一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機的制作方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本實用新型涉及一種半導(dǎo)體制作設(shè)備，具體是一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體指常溫下導(dǎo)電性能介于導(dǎo)體與絕緣體之間的材料。半導(dǎo)體在收音機、電視機以及測溫上有著廣泛的應(yīng)用。如二極管就是采用半導(dǎo)體制作的器件。半導(dǎo)體是指一種導(dǎo)電性可受控制，范圍可從絕緣體至導(dǎo)體之間的材料。無論從科技或是經(jīng)濟發(fā)展的角度來看，半導(dǎo)體的重要性都是非常巨大的。今日大部分的電子產(chǎn)品，如計算機、移動電話或是數(shù)字錄音機當(dāng)中的核心單元都和半導(dǎo)體有著極為密切的關(guān)連。常見的半導(dǎo)體材料有硅、鍺、砷化鎵等，而硅更是各種半導(dǎo)體材料中，在商業(yè)應(yīng)用上最具有影響力的一種。晶圓是指硅半導(dǎo)體集成電路制作所用的硅晶片，由于其形狀為圓形，故稱為晶圓；在硅晶片上可加工制作成各種電路元件結(jié)構(gòu)，而成為有特定電性功能之IC產(chǎn)品。晶圓的原始材料是硅，而地殼表面有用之不竭的二氧化硅。二氧化硅礦石經(jīng)由電弧爐提煉，鹽酸氯化，并經(jīng)蒸餾后，制成了高純度的多晶硅，其純度高達99.999999999%?，F(xiàn)有的工藝中一般很少有專門的清洗晶圓的裝置，清洗時難以清洗干凈，灰塵對晶圓的后續(xù)工藝影響較大。
【實用新型內(nèi)容】
[0003]本實用新型的目的在于提供一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，以解決上述【背景技術(shù)】中提出的問題。
[0004]為實現(xiàn)上述目的，本實用新型提供如下技術(shù)方案:
[0005]一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，包括吸塵裝置、清洗罐、轉(zhuǎn)軸、計時器、液位計、溫度表、加熱器、固定夾、排水管、溢流管、接盤和熱風(fēng)機，所述的清洗罐內(nèi)設(shè)有液位計，清洗罐上設(shè)有計時器，清洗罐外壁設(shè)有溫度表，清洗罐底端設(shè)有加熱器，清洗罐底端設(shè)有排水管，排水管上設(shè)有控制閥，溢流管一端與清洗罐中部連通，溢流管一端與排水管連接，清洗罐內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸底端安裝接盤，接盤底面設(shè)有多個固定夾，固定夾內(nèi)側(cè)設(shè)有保護套，清洗罐上部內(nèi)壁設(shè)有熱風(fēng)機，吸塵裝置通過吸塵管與清洗罐連通，吸塵管出口端設(shè)有吸塵口。
[0006]作為本實用新型進一步的方案:所述的轉(zhuǎn)軸為伸縮式結(jié)構(gòu)。
[0007]作為本實用新型再進一步的方案:所述的清洗罐由透明材料制成。
[0008]與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實用新型的有益效果是:本實用新型液位計測量清洗液的量，避免其更多或過少影響清洗效果，計時器設(shè)定清洗時間，保證合適的清洗效果，加熱器保證清洗液合適的溫度，溫度表隨時測量器溫度，提高清洗效果，溢流管避免清洗液量過多影響清洗，保護套保護晶圓，固定夾夾住晶圓，一次可以清洗多個晶圓，接盤在轉(zhuǎn)軸的帶動下轉(zhuǎn)動，保證清洗效果，提高清洗效率，清洗后通過熱風(fēng)機及時吹走晶圓表面的清洗液，避免其水漬影響下一步工藝效果，吸塵裝置避免灰塵因水漬沾染難以去除，影響工藝效果，清洗罐由透明材料制成，可以清楚的看到清洗罐內(nèi)清洗狀況，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，易于推廣。
【附圖說明】
[0009]圖1為一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0010]圖中:1、吸塵裝置，2、吸塵管，3、清洗罐，4、轉(zhuǎn)軸，5、計時器，6、液位計，7、溫度表，
8、加熱器，9、保護套，10、固定夾，11、排水管，12、溢流管，13、接盤，14、熱風(fēng)機。
【具體實施方式】
[0011 ] 下面結(jié)合【具體實施方式】對本專利的技術(shù)方案作進一步詳細地說明。
[0012]請參閱圖1，一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，包括吸塵裝置1、清洗罐3、轉(zhuǎn)軸4、計時器5、液位計6、溫度表7、加熱器8、固定夾10、排水管11、溢流管12、接盤13和熱風(fēng)機14，所述的清洗罐3內(nèi)設(shè)有液位計6，液位計6測量清洗液的量，避免其更多或過少影響清洗效果，清洗罐3上設(shè)有計時器5，計時器5設(shè)定清洗時間，保證合適的清洗效果，清洗罐3外壁設(shè)有溫度表7，清洗罐3底端設(shè)有加熱器8，加熱器8保證清洗液合適的溫度，溫度表7隨時測量器溫度，提高清洗效果，清洗罐3底端設(shè)有排水管11，排水管11上設(shè)有控制閥，溢流管12 —端與清洗罐3中部連通，溢流管12 —端與排水管11連接，溢流管12避免清洗液量過多影響清洗，清洗罐3內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)軸4，轉(zhuǎn)軸4為伸縮式結(jié)構(gòu)，轉(zhuǎn)軸4底端安裝接盤13，接盤13底面設(shè)有多個固定夾10，固定夾10內(nèi)側(cè)設(shè)有保護套9，保護套9保護晶圓，固定夾10夾住晶圓，一次可以清洗多個晶圓，接盤13在轉(zhuǎn)軸4的帶動下轉(zhuǎn)動，保證清洗效果，提高清洗效率，清洗罐3上部內(nèi)壁設(shè)有熱風(fēng)機14，清洗后通過熱風(fēng)機14及時吹走晶圓表面的清洗液，避免其水漬影響下一步工藝效果，吸塵裝置I通過吸塵管2與清洗罐3連通，吸塵管2出口端設(shè)有吸塵口，吸塵口與熱風(fēng)機14相對應(yīng)，吸塵裝置I避免灰塵因水漬沾染難以去除，影響工藝效果，清洗罐3由透明材料制成，可以清楚的看到清洗罐3內(nèi)清洗狀況。
[0013]本實用新型的工作原理是:本實用新型液位計測量清洗液的量，避免其更多或過少影響清洗效果，計時器設(shè)定清洗時間，保證合適的清洗效果，加熱器保證清洗液合適的溫度，溫度表隨時測量器溫度，提高清洗效果，溢流管避免清洗液量過多影響清洗，保護套保護晶圓，固定夾夾住晶圓，一次可以清洗多個晶圓，接盤在轉(zhuǎn)軸的帶動下轉(zhuǎn)動，保證清洗效果，提高清洗效率，清洗后通過熱風(fēng)機及時吹走晶圓表面的清洗液，避免其水漬影響下一步工藝效果，吸塵裝置避免灰塵因水漬沾染難以去除，影響工藝效果，清洗罐由透明材料制成，可以清楚的看到清洗罐內(nèi)清洗狀況。
[0014]上面對本專利的較佳實施方式作了詳細說明，但是本專利并不限于上述實施方式，在本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員所具備的知識范圍內(nèi)，還可以在不脫離本專利宗旨的前提下做出各種變化。
【主權(quán)項】
1.一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，包括吸塵裝置、清洗罐、轉(zhuǎn)軸、計時器、液位計、溫度表、加熱器、固定夾、排水管、溢流管、接盤和熱風(fēng)機，其特征在于，所述的清洗罐內(nèi)設(shè)有液位計，清洗罐上設(shè)有計時器，清洗罐外壁設(shè)有溫度表，清洗罐底端設(shè)有加熱器，清洗罐底端設(shè)有排水管，排水管上設(shè)有控制閥，溢流管一端與清洗罐中部連通，溢流管一端與排水管連接，清洗罐內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸底端安裝接盤，接盤底面設(shè)有多個固定夾，固定夾內(nèi)側(cè)設(shè)有保護套，清洗罐上部內(nèi)壁設(shè)有熱風(fēng)機，吸塵裝置通過吸塵管與清洗罐連通，吸塵管出口端設(shè)有吸塵口。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，其特征在于，所述的轉(zhuǎn)軸為伸縮式結(jié)構(gòu)。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，其特征在于，所述的清洗罐由透明材料制成。
【專利摘要】本實用新型公開了一種半導(dǎo)體晶圓除塵清洗機，包括吸塵裝置、清洗罐、轉(zhuǎn)軸、計時器、液位計、溫度表、加熱器、固定夾、排水管、溢流管、接盤和熱風(fēng)機，所述的清洗罐內(nèi)設(shè)有液位計，清洗罐上設(shè)有計時器，清洗罐外壁設(shè)有溫度表，清洗罐底端設(shè)有加熱器，清洗罐底端設(shè)有排水管，排水管上設(shè)有控制閥，溢流管一端與清洗罐中部連通，溢流管一端與排水管連接，清洗罐內(nèi)設(shè)有轉(zhuǎn)軸，轉(zhuǎn)軸底端安裝接盤，接盤底面設(shè)有多個固定夾，清洗罐上部內(nèi)壁設(shè)有熱風(fēng)機，吸塵裝置通過吸塵管與清洗罐連通。本實用新型保證合適的清洗效果，提高清洗效果，一次可以清洗多個晶圓，提高清洗效率，避免灰塵因水漬沾染難以去除而影響工藝效果，結(jié)構(gòu)簡單，使用方便，易于推廣。
【IPC分類】H01L21/67
【公開號】CN205177796
【申請?zhí)枴緾N201520881954
【發(fā)明人】何景瓷
【申請人】何景瓷
【公開日】2016年4月20日
【申請日】2015年11月6日