一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明屬于電工膜技術(shù)領(lǐng)域，涉及一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜。
【背景技術(shù)】
[0002]我國先后從國外引進(jìn)近百條真空鍍膜生產(chǎn)線，其中以普遍鍍膜設(shè)備居多。在電工膜金屬化領(lǐng)域，由于鍍膜工藝、分切工藝難度大，成品率難以控制，國內(nèi)企業(yè)極少涉足。該類薄膜制作的電容器以容量大、穩(wěn)定性好、自愈能力強(qiáng)等優(yōu)點(diǎn)，越來越多的占領(lǐng)市場?？紤]電工膜市場越來越大，但是由于電工膜熱變形難以控制，而且表面的金屬膜層很容易磨損，在實際應(yīng)用中受到很大限制。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明所要解決的技術(shù)問題就是提供一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，熱變形能得到很好的控制，而且有效防止金屬膜層磨損。
[0004]為解決上述技術(shù)問題，本發(fā)明采用如下技術(shù)方案:一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層表面的金屬膜層組成，所述金屬膜層表面設(shè)有至少兩條互相平行的金屬耐磨帶。
[0005]其中，聚對苯二甲酸乙二醇醋(Polyethylene terephthalate，簡稱PET)，耐婦變、耐抗疲勞性、耐磨擦和尺寸穩(wěn)定性好，磨耗小而硬度高，具有優(yōu)異的韌性，電絕緣性能好，受溫度影響小，無毒、耐氣候性、抗化學(xué)藥品穩(wěn)定性好，吸水率低，耐弱酸和有機(jī)溶劑，是相當(dāng)理想的介質(zhì)層材料。本發(fā)明中采用高真空金屬沉積技術(shù)，在高真空條件下，將被沉積金屬材料加熱到融化并蒸發(fā)成氣態(tài)，蒸氣態(tài)原子或分子以冷凝方式沉積在基膜表面，形成金屬膜層。這樣，得到的金屬膜層可以相當(dāng)薄，并且非常均勻，同時，均勻的金屬膜層也是良好電容性能的的保障，避免電容器的容量出現(xiàn)差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。由于蒸鍍的金屬膜層相當(dāng)薄，很好解決現(xiàn)有技術(shù)中難以控制熱變形的技術(shù)問題，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質(zhì)層的良好平整性。而且，在金屬膜層表面附著有金屬耐磨帶，在使用過程中金屬耐磨帶可以有效保護(hù)金屬膜層，減少其損耗，防止磨損。
[0006]優(yōu)選的，所述聚對苯二甲酸乙二醇醋介質(zhì)層的上下表面均蒸鍍有金屬膜層。形成A-B-A的雙面金屬化電工膜結(jié)構(gòu)，熱變形能得到很好的控制。
[0007]優(yōu)選的，所述金屬膜層表面間隔設(shè)有互相平行的凹槽。在金屬膜層上設(shè)有凹槽，在熱變形情況下可以輕微變形進(jìn)行調(diào)整，很好解決現(xiàn)有技術(shù)中難以控制熱變形的技術(shù)問題，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質(zhì)層的良好平整性。
[0008]優(yōu)選的，所述凹槽由金屬膜層表面延伸至聚對苯二甲酸乙二醇醋介質(zhì)層表面。在熱變形情況下可以輕微變形進(jìn)行調(diào)整，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質(zhì)層的良好平整性。
[0009]優(yōu)選的，所述金屬膜層為鋁鋅合金層、鈦層或銀層。采用鋁鋅合金材料作為金屬膜層，成本較低，而采用鈦材料作為金屬膜層，附著力強(qiáng)，耐磨性能更加優(yōu)異，也可以采用銀材料作為金屬膜層，不過成本較高。
[0010]優(yōu)選的，所述金屬耐磨帶為鋅帶。鋅帶附著在金屬膜層表面，在使用過程中可以有效保護(hù)金屬膜層，減少其損耗，防止磨損。
[0011]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明的優(yōu)點(diǎn)是:本發(fā)明的耐磨電容器雙面金屬化電工膜采用高真空金屬沉積技術(shù)，在高真空條件下，將被沉積金屬材料加熱到融化并蒸發(fā)成氣態(tài)，蒸氣態(tài)原子或分子以冷凝方式沉積在基膜表面，形成金屬膜層。這樣，得到的金屬膜層可以相當(dāng)薄，并且非常均勻，同時，均勻的金屬膜層也是良好電容性能的的保障，避免電容器的容量出現(xiàn)差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。由于蒸鍍的金屬膜層相當(dāng)薄，并且在金屬膜層上設(shè)有凹槽，在熱變形情況下可以輕微變形進(jìn)行調(diào)整，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質(zhì)層的良好平整性，有效解決現(xiàn)有技術(shù)中難以控制熱變形的技術(shù)問題。而且，在金屬膜層表面附著有金屬耐磨帶，在使用過程中金屬耐磨帶可以有效保護(hù)金屬膜層，減少其損耗，防止磨損。
【附圖說明】
[0012]下面結(jié)合附圖和【具體實施方式】對本發(fā)明作進(jìn)一步描述:
[0013]圖1為本發(fā)明一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜實施例1的結(jié)構(gòu)示意圖。
【具體實施方式】
[0014]如圖1所示，為本發(fā)明的耐磨電容器雙面金屬化電工膜實施例1，由聚對苯二甲酸乙二醇醋介質(zhì)層I和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇醋介質(zhì)層I表面的金屬膜層2組成，所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層I的上下表面均蒸鍍有金屬膜層2。所述金屬膜層2表面間隔設(shè)有互相平行的凹槽3。所述凹槽3由金屬膜層2表面延伸至聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層I表面。所述金屬膜層2表面設(shè)有至少兩條互相平行的金屬耐磨帶4。所述金屬膜層2可以是鋁鋅合金層、鈦層或銀層。所述金屬耐磨帶4為鋅帶。
[0015]本實施例的耐磨電容器雙面金屬化電工膜采用高真空金屬沉積技術(shù)，在高真空條件下，將被沉積金屬材料加熱到融化并蒸發(fā)成氣態(tài)，蒸氣態(tài)原子或分子以冷凝方式沉積在基膜表面，形成金屬膜層。這樣，得到的金屬膜層2可以相當(dāng)薄，并且非常均勻，同時，均勻的金屬膜層2也是良好電容性能的的保障，避免電容器的容量出現(xiàn)差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。由于蒸鍍的金屬膜層2相當(dāng)薄，并且在金屬膜層上設(shè)有凹槽，而且，在金屬膜層2上設(shè)有凹槽3，在熱變形情況下可以輕微變形進(jìn)行調(diào)整，能在蒸鍍過程中保持聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層I的良好平整性，有效解決現(xiàn)有技術(shù)中難以控制熱變形的技術(shù)問題。而且，在金屬膜層2表面附著有金屬耐磨帶4，在使用過程中金屬耐磨帶4可以有效保護(hù)金屬膜層2，減少其損耗，防止磨損。
[0016]經(jīng)過試驗表明，本發(fā)明的耐磨電容器雙面金屬化電工膜可在125?155°C下制成電容器，制成的電容器容量大、穩(wěn)定性能好、自愈能力強(qiáng)，而且能減少其損耗，防止磨損，可在溫度85°C、濕度85°的惡劣環(huán)境下長期工作，成品率比現(xiàn)有技術(shù)中的金屬化蒸鍍膜增加30 ?50%。
[0017]以上所述僅為本發(fā)明的具體實施例，但本發(fā)明的技術(shù)特征并不局限于此，任何本領(lǐng)域的技術(shù)人員在本發(fā)明的領(lǐng)域內(nèi)，所作的變化或修飾皆涵蓋在本發(fā)明的專利范圍之中。
【主權(quán)項】
1.一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層(I)和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層(I)表面的金屬膜層(2)組成，所述金屬膜層(2)表面設(shè)有至少兩條互相平行的金屬耐磨帶(4)。2.如權(quán)利要求1所述的一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層(I)的上下表面均蒸鍍有金屬膜層(2)。3.如權(quán)利要求2所述的一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述金屬膜層(2)表面間隔設(shè)有互相平行的凹槽(3)。4.如權(quán)利要求3所述的一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述凹槽(3)由金屬膜層(2)表面延伸至聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層(I)表面。5.如權(quán)利要求1至4任意一項所述的一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述金屬膜層(2)為鋁鋅合金層、鈦層或銀層。6.如權(quán)利要求1至4任意一項所述的一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，其特征在于:所述金屬耐磨帶(4)為鋅帶。
【專利摘要】本發(fā)明公開了一種耐磨電容器雙面金屬化電工膜，屬于電工膜技術(shù)領(lǐng)域。采用高真空金屬沉積技術(shù)，得到的金屬膜層可以相當(dāng)薄，并且非常均勻，同時，均勻的金屬膜層也是良好電容性能的保障，避免電容器的容量出現(xiàn)差異以及卷繞后電容器芯子大小不一致。而且，由于蒸鍍的金屬膜層相當(dāng)薄，能在蒸鍍過程中保持薄膜介質(zhì)層的良好平整性，有效解決現(xiàn)有技術(shù)中難以控制熱變形以及表面的金屬膜層很容易磨損的技術(shù)問題。本發(fā)明的耐磨電容器雙面金屬化電工膜由聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層和蒸鍍在所述聚對苯二甲酸乙二醇酯介質(zhì)層表面的金屬膜層組成，所述金屬膜層表面設(shè)有至少兩條互相平行的金屬耐磨帶。
【IPC分類】H01G4/14, H01G4/008, H01G4/33
【公開號】CN104934221
【申請?zhí)枴緾N201510362418
【發(fā)明人】陳杰
【申請人】浙江七星電容器有限公司
【公開日】2015年9月23日
【申請日】2015年6月25日