'd+i's

并由于δt遠(yuǎn)小于t,因此可認(rèn)為

is=i's

所以有

δi=i'-i=i'd-id

在寬束射線衰減規(guī)律中有散射線比n

則有

按單色窄束射線衰減規(guī)律有

id=i0e-μt

i'd=i0e-μ(t+δt)

式中μ--工件的線衰減系數(shù);

i0--入射射線強(qiáng)度。

因此有

引用近似公式

ex=1+x(|x|<1)

則有

e-μδt=1-μδt

代入δi/i的表示式(3-1)中,則有

式(3-2)稱為“物體對比度”,它構(gòu)成了射線檢測技術(shù)需要探測的信號。式(3-2)即是射線檢測技術(shù)的基本原理關(guān)系式,它給出了一個(gè)小厚度差與對應(yīng)的射線檢測物體對比度之間的關(guān)系。從該式可見,射線對缺陷的檢測能力,與采用的射線能量、缺陷在射線透照方向上的尺寸、散射線的控制情況等相關(guān)。

射線檢測技術(shù)基于物體對比度,采用輻射探測器拾取這個(gè)物體對比度信號,并將它轉(zhuǎn)換成射線檢測圖像,從圖像信息作出判斷結(jié)論。不同類型的數(shù)字射線檢測技術(shù),采用的輻射探測器不同,完成物體對比度信號到射線檢測圖像的轉(zhuǎn)換過程不同,但共同的特點(diǎn)是,最終獲得的是數(shù)字化的射線檢測圖像。

相對于現(xiàn)有技術(shù),本發(fā)明所述的在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法可以立即通過成像的影像進(jìn)行評判,可以立即取值,通過“壓力管道射線數(shù)字成像未焊透測深系統(tǒng)”測出未焊透的深度;可以多次快速的成像,無需等待洗片時(shí)間,不僅節(jié)約了時(shí)間,也節(jié)約了大量的膠片和藥品費(fèi)用,因此,在環(huán)境保護(hù)方面的優(yōu)勢也是膠片不可比擬的。

附圖說明

構(gòu)成本發(fā)明的一部分的附圖用來提供對本發(fā)明的進(jìn)一步理解,本發(fā)明的示意性實(shí)施例及其說明用于解釋本發(fā)明,并不構(gòu)成對本發(fā)明的不當(dāng)限定。在附圖中:

圖1為本發(fā)明的射線數(shù)字成像檢測系統(tǒng)結(jié)構(gòu)圖;

圖2為x射線數(shù)字成像過程示意圖;

圖3為射線檢測基本原理示意圖;

圖4為環(huán)形缺陷與母材灰度差走勢圖;

圖5為電壓與灰度差走勢圖;

圖6為電流與灰度差走勢圖;

圖7為焦距與灰度差走勢圖;

圖8為電壓130kv下灰度差走勢圖;

圖9為電流160kv下灰度差走勢圖。

具體實(shí)施方式

需要說明的是,在不沖突的情況下,本發(fā)明中的實(shí)施例及實(shí)施例中的特征可以相互組合。

在本發(fā)明的描述中,需要理解的是,術(shù)語“中心”、“縱向”、“橫向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“豎直”、“水平”、“頂”、“底”、“內(nèi)”、“外”等指示的方位或位置關(guān)系為基于附圖所示的方位或位置關(guān)系,僅是為了便于描述本發(fā)明和簡化描述,而不是指示或暗示所指的裝置或元件必須具有特定的方位、以特定的方位構(gòu)造和操作,因此不能理解為對本發(fā)明的限制。此外,術(shù)語“第一”、“第二”等僅用于描述目的,而不能理解為指示或暗示相對重要性或者隱含指明所指示的技術(shù)特征的數(shù)量。由此,限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隱含地包括一個(gè)或者更多個(gè)該特征。在本發(fā)明的描述中,除非另有說明,“多個(gè)”的含義是兩個(gè)或兩個(gè)以上。

在本發(fā)明的描述中,需要說明的是,除非另有明確的規(guī)定和限定,術(shù)語“安裝”、“相連”、“連接”應(yīng)做廣義理解,例如,可以是固定連接,也可以是可拆卸連接,或一體地連接;可以是機(jī)械連接,也可以是電連接;可以是直接相連,也可以通過中間媒介間接相連,可以是兩個(gè)元件內(nèi)部的連通。對于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以通過具體情況理解上述術(shù)語在本發(fā)明中的具體含義。

下面將參考附圖并結(jié)合實(shí)施例來詳細(xì)說明本發(fā)明。

一種在用壓力管道射線數(shù)字成像檢測缺陷定量研究的方法,包括

步驟s1:選擇待檢查工件,對工件進(jìn)行射線透照;

步驟s2:按照射線的吸收規(guī)律形成反映工件信息的射線強(qiáng)度分布信號;

步驟s3:數(shù)字探測器對此信號進(jìn)行探測、轉(zhuǎn)換、數(shù)字化采樣和量化,形成檢測數(shù)字圖像;

步驟s4:傳送給圖像顯示和處理單元,供檢測人員評定。

所述步驟s3中形成的圖像為數(shù)字圖像。

數(shù)字圖像在顯示器屏幕上觀察圖像的,必須控制圖像顯示條件與觀察條件。圖像顯示條件主要是關(guān)于顯示器性能的要求,顯示器的基本性能包括亮度、分辨率、顯示亮度比、灰度級、響應(yīng)時(shí)間。

所述研究方法的原理在于當(dāng)強(qiáng)度均勻的射線束照射物體時(shí),如果物體局部區(qū)域存在缺陷或結(jié)構(gòu)存在差異,它將改變物體對射線的衰減,使得不同部位透射射線強(qiáng)度不同,這樣,采用一定的輻射探測器檢測透射射線強(qiáng)度,就可以判斷物體內(nèi)部的缺陷和物質(zhì)分布。

所述步驟s2包括射線檢測技術(shù)基于物體對比度,采用輻射探測器拾取這個(gè)物體對比度信號。

步驟s4包括傳送給圖像顯示和處理單元,形成不同檢測條件下的走勢對比圖,供檢測人員評定。

具體實(shí)施方案為,本技術(shù)方案選用試塊厚度為3.2mm的鋼板開不同深度的刻槽來作對比試塊,刻槽深度分別為試件厚度的15%、25%、50%以及75%,即0.48mm、0.8mm、1.6mm、2.4mm。同時(shí),分別選用2mm、4mm、6mm、8mm、10mm、12mm的鋼板也分別取其中一塊來刻槽,刻槽的深度分別為鋼板厚度的15%、25%、50%以及75%。通過研究不同厚度的灰度值不同,來判斷出缺陷處的缺陷深度,進(jìn)而研究測量未焊透深度的檢測方法。

數(shù)字射線(dr)檢測時(shí),相同條件下隨著射線穿透厚度的減少,灰度增加,利用未焊透部位灰度增加量可以推算未焊透深度。傳統(tǒng)膠片檢測常常使用對比度推算未焊透深度,在數(shù)字射線檢測技術(shù)中,數(shù)字圖像的對比度與膠片射線照相的對比度一樣,表示的也是圖像識別厚度差的能力。一般規(guī)定用△t/t(△t為可識別的厚度差,t為透照厚度)的百分比表示。對于數(shù)字射線檢測技術(shù),圖像對比度通常是指眼睛觀察到的圖像亮度對比度。盡管從入射射線到轉(zhuǎn)換出灰度圖像經(jīng)過多個(gè)環(huán)節(jié),通常還是認(rèn)為,在顯示器屏幕上觀察到的圖像亮度與射線強(qiáng)度成線性關(guān)系。即屏幕的亮度l與射線強(qiáng)度i的關(guān)系可寫為:

l=k·i

其中k為一常系數(shù)。由于物體的吸收對比度為:

因此,對由一小厚度差δt引起的亮度對比度,可以寫出:

與傳統(tǒng)膠片檢測相比,數(shù)字射線(dr)檢測也可以不使用對比度而直接讀取圖像灰度,而且數(shù)字射線(dr)檢測一般具有14位或16位的寬容度,可以對工件的厚部位和薄部位同時(shí)成像,這是傳統(tǒng)射線檢測無法實(shí)現(xiàn)的。在數(shù)字射線(dr)檢測中,選擇合適的曝光參數(shù),可以對傳統(tǒng)射線檢測部位成像的同時(shí),也對邊緣的較厚部位成像,從而測量得到真實(shí)壁厚和剩余厚度,計(jì)算得到未焊透深度。同樣的,本方法也可以定量測量管道剩余壁厚。

編號1為內(nèi)壁一道凹槽且壁厚最薄樣件,編號2為內(nèi)壁兩道凹槽樣件,;編號3為內(nèi)壁三道凹槽樣件,編號4為內(nèi)壁四道凹槽且壁厚較小樣件,編號5為內(nèi)壁四道凹槽且壁厚較厚者;編號6為帶焊縫工件。

環(huán)形缺陷灰度與周圍母材不同,環(huán)形缺陷中心部位灰度與周圍母材灰度差如圖4所示。

圖中可以看出,環(huán)形缺陷中心部位灰度與周圍母材灰度差與環(huán)形缺陷深度成正比,因此在日常檢測中,可以通過測量環(huán)形缺陷中心部位灰度與周圍母材灰度,定量反推環(huán)形缺陷深度。

制作了含有不同深度的環(huán)形缺陷管道,某缺陷在不同電壓、電流、焦距下,灰度差如圖7所示。

圖中可以看出,隨著電壓增加灰度差增加,隨著電流增加灰度差增加,隨著焦距增加灰度差減小。

在500mm焦距情況下,電壓130kv和160kv下的不同電流時(shí),環(huán)形缺陷中心部位灰度與周圍母材灰度差如圖8和圖9所示。

圖中可以看出,隨著電壓增加灰度差增加,隨著電流增加灰度差增加,隨著槽深增加灰度差增加。

實(shí)際檢測時(shí),可以通過未焊透部位與母材部位的灰度差推算未焊透深度,對于復(fù)雜焊縫結(jié)構(gòu)(包括焊縫內(nèi)外余高),應(yīng)使用含余高的厚度作為母材厚度推算未焊透深度。

本技術(shù)利用射線數(shù)字成像原理,數(shù)字成像檢測與膠片照相在射線透照原理上是一致的,均是由射線機(jī)發(fā)出射線透照被檢工件,衰減、吸收和散射的射線光子由成像器件接收。不同點(diǎn)在于成像器件對于接收到的信息的處理技術(shù):膠片照相是射線光子在膠片中形成潛影,通過暗室的處理,評片人員借助觀片燈來評判缺陷;而數(shù)字成像則是利用計(jì)算機(jī)軟件控制數(shù)字成像器件,實(shí)現(xiàn)射線光子到數(shù)字信號再到數(shù)字圖像的轉(zhuǎn)換過程,最終在顯示器上進(jìn)行觀察和處理缺陷。

以上所述僅為本發(fā)明的較佳實(shí)施例而已,并不用以限制本發(fā)明,凡在本發(fā)明的精神和原則之內(nèi),所作的任何修改、等同替換、改進(jìn)等,均應(yīng)包含在本發(fā)明的保護(hù)范圍之內(nèi)。

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