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一種細(xì)胞釋放物的探測(cè)器及其探測(cè)方法與流程

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一種細(xì)胞釋放物的探測(cè)器及其探測(cè)方法與流程

本發(fā)明屬于微加工及生物檢測(cè)領(lǐng)域,涉及一種細(xì)胞釋放物的探測(cè)器及其探測(cè)方法。



背景技術(shù):

生物傳感器具有靈敏度高,選擇性好,便攜操作性強(qiáng),成本低,簡(jiǎn)單,快捷等優(yōu)點(diǎn)。隨著生活水平不斷提高,人們對(duì)健康的追求越來(lái)越高,開(kāi)發(fā)新型檢測(cè)裝置成為熱點(diǎn)。微陣列傳感器具有高通量、高選擇性、高靈敏度,微型化,智能化、集成化,低成本,高穩(wěn)定,高壽命等優(yōu)點(diǎn)。

傳統(tǒng)的微電極陣列主要以金屬、玻璃、硅等剛性材料為基底,通過(guò)沉積、光刻、腐蝕等微加工手段在其上形成屏幕或者三維結(jié)構(gòu)的微電極陣列。這些微電極雖然在空間分辨率、耐腐蝕性、靈敏度等方面具有各自的優(yōu)勢(shì),但是由于幾乎不具有形變能力,在柔軟度匹配、共形貼附、以及動(dòng)態(tài)形變匹配等方面很難滿足植入式要求,因此正在逐步被柔性微電極陣列技術(shù)所取代。

基于可穿戴設(shè)備的研究,具有靶組織接觸良好,減免機(jī)械損傷,降低免疫排斥反應(yīng)的柔性微陣列傳感器,是當(dāng)今電子、機(jī)械、儀器和醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域的研究熱點(diǎn)之一,直接關(guān)系到機(jī)器人、醫(yī)療設(shè)備、可穿戴設(shè)備等載體的智能化和多功能化。

石墨烯良好的生物相容性、優(yōu)異的導(dǎo)電性和機(jī)械性能,以及良好的電化學(xué)活性,使其在柔性生物傳感應(yīng)用方面展現(xiàn)出極大的優(yōu)勢(shì)?;谑└呷犴g性和機(jī)械強(qiáng)度,制備的石墨烯柔性電極,可以使電極與靶組織良好接觸,減少電極和生物組織之間的機(jī)械強(qiáng)度的不匹配,可以減少臨床應(yīng)用中產(chǎn)生的機(jī)械損傷和免疫反應(yīng)。此外,在神經(jīng)組織工程中,具有較高電子傳導(dǎo)速率的石墨烯還可以作為細(xì)胞的刺激電極,在沒(méi)有太多的化學(xué)反應(yīng)下,加強(qiáng)與分化神經(jīng)元的電耦合,這使得石墨烯與活細(xì)胞的界面研究成為未來(lái)神經(jīng)假體裝置研發(fā)的熱點(diǎn)。



技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:

本發(fā)明的目的在于針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)的不足,提供一種細(xì)胞釋放物的探測(cè)器及其探測(cè)方法。

本發(fā)明的目的是通過(guò)以下技術(shù)方案實(shí)現(xiàn)的:包括柔性基底,所述柔性基底的曲率值為0.18,還包括負(fù)載于柔性基底內(nèi)凹面的石墨烯膜,所述石墨烯膜由go基底和嵌于go基底中的rgo陣列組成,所述rgo陣列由直徑為20μm圓柱狀的rgo單元構(gòu)成,相鄰兩個(gè)單元的間距為60μm(兩個(gè)臨邊之間的距離)。

進(jìn)一步地,所述石墨烯膜通過(guò)以下方法負(fù)載于柔性基底上:

(1)以柔性ito/pet為基底,控制三次旋涂的轉(zhuǎn)速和時(shí)間分別為1000rpm,8000rpm,1000rpm以及5s,10s,5s,旋涂正性光刻膠,然后在60℃烘膠臺(tái)上烘15min,用直徑為20μm,間隔60μm的掩膜曝光20s,后烘10min,顯影液中顯影8s。

(2)在步驟1處理后的基底上繼續(xù)旋涂4mg/ml的氧化石墨烯溶液6次,每次旋涂go過(guò)程為800rpm,5s;3000rpm,30s;1000rpm,5s。使得go浸潤(rùn)到光刻膠凹槽內(nèi)部,旋涂均勻,得到附著go的柔性ito/pet基底。

(3)使用電化學(xué)工作站三電極系統(tǒng)還原附著基底表面的go,恒電位-0.9v,還原溶液體系為0.2mpbs(ph7.4),還原50s。

(4)最后,將電化學(xué)還原得到的附著有rgo/go微電極陣列的柔性ito/pet基底放在丙酮溶液中沖洗,將光刻膠洗掉,上面的go薄膜落到柔性ito/pet基底,即得到圖案化rgo/go微電極陣列。

一種探測(cè)器檢測(cè)細(xì)胞釋放雙氧水的方法,使得細(xì)胞貼附于石墨烯膜上;然后進(jìn)行循環(huán)伏安特性的測(cè)定,電解液為2.5mmk3fe(cn)6和0.1mkcl的水溶液。

本發(fā)明具有以下優(yōu)點(diǎn):實(shí)現(xiàn)了不同曲率柔性基底go/rgo陣列的電化學(xué)性能的研究,和傳統(tǒng)的負(fù)載酶和納米催化劑的情況下對(duì)雙氧水的低濃度檢測(cè)相比,顯示了較高的靈敏度,具有很好的應(yīng)用前景。

附圖說(shuō)明

圖1為go/rgo微陣列電極片的制備流程圖;

圖2為石墨烯微陣列的形貌結(jié)構(gòu);

圖3為不同曲率的伏安特性曲線;

圖4為k<0細(xì)胞對(duì)雙氧水的檢測(cè)曲線;

圖5為內(nèi)凹面和外凸面示意圖。

具體實(shí)施方式

本發(fā)明提供了提供一種基于柔性基底go/rgo陣列電極的彎曲曲率對(duì)細(xì)胞釋放物的探測(cè)器的制備方法。包括以下內(nèi)容:

柔性基底上rgo/go微陣列的制備:以柔性ito/pet為基底,控制三次旋涂的轉(zhuǎn)速和時(shí)間分別為1000rpm,8000rpm,1000rpm以及5s,10s,5s,旋涂正性光刻膠,然后在60℃烘膠臺(tái)上烘15min,紫外光刻機(jī)掩膜曝光20s,后烘10min,顯影液中顯影8s,得到光刻膠微陣列。接著,在步驟1得到的光刻膠微陣列的基底上繼續(xù)旋涂4mg/ml的氧化石墨烯溶液6次,每次旋涂go的轉(zhuǎn)速和時(shí)間分別為800rpm,3000rpm,1000rpm以及5s,30s,5s。每次旋涂都將go在光刻膠表面輕輕吹打,使得go浸潤(rùn)到光刻膠凹槽內(nèi)部,旋涂均勻,得到附著go的柔性ito/pet基底。使用電化學(xué)工作站三電極系統(tǒng)還原附著基底表面的go,恒電位-1v,還原溶液體系為0.2mpbs(ph7.4),還原50s。最后,將電化學(xué)還原得到的附著有rgo/go微電極陣列的柔性ito/pet基底放在丙酮溶液中沖洗,將光刻膠洗掉,上面的go薄膜落到柔性ito/pet基底,即得到圖案化rgo/go微電極陣列。

將電極片置于十二孔板內(nèi),石墨烯膜所在的活性面朝上,滅菌后,放置到十二孔板內(nèi),依次用pbs,dmem清洗,然后使用10%含血清培養(yǎng)液37℃孵化30min,最后接種細(xì)胞,接種密度約6000個(gè)/ml,37℃,5%co2細(xì)胞培養(yǎng)箱中培養(yǎng)24h。

取電極片兩片進(jìn)行彎曲,彎曲呈曲率0.18,一片的活性面(貼附有細(xì)胞的石墨烯面)位于內(nèi)凹面,另一片位于外凸面。使用藥物pma(15μl0.5μg/l)刺激兩個(gè)微電極的表面細(xì)胞,通過(guò)觀察電流的變化,實(shí)現(xiàn)go/rgo電極對(duì)細(xì)胞釋放物的檢測(cè)。結(jié)果發(fā)現(xiàn),相同刺激條件下,內(nèi)凹面細(xì)胞負(fù)載具有更高的靈敏度,推測(cè)其原因,內(nèi)凹面更傾向于形成三維環(huán)繞,增加接收電信號(hào)的能力。

將負(fù)載有細(xì)胞的電極片彎曲,使得石墨烯膜位于電極片的內(nèi)凹面,曲率分別為0.06、0.08、0.10、0.12、0.18、0.25。分別進(jìn)行電極的循環(huán)伏安特性的測(cè)定,電解質(zhì)為2.5mmk3fe(cn)6和0.1mkcl的混合溶液。圖3為不同曲率的伏安特性曲線。

將負(fù)載有細(xì)胞的電極片彎曲,使得石墨烯膜位于電極片的內(nèi)凹面,曲率分別為0.06、0.1、0.18、0.25,進(jìn)行釋放物檢測(cè):使用藥物pma(15μl0.5μg/l)刺激不同曲率的微電極表面細(xì)胞,通過(guò)觀察電流的變化,實(shí)現(xiàn)go/rgo電極對(duì)細(xì)胞釋放物的檢測(cè)。測(cè)定結(jié)果表明,k<0.18情況下,曲率增大效果增強(qiáng),當(dāng)k>0.18時(shí),檢測(cè)效果減弱。分析其中原因,在彎曲情況下,電極表面電場(chǎng)分部發(fā)生變化,導(dǎo)致測(cè)定結(jié)果差異;圖4為曲率值k為0.06、0.1、0.18、0.25情況下細(xì)胞對(duì)雙氧水的檢測(cè)曲線,檢測(cè)限降低,靈敏度增加,而當(dāng)k>0.18時(shí),隨著曲率值的增大,靈敏度降低。

上述實(shí)例用來(lái)解釋說(shuō)明本發(fā)明,然而并非限定本發(fā)明。在本發(fā)明的精神和權(quán)利要求的保護(hù)范圍內(nèi),對(duì)本發(fā)明作出的任何修改和改變,都落入本發(fā)明的保護(hù)范圍。

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