電光調(diào)制分析測量儀的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本實(shí)用新型涉及一種對偏振光進(jìn)行檢測的儀器，尤其涉及一種電光調(diào)制分析測量 儀，屬于偏振檢測領(lǐng)域。
【背景技術(shù)】
[0002] 在光學(xué)遙感領(lǐng)域，偏振檢測作為強(qiáng)度檢測的一個(gè)補(bǔ)充，可以把信息量從三維擴(kuò)充 到七維，有助于提高目標(biāo)探測和地物識別的準(zhǔn)確度。氣溶膠偏振探測儀作為一種偏振遙感 工具，具有探測范圍大，空間分辨率高和測量精度高等特點(diǎn)，已廣泛應(yīng)用于氣象監(jiān)測、環(huán)境 監(jiān)測和大氣輻射特性等領(lǐng)域的研究。偏振檢測作為強(qiáng)度檢測的一個(gè)有益補(bǔ)充，可以把信息 量從三維（光強(qiáng)、光譜和空間）擴(kuò)充到七維（光強(qiáng)、光譜、空間、偏振度、偏振方位角、偏振橢 率和旋轉(zhuǎn)方向），有助于提高目標(biāo)探測和地物識別的準(zhǔn)確度。近些年來，國內(nèi)外研究人員開 展了大量的地物偏振特性測量研究及偏振成像測量系統(tǒng)的設(shè)計(jì)，極大的推動(dòng)了偏振檢測技 術(shù)的發(fā)展。但是目前對于偏振檢測方面仍舊處于不成熟的階段。 【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0003] 為了克服現(xiàn)有技術(shù)的不足，解決好現(xiàn)有技術(shù)的問題，彌補(bǔ)現(xiàn)有目前市場上現(xiàn)有產(chǎn) 品的不足。
[0004] 本實(shí)用新型提供了一種電光調(diào)制分析測量儀，主要包括光源、準(zhǔn)直鏡、第一電光晶 體、第二電光晶體、檢偏器、聚光鏡和探測器，所述光源、準(zhǔn)直鏡、第一電光晶體、第二電光晶 體、檢偏器、聚光鏡和探測器并列設(shè)置，中心處于一線。
[0005] 優(yōu)選的，上述光源為單色光源。
[0006] 優(yōu)選的，上述第一晶體的感應(yīng)主軸和檢偏器的透光軸平行。
[0007] 優(yōu)選的，上述第一電光晶體和第二電光晶體的感應(yīng)主軸成45°。
[0008] 優(yōu)選的，上述檢偏器由偏光棱鏡構(gòu)成。
[0009] 本實(shí)用新型提供的電光調(diào)制分析測量儀使入射光通過一系列調(diào)制光學(xué)元件，通過 對電光晶體對的調(diào)制，可計(jì)算出全部的斯托克斯參量，從而實(shí)現(xiàn)了電光調(diào)制分析測量。
【附圖說明】
[0010] 圖1為本實(shí)用新型結(jié)構(gòu)示意圖。
[0011] 附圖標(biāo)記：1-光源；2-準(zhǔn)直鏡；3-第一電光晶體；4-第二電光晶體；5-檢偏器； 6_聚光鏡；7-光電探測器。
【具體實(shí)施方式】
[0012] 為了便于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員理解和實(shí)施本實(shí)用新型，下面結(jié)合附圖及具體實(shí)施 方式對本實(shí)用新型作進(jìn)一步的詳細(xì)描述。
[0013] 本實(shí)用新型提供的電光調(diào)制分析測量儀主要包括光源1、準(zhǔn)直鏡2、第一電光晶體 3、第二電光晶體4、檢偏器5、聚光鏡6和探測器7,光源1、準(zhǔn)直鏡2、第一電光晶體3、第二 電光晶體4、檢偏器5、聚光鏡6和探測器7并列設(shè)置，中心處于一線。光源1為單色光源。 第一晶體3的感應(yīng)主軸和檢偏器5的透光軸平行。第一電光晶體3和第二電光晶體4的感 應(yīng)主軸成45°。檢偏器5由偏光棱鏡構(gòu)成。
[0014] 本實(shí)用新型的工作原理是：待測單色光經(jīng)準(zhǔn)直鏡2后變成平行光，相繼通過縱向 調(diào)制的電光晶體（3、4)，檢偏器5后，再由聚光鏡6把待測光波聚在光電探測器7上。第一 電光晶體3的感應(yīng)主軸和檢偏器5的透光軸平行，電光晶體（3、4)的感應(yīng)主軸成45°。這 時(shí)透過檢偏器5的輸出光強(qiáng)為
[0015]
[0016] 式中，'、^為檢偏器5的主透射比，為通過第一電光晶體3、第二電光晶體4后兩 正交偏振分量的相位差，由于電光晶體對的調(diào)制，通過上式可計(jì)算出全部的斯托克斯參量。
[0017] 以上所述之【具體實(shí)施方式】為本實(shí)用新型的較佳實(shí)施方式，并非以此限定本實(shí)用新 型的具體實(shí)施范圍，本實(shí)用新型的范圍包括并不限于本【具體實(shí)施方式】，凡依照本實(shí)用新型 之形狀、結(jié)構(gòu)所作的等效變化均在本實(shí)用新型的保護(hù)范圍內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1. 一種電光調(diào)制分析測量儀，其特征在于：所述電光調(diào)制分析測量儀主要包括光源 (1)、準(zhǔn)直鏡（2)、第一電光晶體（3)、第二電光晶體（4)、檢偏器（5)、聚光鏡（6)和探測器 (7)，所述光源（1)、準(zhǔn)直鏡（2)、第一電光晶體（3)、第二電光晶體（4)、檢偏器（5)、聚光鏡 (6)和探測器（7)并列設(shè)置，中心處于一線。2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光調(diào)制分析測量儀，其特征在于：所述光源（1)為單色光 源。3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的電光調(diào)制分析測量儀，其特征在于：所述第一電光晶體（3) 的感應(yīng)主軸和檢偏器（5)的透光軸平行。4. 根據(jù)權(quán)利要求1-3之一所述的電光調(diào)制分析測量儀，其特征在于：所述第一電光晶 體（3)和第二電光晶體⑷的感應(yīng)主軸成45°。5. 根據(jù)權(quán)利要求1-3之一所述的電光調(diào)制分析測量儀，其特征在于：所述檢偏器（5) 由偏光棱鏡構(gòu)成。
【專利摘要】本實(shí)用新型涉及一種電光調(diào)制分析測量儀，光源(1)、準(zhǔn)直鏡(2)、第一電光晶體(3)、第二電光晶體(4)、檢偏器(5)、聚光鏡(6)和探測器(7)，所述光源(1)、準(zhǔn)直鏡(2)、第一電光晶體(3)、第二電光晶體(4)、檢偏器(5)、聚光鏡(6)和探測器(7)并列設(shè)置，中心處于一線。本實(shí)用新型提供的電光調(diào)制分析測量儀使入射光通過一系列調(diào)制光學(xué)元件，通過對電光晶體對的調(diào)制，可計(jì)算出全部的斯托克斯參量，從而實(shí)現(xiàn)了電光調(diào)制分析測量。
【IPC分類】G01J4/04
【公開號】CN205066940
【申請?zhí)枴緾N201520295025
【發(fā)明人】黃榕
【申請人】黃榕
【公開日】2016年3月2日
【申請日】2015年5月4日