專利名稱：申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)和方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種專利分析系統(tǒng)和方法，尤其涉及一種對專利按申請人進(jìn)行技術(shù)空白點(diǎn)分析的系統(tǒng)和方法。
背景技術(shù)：
伴隨科技的迅猛發(fā)展，專利已經(jīng)成為技術(shù)推廣和知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)的重要手段之一。 技術(shù)日新月異，專利也是以驚人的速度增長，企業(yè)如果不能及時(shí)掌握專利中所反應(yīng)出來的 技術(shù)信息，就可能無法獲知最先進(jìn)的技術(shù)，從而落后于時(shí)代，或者把已有成果作為企業(yè)的研 發(fā)目標(biāo)從而導(dǎo)致人力、物力、財(cái)力的浪費(fèi)，在競爭中處于不利之地，因此對數(shù)目龐大的專利 進(jìn)行分析就成為企業(yè)必須面對的一個(gè)課題。在科技領(lǐng)域中，對技術(shù)的劃分越來越細(xì)，并且有隔行如隔山之趨勢。在每一個(gè)相對 具體的領(lǐng)域中主要的參與者一般都比較固定，不會有太頻繁的變化，尤其是實(shí)力比較強(qiáng)的 參與者一般都比較固定并且數(shù)量不會很大，所以企業(yè)在對某一領(lǐng)域進(jìn)行專利分析時(shí)就可以 以競爭對手為分析單位，此外，技術(shù)手段和功能效果這兩類項(xiàng)目在一特定領(lǐng)域內(nèi)相對固定， 并且基本代表該領(lǐng)域特征和內(nèi)容。但是，傳統(tǒng)的專利分析系統(tǒng)和方法缺少對專利按技術(shù)手 段和功能效果進(jìn)行分析的例子，對某一專題內(nèi)的專利把申請人信息提取出來，進(jìn)一步進(jìn)行 計(jì)算該申請人的專利按技術(shù)手段和功能效果的分布的方法和系統(tǒng)越發(fā)缺乏。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的是提供一種按申請人計(jì)算專利按技術(shù)手段和功能效果的分布，從 而得到申請人技術(shù)空白點(diǎn)的分析系統(tǒng)和方法。為達(dá)到上述目的，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案首先，本發(fā)明提供一種專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括一數(shù)據(jù)庫，用 于存儲所建專利專題，一應(yīng)用模塊，該應(yīng)用模塊又包括專利數(shù)據(jù)采集模塊，根據(jù)所需分析的專利主題導(dǎo)入存儲在專利數(shù)據(jù)庫中的相關(guān)專 題；專利數(shù)據(jù)加工模塊，將采集到的數(shù)據(jù)進(jìn)行加工，刪除不相關(guān)專利；專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊，將加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo)引；申請人:技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊，計(jì)算對選定申請人，同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和相應(yīng) 功能效果的專利的數(shù)量；申請人:技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊，輸出一矩陣表格，該矩陣表格一軸為專利達(dá)到的功 能效果，另一軸為專利所采用的技術(shù)手段，交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和相應(yīng)功能 效果的專利得數(shù)量，所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利的數(shù)量成比例。數(shù)據(jù)庫與應(yīng)用模塊可以安裝于同一服務(wù)器，也可以安裝在不同的服務(wù)器，通過網(wǎng) 絡(luò)進(jìn)行通訊。優(yōu)選地，所述專利數(shù)據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán)利要求。優(yōu)選地，應(yīng)用模塊提供用戶可操作的工作界面。優(yōu)選地，所述專利數(shù)據(jù)加工模塊通過專利IPC、日期或關(guān)鍵詞對采集到的專利數(shù)據(jù) 進(jìn)行加工。優(yōu)選地，所述專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊是將加工后的專利數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩 個(gè)方面進(jìn)行人工或自動標(biāo)引。優(yōu)選地，所述申請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊包含申請人技術(shù)空白點(diǎn)相關(guān)專利信息的 數(shù)據(jù)導(dǎo)出單元，用于導(dǎo)出矩陣表格中的交叉點(diǎn)所對應(yīng)的專利。優(yōu)選地，橫軸表示技術(shù)手段，縱軸表示功能效果。優(yōu)選地，縱軸表示技術(shù)手段，橫軸表示功能效果。進(jìn)一步，本發(fā)明還提供了一種專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法，該方法包括以下 步驟1)建立專利數(shù)據(jù)庫，用于存貯所建立的專利專題；2)專利數(shù)據(jù)采集模塊從專利數(shù)據(jù)庫中采集需要分析的專利專題；3)專利數(shù)據(jù)加工模塊對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工，刪除不相關(guān)的專利；4)專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊對加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo) 引；5)申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊計(jì)算對選定申請人，同時(shí)涉及特定的技術(shù)手段與功 能效果的專利的數(shù)量；6)申請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊輸出一矩陣表格，該矩陣表格一軸為專利達(dá)到的功 能效果，另一軸為專利所采用的技術(shù)手段，交叉點(diǎn)表示對選定申請人，同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手 段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量，所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例，圖形面積為 零的點(diǎn)即為技術(shù)空白點(diǎn)。矩陣表格橫軸表示技術(shù)手段，縱軸表示功能效果，或者矩陣表格縱軸表示技術(shù)手 段，橫軸表示功能效果。本發(fā)明的有益效果在于本發(fā)明以矩陣表格的形式直觀地顯示出對特定申請人， 同時(shí)涉及對應(yīng)技術(shù)手段和功能效果的專利的數(shù)量，也就是特定申請人的專利按技術(shù)手段和 功能效果的分布情況，使用者對技術(shù)熱點(diǎn)和空白點(diǎn)一目了然，便于使用者高效、快速地對專 利數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，掌握專利信息。


圖1為本發(fā)明所涉及的系統(tǒng)的框架圖。圖2為本發(fā)明所涉及的方法的流程圖。圖3為本發(fā)明所涉及的申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊的構(gòu)成示意圖。
具體實(shí)施例方式下面結(jié)合附圖詳細(xì)說明本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例。圖1是本發(fā)明所涉及的系統(tǒng)的框架圖。本發(fā)明所提供的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分 析系統(tǒng)包括一數(shù)據(jù)庫，用于存儲所建專利專題，專題的建立方法可以是在各國知識產(chǎn)權(quán)部門提供的數(shù)據(jù)庫中進(jìn)行檢索形成專題，也可以是先把相關(guān)專利下載至本地?cái)?shù)據(jù)庫，然后進(jìn) 一步檢索建立專題。專利數(shù)據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán) 利要求。本發(fā)明所提供的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)還包括一應(yīng)用模塊，該應(yīng)用模塊 又包括專利數(shù)據(jù)采集模塊，用于根據(jù)所需分析的專利主題導(dǎo)入存儲在專利數(shù)據(jù)庫中的相 關(guān)專題，專利數(shù)據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán)利要求；專利數(shù)據(jù)加工模塊，用于通過專利IPC、日期或關(guān)鍵詞對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行深 加工，刪除不相關(guān)專利；專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊，用于將加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行人 工或自動標(biāo)引，在此，使用者可以根據(jù)分析需要設(shè)定標(biāo)引的層次，比如技術(shù)手段分為技術(shù)手 段A、技術(shù)手段B、……技術(shù)手段G……，對技術(shù)手段A可以根據(jù)需要一步分為技術(shù)手段1、 技術(shù)手段2……技術(shù)手段6……，使用者可以根據(jù)分析需要決定是否繼續(xù)細(xì)分。以此類推。 標(biāo)引對本領(lǐng)域的技術(shù)人員是一項(xiàng)很熟悉的工作，在此不再祥述；申請人:技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊，用于統(tǒng)計(jì)對選定申請人，同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和 相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量，在該模塊，用戶通過申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算操作界面選擇待 分析的申請人，然后選擇計(jì)算所考慮的技術(shù)手段分類項(xiàng)目和功能效果分類項(xiàng)目并設(shè)置計(jì)算
命令。在此，用戶可以選擇技術(shù)手段和功能效果下所有分類項(xiàng)目，也可以只選擇一個(gè)分類項(xiàng) 目；申請人:技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊，用于輸出一矩陣表格，用戶可以設(shè)置該矩陣表格一 軸為專利達(dá)到的功能效果，另一軸為專利所采用的技術(shù)手段，交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技 術(shù)手段和相應(yīng)功能效果的專利數(shù)量，所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利的數(shù)量成比例，同時(shí)，申 請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊包含申請人技術(shù)空白點(diǎn)相關(guān)專利信息的數(shù)據(jù)導(dǎo)出單元，用于導(dǎo)出 矩陣表格中的交叉點(diǎn)所對應(yīng)的專利。數(shù)據(jù)庫與應(yīng)用模塊可以安裝于同一服務(wù)器，也可以安裝在不同的服務(wù)器，通過網(wǎng) 絡(luò)進(jìn)行通訊。此外，應(yīng)用模塊提供用戶可操作的工作界面，如圖3所示是本發(fā)明中所述的申 請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊的的構(gòu)成示意圖。該模塊主要包括申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊執(zhí) 行單元和申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊操作界面。用戶通過申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊操作 界面設(shè)置計(jì)算命令，申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊執(zhí)行單元執(zhí)行所設(shè)置的命令。應(yīng)用模塊其 它模塊，比如專利數(shù)據(jù)采集模塊、專利數(shù)據(jù)加工模塊、專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊、申請人技術(shù)空白 點(diǎn)顯示模塊，有類似的結(jié)構(gòu)。進(jìn)一步，本發(fā)明還提供了一種專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法，如圖2所示，該方 法包括以下步驟(1)建立專利數(shù)據(jù)庫，用于存貯所建立的專利專題；(2)專利數(shù)據(jù)采集模塊從專利數(shù)據(jù)庫中采集需要分析的專利專題；(3)專利數(shù)據(jù)加工模塊對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工，刪除不相關(guān)的專利；(4)專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊對加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo) 引；(5)申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊計(jì)算對選定申請人，同時(shí)涉及特定的技術(shù)手段與 功能效果的專利的數(shù)量；
(6)申請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊輸出一矩陣表格，該矩陣表格一軸為專利達(dá)到的 功能效果，另一軸為專利所采用的技術(shù)手段，交叉點(diǎn)表示對選定申請人，同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù) 手段和相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量，所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例，圖形面積 為零的點(diǎn)即為技術(shù)空白點(diǎn)。本發(fā)明的有益效果在于本發(fā)明以矩陣表格的形式直觀地顯示出對選定申請人， 同時(shí)涉及對應(yīng)技術(shù)手段和功能效果的專利的數(shù)量，使用者對技術(shù)熱點(diǎn)和空白點(diǎn)一目了然， 便于使用者高效快速地對專利數(shù)據(jù)進(jìn)行分析，掌握專利信息。這里本發(fā)明的描述和應(yīng)用是說明性的，并非想將本發(fā)明的范圍限制在上述實(shí)施例 中。這里所披露的實(shí)施例的變形和改變是可能的，對于那些本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員來說實(shí) 施例的替換和等效的各種部件是公知的。本領(lǐng)域技術(shù)人員應(yīng)該清楚的是，在不脫離本發(fā)明 的精神或本質(zhì)特征的情況下，本發(fā)明可以以其它形式、結(jié)構(gòu)、布置、比例，以及用其它組件、 部件來實(shí)現(xiàn)。在不脫離本發(fā)明范圍和精神的情況下，可以對這里所披露的實(shí)施例進(jìn)行其它 變形和改變。
權(quán)利要求
1.一種專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，該系統(tǒng)包括一數(shù)據(jù)庫，用于存儲所建專利專 題，一應(yīng)用模塊，其特征在于應(yīng)用模塊包括專利數(shù)據(jù)采集模塊，根據(jù)所需分析的專利主題導(dǎo)入存儲在專利數(shù)據(jù)庫中的相關(guān)專利專題專利數(shù)據(jù)加工模塊，對導(dǎo)入的數(shù)據(jù)進(jìn)行加工，刪除不相關(guān)專利；專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊，將加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo)引；申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊，計(jì)算特定申請人，同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和相應(yīng)功能效 果的專利的數(shù)量；申請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊，輸出一矩陣表格，該矩陣表格一軸為專利達(dá)到的功能效 果，另一軸為專利所采用的技術(shù)手段，交叉點(diǎn)表示同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和相應(yīng)功能效果 的專利的數(shù)量，所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，其特征在于所述專利數(shù) 據(jù)庫中存貯的專利數(shù)據(jù)包含專利著錄項(xiàng)目、專利摘要和專利權(quán)利要求。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，其特征在于應(yīng)用模塊提 供用戶可操作的工作界面。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，其特征在于所述專利數(shù) 據(jù)加工模塊通過專利IPC、日期或關(guān)鍵詞對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，其特征在于所述專利數(shù) 據(jù)標(biāo)弓I模塊是將加工后的專利數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)方面進(jìn)行人工或自動標(biāo)弓I。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)，其特征在于所述申請人 技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊包含申請人技術(shù)空白點(diǎn)相關(guān)專利信息的數(shù)據(jù)導(dǎo)出單元，用于導(dǎo)出矩陣 表格中的交叉點(diǎn)所對應(yīng)的專利。
7.一種專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法，其特征在于包含以下步驟1)建立專利數(shù)據(jù)庫，用于存貯所建立的專利專題；2)專利數(shù)據(jù)采集模塊從專利數(shù)據(jù)庫中采集需要分析的專利專題；3)專利數(shù)據(jù)加工模塊對采集到的專利數(shù)據(jù)進(jìn)行加工，刪除不相關(guān)的專利；4)專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊對加工后的數(shù)據(jù)按技術(shù)手段和功能效果兩個(gè)分類進(jìn)行標(biāo)引；5)申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊計(jì)算對選定申請人，同時(shí)涉及特定的技術(shù)手段與功能效 果的專利的數(shù)量；6)申請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊輸出一矩陣表格，該矩陣表格一軸為專利達(dá)到的功能效 果，另一軸為專利所采用的技術(shù)手段，交叉點(diǎn)表示對選定申請人，同時(shí)涉及相應(yīng)技術(shù)手段和 相應(yīng)功能效果的專利的數(shù)量，所述交叉點(diǎn)圖形的面積與專利數(shù)量成比例，圖形面積為零的 點(diǎn)即為技術(shù)空白點(diǎn)。
8.依據(jù)權(quán)利要求7所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法，其特征在于矩陣表格橫 軸表示技術(shù)手段，縱軸表示功能效果。
9.依據(jù)權(quán)利要求7所述的專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析方法，其特征在于矩陣表格縱 軸表示技術(shù)手段，橫軸表示功能效果。
全文摘要
本發(fā)明揭示了一種專利申請人技術(shù)空白點(diǎn)分析系統(tǒng)和方法。本發(fā)明所提供的系統(tǒng)包括數(shù)據(jù)庫和應(yīng)用模塊，應(yīng)用模塊包括專利數(shù)據(jù)采集模塊、專利數(shù)據(jù)加工模塊、專利數(shù)據(jù)標(biāo)引模塊、申請人技術(shù)空白點(diǎn)計(jì)算模塊、申請人技術(shù)空白點(diǎn)顯示模塊。應(yīng)用模塊與數(shù)據(jù)庫可以安裝于同一服務(wù)器，也可以安裝于不同服務(wù)器，通過網(wǎng)絡(luò)通訊。通過本發(fā)明所提供的系統(tǒng)，可以以矩陣表格的形式直觀顯示選定申請人的專利按技術(shù)手段和功能效果的分布情況，快速找出申請人技術(shù)空白點(diǎn)，提高使用者分析專利的效率。本發(fā)明還提供與前述系統(tǒng)配套的分析方法。
文檔編號G06F17/30GK101996225SQ20091019468
公開日2011年3月30日 申請日期2009年8月27日 優(yōu)先權(quán)日2009年8月27日
發(fā)明者唐向東, 魏國柱 申請人:上海漢光知識產(chǎn)權(quán)數(shù)據(jù)科技有限公司