X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種機(jī)械裝置，尤其涉及一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)。
【背景技術(shù)】
[0002]X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)是指一套利用X射線對被測物進(jìn)行檢測的裝置，常用于工業(yè)無損檢測等領(lǐng)域。
[0003]在進(jìn)行被測物檢測時(shí)，需要被測物非常精準(zhǔn)的放置在X射線束的出束位置上，在X軸、Y軸和Z軸方向都需要精確調(diào)整。
[0004]但現(xiàn)有的設(shè)備的調(diào)整過程復(fù)雜，很難通過簡單操作就實(shí)現(xiàn)X射線束主軸，限束光闌中心及被檢測物體的同軸，尤其是在被測物放置于較長導(dǎo)軌上行程可變情況下，更是不易實(shí)現(xiàn)，無法保證其處于X射線光束中心，因而會(huì)影響到檢測效果和準(zhǔn)確度；同時(shí)，現(xiàn)有設(shè)備不便于進(jìn)行X射線管及被測物的位置調(diào)整，在使用過程中更換被測物，或發(fā)生震動(dòng)、碰撞等原因造成位置改變后，需要很復(fù)雜的操作才能進(jìn)行位置復(fù)位。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是針對現(xiàn)有技術(shù)的缺陷，提供一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)，從而實(shí)現(xiàn)方便和精確的X射線源到被測物的X射線出射調(diào)整。
[0006]為實(shí)現(xiàn)上述目的，本發(fā)明提供了一種X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)，所述X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)包括:
[0007]X射線發(fā)生裝置，固定在光學(xué)平臺(tái)上，產(chǎn)生水平出射的X射線束；
[0008]擋板，由支架和固定在所述支架中的鉛板構(gòu)成，屏蔽X射線管產(chǎn)生的X射線光子主束方向的漏射線，所述擋板上具有X射線束的出射孔，形成光闌；
[0009]快門，固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，并設(shè)置在所述擋板的X射線束射出方向一側(cè)；所述快門包括:具有通孔的擋板和可移動(dòng)的遮光片；所述通孔的中心、所述光闌的中心、所述X射線束的中心在同一直線上；當(dāng)所述遮光片遮擋在所述通孔上時(shí)，所述快門閉合；當(dāng)所述遮光片從所述通孔上移開時(shí)，所述快門打開，使所述X射線束由所述通孔出射；
[0010]過濾裝置，固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，并設(shè)置在所述快門的X射線束射出方向一側(cè)，包括以所述通孔為中心位置對稱設(shè)置的兩組濾波轉(zhuǎn)盤；每組濾波轉(zhuǎn)盤包括N個(gè)濾光孔，所述N為大于I的正整數(shù)，所述濾光孔中夾設(shè)有濾光片；當(dāng)所述濾波轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有兩個(gè)濾光孔同時(shí)與所述通孔位置相對準(zhǔn)，使所述X射線束由所述濾光孔中的濾光片進(jìn)行濾光之后再由所述通孔出射；
[0011]導(dǎo)軌平臺(tái)，設(shè)置在所述光學(xué)平臺(tái)的X射線束出束方向的一側(cè)，包括:導(dǎo)軌和在所述導(dǎo)軌上平行移動(dòng)的測量檢定平臺(tái)；調(diào)整所述測量檢定平臺(tái)，使放置于所述測量檢定平臺(tái)上的待檢物的中心與所述X射線束的中心相重合。
[0012]優(yōu)選的，所述系統(tǒng)還包括:
[0013]監(jiān)督電離室，固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，并設(shè)置在所述過濾裝置的X射線束射出方向一側(cè)，對所述X射線束的劑量進(jìn)行測量。
[0014]優(yōu)選的，在每組濾波轉(zhuǎn)盤中，除一個(gè)濾光孔外，其余(N-1)個(gè)濾光孔中夾設(shè)有濾光片;
[0015]其中，一組濾波轉(zhuǎn)盤的未夾設(shè)濾光片的濾光孔與所述通孔位置對準(zhǔn)，當(dāng)另一組濾波轉(zhuǎn)盤旋轉(zhuǎn)時(shí)，沿轉(zhuǎn)動(dòng)方向依次有一個(gè)夾設(shè)有濾光片的濾光孔與所述未夾設(shè)濾光片的濾光孔以及通孔的位置相對準(zhǔn)，使所述X射線束由所述另一組濾波轉(zhuǎn)盤的濾光片進(jìn)行濾光之后再由所述通孔出射。
[0016]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述濾光孔的直徑不小于所述通孔的直徑。
[0017]優(yōu)選的，所述X射線發(fā)生裝置包括X射線光管和光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)；
[0018]所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)固定在所述光學(xué)平臺(tái)上，所述X射線光管安裝在所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的安裝面上；調(diào)整所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的安裝面，使所述X射線光管發(fā)出的X射線束沿所述測量檢定平臺(tái)在所述導(dǎo)軌上的移動(dòng)方向水平束出。
[0019]進(jìn)一步優(yōu)選的，所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)包括:
[0020]橫向?qū)к墸怪彼鰮醢灏惭b在所述光學(xué)平臺(tái)上；
[0021]旋轉(zhuǎn)平臺(tái)，滑設(shè)在所述橫向?qū)к壣?，在所述光學(xué)平臺(tái)上橫向移動(dòng)，并在平行所述光學(xué)平臺(tái)的平面上進(jìn)行角度旋轉(zhuǎn)；
[0022]縱向調(diào)節(jié)架，安裝在所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)上，調(diào)整所述縱向調(diào)解架，使所述縱向調(diào)節(jié)架的頂端到所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)之間的垂直距離發(fā)生改變；
[0023]光管固定器，安裝在所述縱向調(diào)節(jié)架的頂端，固定提供X射線束的X射線管；
[0024]通過調(diào)節(jié)所述縱向調(diào)節(jié)架的高度，調(diào)整所述X射線束的出射高度，并且通過調(diào)節(jié)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)的旋轉(zhuǎn)角度，調(diào)整所述X射線束的出射角度，使所述X射線管的中心與所述出射孔的中心對準(zhǔn)；通過調(diào)節(jié)所述旋轉(zhuǎn)平臺(tái)在所述橫向?qū)к壣系奈恢茫{(diào)整所述X射線管與所述出射孔之間的距離。
[0025]優(yōu)選的，移動(dòng)基座，包括:
[0026]第一底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上，由第一電機(jī)控制，沿平行導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)；
[0027]滑軌，安裝在所述第一底座上，與所述導(dǎo)軌方向垂直；
[0028]第二底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述滑軌上，由第二電機(jī)控制，沿垂直導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)；
[0029]第一測量平臺(tái)，架設(shè)在所述第二底座上，具有第一轉(zhuǎn)軸和第二轉(zhuǎn)軸；通過所述第一轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第一測量平臺(tái)沿垂直所述導(dǎo)軌所在平面方向的高度位置，通過所述第二轉(zhuǎn)軸調(diào)整第一測量平臺(tái)角動(dòng)；
[0030]第二測量平臺(tái)，放置所述待檢物，架設(shè)在所述第一測量平臺(tái)之上，所述第二測量平臺(tái)隨所述第一測量平臺(tái)垂直移動(dòng)和角動(dòng)；所述第二測量平臺(tái)具有第三轉(zhuǎn)軸、第四轉(zhuǎn)軸、第五轉(zhuǎn)軸和第六轉(zhuǎn)軸；通過所述第三轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測量平臺(tái)沿垂直所述導(dǎo)軌所在平面方向的高度位置，通過所述第四轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第五轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿垂直所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第六轉(zhuǎn)軸調(diào)整第二測量平臺(tái)角動(dòng)。
[0031]優(yōu)選的，所述測量檢定平臺(tái)包括:
[0032]移動(dòng)基座，包括:
[0033]第一底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述導(dǎo)軌上，由第一電機(jī)控制，沿平行導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)；
[0034]滑軌，安裝在所述第一底座上，與所述導(dǎo)軌方向垂直；
[0035]第二底座，平行所述導(dǎo)軌所在平面滑設(shè)在所述滑軌上，由第二電機(jī)控制，沿垂直導(dǎo)軌方向運(yùn)動(dòng)；
[0036]第二測量平臺(tái)，放置所述待檢物，架設(shè)在所述第二底座上；所述第二測量平臺(tái)具有第三轉(zhuǎn)軸、第四轉(zhuǎn)軸、第五轉(zhuǎn)軸和第六轉(zhuǎn)軸；通過所述第三轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測量平臺(tái)沿垂直所述導(dǎo)軌所在平面方向的高度位置，通過所述第四轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第五轉(zhuǎn)軸調(diào)整所述第二測量平臺(tái)在平行導(dǎo)軌所在平面沿垂直所述導(dǎo)軌方向的位移，通過所述第六轉(zhuǎn)軸調(diào)整第二測量平臺(tái)角動(dòng)。
[0037]本發(fā)明X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)了方便和精確的X射線源到被測物的X射線出射調(diào)整。
【附圖說明】
[0038]圖1為本發(fā)明X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)的示意圖；
[0039]圖2為本發(fā)明X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)的多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)的示意圖；
[0040]圖3本發(fā)明X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)的光學(xué)平臺(tái)部分的示意圖；
[0041]圖4為本發(fā)明X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)的濾波轉(zhuǎn)盤的示意圖。
【具體實(shí)施方式】
[0042]下面通過附圖和實(shí)施例，對本發(fā)明的技術(shù)方案做進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
[0043]圖1為本發(fā)明實(shí)施例提供的X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)的示意圖，如圖所示，本發(fā)明X射線標(biāo)準(zhǔn)檢測系統(tǒng)包括:x射線發(fā)生裝置1、擋板(圖中未示出)、快門3、過濾裝置4、監(jiān)督電離室5和導(dǎo)軌平臺(tái)6。其中，X射線發(fā)生裝置1、擋板(圖中未示出)、快門3、過濾裝置4和監(jiān)督電離室5沿圖中自左向右方向依次固定在光學(xué)平臺(tái)7上。
[0044]X射線發(fā)生裝置1，固定在光學(xué)平臺(tái)7上，產(chǎn)生水平出射的X射線束；
[0045]其中，所述X射線發(fā)生裝置I包括X射線光管11和光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)12，具體可以如圖2所示。
[0046]所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)12固定在所述光學(xué)平臺(tái)7上，所述X射線光管11安裝在所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)12上；調(diào)整所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)12，使所述X射線光管11發(fā)出的X射線束沿導(dǎo)軌平臺(tái)6的測量檢定平臺(tái)62在導(dǎo)軌61上的移動(dòng)方向水平束出。
[0047]進(jìn)一步的，如圖2所示，所述光管多維調(diào)節(jié)機(jī)構(gòu)12可以具體包括:
[0048]橫向?qū)к?21，垂直所述擋板安裝在所述光學(xué)平臺(tái)7上；橫向?qū)к?21具有絲杠(圖中未示出)和電機(jī)(圖中未示出)。
[0049]旋轉(zhuǎn)平臺(tái)122，滑設(shè)在所述橫向?qū)к?21上，在所述橫向?qū)к?21的電機(jī)驅(qū)動(dòng)下，所述絲杠帶動(dòng)旋轉(zhuǎn)平臺(tái)122在所述光學(xué)平臺(tái)7上橫向移動(dòng)。并且，旋轉(zhuǎn)平臺(tái)122自身能夠在平行所述光學(xué)平臺(tái)7的平面上進(jìn)行角度旋轉(zhuǎn)；