發(fā)光裝置及發(fā)光裝置的制造方法
【專利摘要】本發(fā)明提供一種具備由細線結(jié)構(gòu)部、透明導(dǎo)電層的構(gòu)成所構(gòu)成的透明電極的發(fā)光裝置中可以確保發(fā)光功能可靠性的發(fā)光裝置。其具有：透明基材(11)；在透明基材(11)上形成為條紋狀或格子狀且具有由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個細線的細線結(jié)構(gòu)部(12)；在透明基材(11)及細線結(jié)構(gòu)部(12)上依次層疊的透明導(dǎo)電層(13)、發(fā)光功能層、電極；按照在俯視下將形成發(fā)光功能層、電極的發(fā)光區(qū)域(14)包圍的方式沿著粘接劑形成區(qū)域(16)形成的粘接劑；以及介由粘接劑與透明基材相貼合的密封基材。通過使透明導(dǎo)電層(13)不存在于粘接劑與透明基材(11)之間，可獲得可靠性優(yōu)異的發(fā)光裝置。
【專利說明】
發(fā)光裝置及發(fā)光裝置的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及發(fā)光裝置及發(fā)光裝置的制造方法。特別是涉及適于有機電致發(fā)光裝置的發(fā)光裝置的技術(shù)。
【背景技術(shù)】
[0002]近年來，作為繼液晶顯示元件(IXD)之后的新一代顯示設(shè)備，進行了具備2維排列有機電致發(fā)光元件(以下也簡記為“有機EL元件”)等自發(fā)光元件而成的發(fā)光元件型顯示面板的發(fā)光裝置的研究開發(fā)。
[0003]有機EL元件具備陽極、陰極和形成于這一對電極間的有機EL層(發(fā)光功能層)。有機EL層例如具有有機發(fā)光層、空穴注入層等。有機EL元件中，通過由有機EL層中空穴與電子進行再結(jié)合所產(chǎn)生的能量來發(fā)光。
[0004]這種有機EL元件的光取出一側(cè)的透明電極一般來說使用錫摻雜氧化銦(IndiumThin Oxide; ΙΤ0，銦錫氧化物)或鋅摻雜氧化銦(Indium Zinc Oxide; ΙΖ0，銦鋅氧化物)等形成。此時，透明電極為了獲得低電阻必須是形成厚且均勻的膜，由于透光率減少、或變得昂貴、或形成工藝中需要高溫處理，因此特別是膜上的低電阻化是有限的(例如參照專利文獻I) O
[0005]因此，近年來公開了不使用ITO的透明電極的技術(shù)。利用該技術(shù)例如制作配置有一樣的網(wǎng)眼狀、條紋型或柵極型等的金屬和/或合金的細線結(jié)構(gòu)部的導(dǎo)電性面。進而根據(jù)該技術(shù)提出了如下方法:在導(dǎo)電性面上例如使用涂布法或印刷法將把導(dǎo)電性高分子材料溶解或分散在適當(dāng)?shù)娜軇┲卸傻挠湍纬赏该鲗?dǎo)電層，從而形成透明電極(例如參照專利文獻
2、3)。
[0006]現(xiàn)有技術(shù)文獻
[0007]專利文獻
[0008]專利文獻1:日本特開平10-162961號公報
[0009]專利文獻2:日本特開2005-302508號公報
[0010]專利文獻3:日本特開2006-93123號公報

【發(fā)明內(nèi)容】

[0011]發(fā)明要解決的技術(shù)問題
[0012]上述透明導(dǎo)電層例如使用涂布法或印刷法用導(dǎo)電性高分子材料油墨形成。此時，噴吐或轉(zhuǎn)印到基材上之后，通過油墨中含有的溶劑蒸發(fā)而進行干燥固化，成為作為透明導(dǎo)電層的涂膜。所形成的透明導(dǎo)電層同樣地擔(dān)當(dāng)有機EL元件的透明電極面。因此，透明電極需要具有在形成有細線結(jié)構(gòu)部的透明基材上的成膜性、作為有機EL元件電極的注入性、電阻值以及與密封結(jié)構(gòu)中的粘接劑的密合性等多種功能。
[0013]由于上述透明電極的彎曲性優(yōu)異，因此具備該透明電極的有機EL元件適于撓性設(shè)備用途。為有機EL元件時，在形成有粘接劑的區(qū)域中，透明導(dǎo)電層需要一方面與透明基材相密合、另一方面與粘接劑也密合。就這些密合性而言，當(dāng)透明導(dǎo)電層的兩面?zhèn)扔胁町悤r，具有在密合性弱的界面處易發(fā)生剝離、可靠性降低的問題。另外，由于在密封所形成的密閉結(jié)構(gòu)的邊界處存在透明導(dǎo)電層，因此還具有透明導(dǎo)電層需要具有優(yōu)異的低透濕性能等問題。
[0014]本發(fā)明鑒于上述事實而作出，其目的在于提供對于具備由細線結(jié)構(gòu)部及透明導(dǎo)電層的構(gòu)成而成的透明電極的發(fā)光裝置可以確保發(fā)光功能的可靠性的發(fā)光裝置及其制造方法。
[0015]用于解決技術(shù)問題的方法
[0016]為了達成上述目的，本發(fā)明一個方式的發(fā)光裝置的特征在于，其具備:透明基材；在所述透明基材上將由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個細線配置成條紋狀或格子狀而形成的細線結(jié)構(gòu)部;形成在形成有所述細線結(jié)構(gòu)部的所述透明基材上的透明導(dǎo)電層;在所述透明導(dǎo)電層上依次層疊的發(fā)光功能層及電極;按照在俯視下將形成有所述發(fā)光功能層及電極的區(qū)域即發(fā)光區(qū)域包圍的方式配置的粘接劑；以及介由所述粘接劑與所述透明基材相接合的密封基材，其中，所述透明導(dǎo)電層不存在于所述粘接劑與所述透明基材之間。
[0017]另外，本發(fā)明一個方式的發(fā)光裝置的制造方法的特征在于，在透明基材上將由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個細線配置成條紋狀或格子狀而形成細線結(jié)構(gòu)部，在形成有所述細線結(jié)構(gòu)部的所述透明基材上形成透明導(dǎo)電層，在所述透明導(dǎo)電層上依次層疊發(fā)光功能層及電極，按照在俯視下將形成有所述發(fā)光功能層及電極的區(qū)域即發(fā)光區(qū)域包圍的方式配置粘接劑，介由所述粘接劑將密封基材與所述透明基材相接合，所述透明導(dǎo)電層不存在于所述粘接劑與所述透明基材之間。
[0018]發(fā)明效果
[0019]根據(jù)本發(fā)明，形成有由細線結(jié)構(gòu)部及透明導(dǎo)電層構(gòu)成的透明電極的透明基材與粘接劑的密合性提高。因此，在制成貼合有密封基材的結(jié)構(gòu)時，可獲得發(fā)光功能的可靠性優(yōu)異的發(fā)光裝置。結(jié)果，可獲得彎曲性及長期可靠性優(yōu)異的發(fā)光裝置。
【附圖說明】
[0020]圖1為表示第I實施方式的透明電極的構(gòu)成的概略俯視圖。
[0021]圖2為具體示例了具備第I實施方式的透明電極的有機電致發(fā)光元件的要部的概略截面圖，(a)為圖1的A-A截面圖、(b)為B-B截面圖。
[0022]圖3為表示第I實施方式的透明電極的不同構(gòu)成的概略俯視圖。
[0023]圖4為表示第I實施方式的透明電極的又一個不同構(gòu)成的概略俯視圖。
[0024]圖5為表示第2實施方式的透明電極的構(gòu)成的概略俯視圖。
[0025]圖6為表示第2實施方式的透明電極的不同構(gòu)成的概略俯視圖。
【具體實施方式】
[0026]以下對本發(fā)明實施方式的發(fā)光裝置的制造方法、發(fā)光裝置進行說明。
[0027]以下說明中，作為發(fā)光裝置以使用了有機EL元件的有機EL發(fā)光裝置為例進行說明。此外，發(fā)光功能并不限于利用有機EL元件的發(fā)光功能。
[0028]本實施方式的有機EL發(fā)光裝置成為如下結(jié)構(gòu):有機EL元件形成在透明基材上，有機EL元件的發(fā)光區(qū)域被透明基材、粘接劑及密封基材密封。另外，透明電極具備細線結(jié)構(gòu)部和透明導(dǎo)電層。本實施方式中，如后所述成為透明導(dǎo)電層不存在于粘接劑與透明基材之間的結(jié)構(gòu)。
[0029][第I實施方式]
[0030]對第I實施方式的透明電極的構(gòu)成、透明電極的制造方法進行說明。
[0031]<透明電極的構(gòu)成>
[0032]本實施方式的透明電極具有由金屬和/或合金構(gòu)成的細線結(jié)構(gòu)部、及使用涂布法或印刷法形成的透明導(dǎo)電層。透明電極設(shè)置在透明基材上，例如細線結(jié)構(gòu)部和透明導(dǎo)電層從透明基材側(cè)起依次層疊而構(gòu)成。
[0033]本實施方式的透明電極從在用于有機EL元件中時提高亮度的觀點出發(fā)，透明電極的導(dǎo)電性面的表面電阻率優(yōu)選為0.01 Ω / □以上且100 Ω / □以下、更優(yōu)選為0.1 Ω / □以上且10Ω/□以下。
[0034]本實施方式的透明電極可以在LCD、電致發(fā)光元件、等離子體顯示器、電致發(fā)光顯示器、太陽能電池、觸摸面板等的透明電極、電子紙以及電磁波屏蔽材料等中使用。特別是本實施方式的透明電極由于導(dǎo)電性、透明性優(yōu)異，且平滑性也高，因此優(yōu)選用于有機EL元件。
[0035](透明基材)
[0036]本實施方式的透明電極中，作為透明基材，可以使用塑料膜、塑料板、玻璃等。
[0037]作為塑料膜及塑料板的原料，例如可以使用聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯等聚酯類，聚乙烯(PE)、聚丙烯(PP)、聚苯乙烯、EVA等聚烯烴類，聚氯乙烯、聚偏氯乙烯等乙烯基系樹脂，聚醚醚酮(PEEK)、聚砜(PSF)、聚醚砜(PES)、聚碳酸酯(PC)、聚酰胺、聚酰亞胺、丙烯酸樹脂、三醋酸纖維素(TAC)等。
[0038]透明基材優(yōu)選表面平滑性優(yōu)異。透明基材的表面的平滑性優(yōu)選算術(shù)平均粗糙度Ra為5nm以下且最大高度Ry為50nm以下，更優(yōu)選Ra為Inm以下且Ry為20nm以下。透明基材的表面可以賦予熱固化性樹脂、紫外線固化性樹脂、電子束固化性樹脂、放射線固化性樹脂等底涂層以進行平滑化，也可通過研磨等機械加工變得平滑。另外，為了提高透明導(dǎo)電層的涂布、粘合性，還可對透明基材實施利用電暈、等離子體、UV/臭氧進行的表面處理。這里，表面的平滑性可以由利用原子力顯微鏡(AFM)等的測定來求出。
[0039]另外，優(yōu)選對本實施方式的透明電極以阻斷大氣中的氧、水分為目的而設(shè)置阻氣層。作為阻氣層的形成材料，可以使用氧化硅、氮化硅、氧化氮化硅、氮化鋁、氧化鋁等金屬氧化物、金屬氮化物。這些材料除了水蒸汽阻隔功能之外還具有氧阻隔功能。特別是，阻氣層的形成材料優(yōu)選是阻隔性、耐溶劑性、透明性良好的氮化硅、氧化氮化硅。另外，阻氣層還可以根據(jù)需要制成多層構(gòu)成。此時，阻氣層可以僅由無機層構(gòu)成，也可由無機層和有機層構(gòu)成。阻氣層的形成方法可以根據(jù)材料使用電阻加熱蒸鍍法、電子束蒸鍍法、反應(yīng)性蒸鍍法、離子鍍法、濺射法。另外，阻氣層的厚度并無特別限定，阻氣層的厚度典型地優(yōu)選每I層為5nm?500nm的范圍內(nèi)、更優(yōu)選每I層為1nm?200nm。阻氣層設(shè)置在透明基材的至少一個面上。阻氣層優(yōu)選設(shè)置在透明基材的兩面上。
[0040](細線結(jié)構(gòu)部)
[0041]作為本實施方式的細線結(jié)構(gòu)部，優(yōu)選電阻低，其材料通常使用具有107S/cm以上導(dǎo)電率的材料。作為該導(dǎo)電材料的具體例，可舉出鋁、銀、鉻、金、銅、鉭、鉬等金屬和/或其合金。其中，從導(dǎo)電率高和材料的處理容易性的觀點出發(fā)，優(yōu)選鋁、鉻、銅、銀及其合金。
[0042]本實施方式中，將由上述導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個細線在透明基材的表面上配置成一樣的網(wǎng)眼狀、條紋型或柵極型等，構(gòu)成細線結(jié)構(gòu)部。如此，本實施方式中通過配置多個細線來制作導(dǎo)電性面，提高了透明電極的通電性。由金屬或合金構(gòu)成的細線的寬度并無特別限定，優(yōu)選為0.1wn?ΙΟΟΟμπι之間。相鄰的細線優(yōu)選以50μπι?5cm間隔的間距進行配置，特別優(yōu)選為ΙΟΟμπι以上且Icm以下的間距。
[0043]透明基材由于配置細線結(jié)構(gòu)部而光的透過率減少。該減少盡量地小是重要的。因此，在不過分地減小細線的間隔或者過分地增大細線寬度的情況下、優(yōu)選按照可確保80%以上的光的透過率的方式來設(shè)定細線的間隔或細線寬度是重要的。關(guān)于細線寬度與細線間隔的關(guān)系，細線寬度在其平面配置上根據(jù)目的決定即可，優(yōu)選為細線間隔的1/10000以上且1/5以下、更優(yōu)選為1/100以上且1/10以下。
[0044]細線結(jié)構(gòu)部的高度(厚度)優(yōu)選為0.05μηι以上且ΙΟμπι以下、更優(yōu)選為Ο.?μηι以上且Iym以下。關(guān)于細線寬度與細線高度的關(guān)系，細線高度根據(jù)所希望的導(dǎo)電性決定即可，優(yōu)選在細線寬度的1/10000以上且10倍以下的范圍內(nèi)進行使用。另外，細線結(jié)構(gòu)部還可根據(jù)需要制成多層構(gòu)成。此時，可以僅由相同的導(dǎo)電材料構(gòu)成，也可由不同的導(dǎo)電材料構(gòu)成。
[0045](透明導(dǎo)電層)
[0046]利用涂布法形成透明導(dǎo)電層時所使用的溶液含有成為透明導(dǎo)電層的材料和溶劑。透明導(dǎo)電層優(yōu)選含有顯不導(dǎo)電性的高分子化合物。該高分子化合物還可以含有摻雜劑。該高分子化合物的導(dǎo)電性通常以導(dǎo)電率計為10—5S/cm?105S/cm、優(yōu)選為10—3S/cm?105S/cm。另外，透明導(dǎo)電層優(yōu)選實質(zhì)上由顯示導(dǎo)電性的高分子化合物構(gòu)成。作為透明導(dǎo)電層的構(gòu)成材料，可以舉出聚苯胺及其衍生物、聚噻吩及其衍生物等。作為摻雜劑，可以使用公知的摻雜劑，作為其例子，可舉出聚苯乙烯磺酸、十二烷基苯磺酸等有機磺酸、PF5、AsF5、SbF5等路易斯酸。另外，顯示導(dǎo)電性的高分子化合物還可以是摻雜劑直接鍵合在高分子化合物上的自摻雜型高分子化合物。
[0047]透明導(dǎo)電層優(yōu)選含有聚噻吩和/或聚噻吩的衍生物來構(gòu)成，優(yōu)選實質(zhì)上由聚噻吩和/或聚噻吩的衍生物構(gòu)成。聚噻吩和/或聚噻吩的衍生物還可含有摻雜劑。聚噻吩、聚噻吩衍生物、或者聚噻吩與聚噻吩衍生物的混合物由于易于溶解或分散在水和醇等水系溶劑中，因此適合作為涂布法中使用的涂布液的溶質(zhì)來使用。另外，它們的導(dǎo)電性高、作為電極材料優(yōu)選使用。進而，這些物質(zhì)的Η0Μ0能量為5.0eV左右、與通常的有機EL元件中使用的有機發(fā)光層的Η0Μ0能量之差低達IeV左右，能夠有效地將空穴注入到有機發(fā)光層中，因此特別適合作為陽極的材料來使用。另外，它們的透明性高，適合作為有機EL元件的發(fā)光取出側(cè)的電極來使用。
[0048]透明導(dǎo)電層優(yōu)選含有聚苯胺和/或聚苯胺的衍生物來構(gòu)成，優(yōu)選實質(zhì)上由聚苯胺和/或聚苯胺的衍生物構(gòu)成。聚苯胺和/或聚苯胺的衍生物還可含有摻雜劑。聚苯胺和/或聚苯胺的衍生物由于導(dǎo)電性和穩(wěn)定性優(yōu)異，因此適合作為電極材料使用。另外，它們的透明性高，適合作為有機EL元件的發(fā)光取出側(cè)的電極來使用。
[0049 ] <透明電極的制造方法>
[0050]對本實施方式的透明電極的制造方法進行說明。
[0051]本實施方式中，將透明電極設(shè)置在透明基材上，透明電極通過在透明基材上依次形成細線結(jié)構(gòu)部、透明導(dǎo)電層來制造。
[0052]這里，在俯視下，透明基材上的區(qū)域具有中央側(cè)的發(fā)光區(qū)域14、包圍該發(fā)光區(qū)域14的粘接劑形成區(qū)域16、比粘接劑形成區(qū)域16更靠外側(cè)的外周區(qū)域(參照圖1)。
[0053]本實施方式的透明電極的制造方法中，首先在上述透明基材的一個面?zhèn)壬闲纬缮鲜鼋Y(jié)構(gòu)的細線結(jié)構(gòu)部。細線結(jié)構(gòu)部在形成于發(fā)光區(qū)域上的同時、使其一部分延伸至外周區(qū)域。
[0054]作為形成細線結(jié)構(gòu)部的方法并無特別限定，例如可舉出以下的方法:利用電阻加熱蒸鍍法、電子束蒸鍍法、濺射法或?qū)饘俦∧みM行熱壓縮的層壓法等形成由細線結(jié)構(gòu)部的構(gòu)成材料構(gòu)成的膜之后，利用使用了光致抗蝕劑的刻蝕法形成上述圖案。
[0055]另外，可舉出使用了含有成為細線結(jié)構(gòu)部的材料的溶液的成膜。作為用于形成成膜所使用的溶劑，只要是使成為細線結(jié)構(gòu)部的材料溶解則無特別限定。作為由溶液成膜的方法，可舉出旋涂法、流延法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、輥涂法、絲棒涂布法、浸漬涂布法、噴涂法、絲網(wǎng)印刷法、撓性印刷法、膠版印刷法、狹縫涂布法、噴墨印刷法、噴嘴印刷法等涂布法。特別是，由溶液成膜的方法優(yōu)選能夠直接形成上述圖案的成膜方法。成膜方法可以適當(dāng)選擇，優(yōu)選絲網(wǎng)印刷法、撓性印刷法、膠版印刷法等印刷法，噴墨印刷法、噴嘴印刷法等利用噴吐進行的涂布法。之后，進行干燥固化而形成細線結(jié)構(gòu)部。
[0056]接著，本實施方式的制造方法中，將涂布導(dǎo)電材料涂布在形成有細線結(jié)構(gòu)部的透明基材上的透明電極的形成區(qū)域上，在透明基材上對透明導(dǎo)電層進行成膜。此時，按照將與透明基材相貼合的密封基材(詳細內(nèi)容在后敘述)的要形成粘接劑的粘接劑形成區(qū)域排除的方式來形成透明導(dǎo)電層。作為成膜方法，可舉出旋涂法、流延法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、輥涂法、絲棒涂布法、浸漬涂布法、噴涂法、絲網(wǎng)印刷法、撓性印刷法、膠版印刷法、狹縫涂布法、噴墨印刷法、噴嘴印刷法等涂布法。特別是，由于在整個面上對透明電極的形成區(qū)域進行成膜，因此優(yōu)選一樣地進行涂布成膜的方法。由此觀點出發(fā)，成膜方法優(yōu)選旋涂法、棒涂法、絲棒涂布法、浸漬涂布法、噴涂法、狹縫涂布法、流延法、微凹版涂布法、凹版涂布法、輥涂法等涂布法。
[0057]接著，在本實施方式的制造方法中，在干燥處理室內(nèi)、在例如100°C以上的溫度條件下對涂布有成為透明電極的涂布導(dǎo)電材料的透明基材進行加熱處理。由此，通過使涂布導(dǎo)電材料溶液中含有的溶劑氣化，使涂布導(dǎo)電材料固定在形成有細線結(jié)構(gòu)部的透明基材上，形成透明導(dǎo)電層。
[0058]〈有機EL元件的構(gòu)成〉
[0059]本實施方式的有機EL元件具有由上述構(gòu)成而成的透明電極。本實施方式的有機EL元件作為陽極使用透明電極，對于有機發(fā)光層、陰極、密封結(jié)構(gòu)，可以使用有機EL元件中通常使用的材料、構(gòu)成等任意的材料或構(gòu)成。作為有機EL元件的電極及發(fā)光功能層的層構(gòu)成，例如可例示出以下構(gòu)成。
[0060]陽極/有機發(fā)光層/陰極、
[0061]陽極/空穴輸送層/有機發(fā)光層/電子輸送層/陰極、
[0062]陽極/空穴注入層/空穴輸送層/有機發(fā)光層/電子輸送層/陰極、
[0063]陽極/空穴注入層/有機發(fā)光層/電子輸送層/電子注入層/陰極、
[0064]陽極/空穴注入層/有機發(fā)光層/電子注入層/陰極，
[0065]這里，符號表示夾著的各層相鄰地層疊。以下的說明中也同樣。
[0066]本實施方式的有機EL元件還可以具有2層以上的有機發(fā)光層(發(fā)光功能層)，作為具有2層有機發(fā)光層的有機EL元件，可舉出以下所示的層構(gòu)成。
[0067]陽極/電荷注入層/空穴輸送層/有機發(fā)光層/電子輸送層/電荷注入層/電荷產(chǎn)生層/電荷注入層/空穴輸送層/有機發(fā)光層/電子輸送層/電荷注入層/陰極
[0068]另外，作為具有3層以上有機發(fā)光層的有機EL元件，具體地可舉出以(電荷產(chǎn)生層/電荷注入層/空穴輸送層/有機發(fā)光層/電子輸送層/電荷注入層)作為一個重復(fù)單元、以下所示的含有2個以上上述重復(fù)單元的層構(gòu)成。
[0069]陽極/電荷注入層/空穴輸送層/有機發(fā)光層/電子輸送層/電荷注入層/(該重復(fù)單元)/(該重復(fù)單元)/.../陰極
[0070]上述層構(gòu)成中，除陽極、陰極、有機發(fā)光層以外的各層還可根據(jù)需要刪除。
[0071]這里，電荷產(chǎn)生層是指通過施加電場而產(chǎn)生空穴和電子的層。作為電荷產(chǎn)生層，例如可舉出由氧化釩、ITO、氧化鉬等構(gòu)成的薄膜。
[0072]以下對空穴注入層、空穴輸送層、有機發(fā)光層、電子輸送層、電子注入層、陰極的各層及密封結(jié)構(gòu)進行說明。
[0073](設(shè)置在陽極與有機發(fā)光層之間的層)
[0074]作為根據(jù)需要設(shè)置在陽極與有機發(fā)光層之間的層，可舉出空穴注入層、空穴輸送層、電子阻斷層等?？昭ㄗ⑷雽邮蔷哂懈纳苼碜躁枠O的空穴注入效率的功能的層，空穴輸送層是指具有對來自空穴注入層或更接近于陽極的層的空穴注入進行改善的功能的層。另夕卜，當(dāng)空穴注入層或空穴輸送層具有對電子的輸送進行攔阻的功能時，有時將這些層稱作電子阻斷層。具有對電子的輸送進行攔阻的功能這一事項例如可通過制作僅流過電子電流的元件、由其電流值的減少來確認攔阻效果。
[0075](空穴注入層)
[0076]空穴注入層可以設(shè)置在陽極與空穴輸送層之間、或者陽極與有機發(fā)光層之間。作為構(gòu)成空穴注入層的材料，可以適當(dāng)使用公知的材料，并無特別限定。例如可舉出苯基胺系、樹枝型胺系、酞菁系、腙衍生物、咔唑衍生物、三唑衍生物、咪唑衍生物、具有氨基的噁二唑衍生物，氧化釩、氧化鉭、氧化鉬等氧化物，無定形碳、聚苯胺、聚噻吩衍生物等。
[0077]作為空穴注入層的成膜方法，例如可舉出由含有成為空穴注入層的材料(空穴注入材料)的溶液的成膜。作為由溶液的成膜中使用的溶劑，只要是使空穴注入材料溶解則無特別限定，可舉出氯仿、二氯甲烷、二氯乙烷等氯系溶劑，四氫呋喃等醚系溶劑，甲苯、二甲苯等芳香族烴系溶劑，丙酮、甲乙酮等酮系溶劑，醋酸乙酯、醋酸丁酯、乙基溶纖劑醋酸酯等酯系溶劑及水。
[0078]作為由溶液成膜的方法，可舉出旋涂法、流延法、微凹版涂布法、凹版涂布法、棒涂法、輥涂法、絲棒涂布法、浸漬涂布法、噴涂法、絲網(wǎng)印刷法、撓性印刷法、膠版印刷法、狹縫涂布法、噴墨印刷法、噴嘴印刷法等涂布法。
[0079]另外，作為空穴注入層的厚度，優(yōu)選為5?300nm左右。該厚度小于5nm時，有制造變難的傾向，而厚度超過300nm時，有驅(qū)動電壓和施加于空穴注入層的電壓增大的傾向。
[0080](空穴輸送層)
[0081 ]作為構(gòu)成空穴輸送層的材料并無特別限定，例如可例示出N，N 二苯基-N，N 二(3-甲基苯基)4，4’_二氨基聯(lián)苯(ITD)、4，4’-雙[N-(l-萘基)-N-苯基氨基]聯(lián)苯(NPB)等芳香族胺衍生物，聚乙烯基咔唑或其衍生物，聚硅烷或其衍生物，側(cè)鏈或主鏈上具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物，吡唑啉衍生物，芳基胺衍生物，芪衍生物，三苯基二胺衍生物，聚苯胺或其衍生物，聚噻吩或其衍生物，聚芳基胺或其衍生物，聚吡咯或其衍生物，聚(對苯撐乙烯撐)或其衍生物，或者聚(2，5_噻吩撐乙烯撐)或其衍生物等。
[0082]其中，作為空穴輸送層中使用的空穴輸送材料，優(yōu)選聚乙烯基咔唑或其衍生物、聚硅烷或其衍生物、側(cè)鏈或主鏈上具有芳香族胺的聚硅氧烷衍生物、聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物、聚芳基胺或其衍生物、聚(對苯撐乙烯撐)或其衍生物、或者聚(2，5_噻吩撐乙烯撐)或其衍生物等高分子空穴輸送材料。為低分子的空穴輸送材料時，優(yōu)選使其分散在高分子粘合劑中進行使用。
[0083]作為空穴輸送層的成膜方法并無特別限定，為低分子的空穴輸送材料時，可舉出由含有高分子粘合劑和空穴輸送材料的混合液的成膜，為高分子的空穴輸送材料時，可舉出由含有空穴輸送材料的溶液的成膜。作為由溶液的成膜中使用的溶劑，只要使空穴輸送材料溶解則無特別限定，作為其一例可舉出在空穴注入層的項中例示過的溶劑。作為由溶液的成膜方法，可舉出與上述空穴注入層的成膜法相同的涂布法。
[0084]空穴輸送層的厚度并無特別限定，可以根據(jù)目標設(shè)計適當(dāng)?shù)剡M行變更，優(yōu)選為I?100nm左右。該厚度小于上述下限值時，有制造變難或無法獲得充分的空穴輸送效果等傾向。另一方面，當(dāng)超過上述上限值時，有驅(qū)動電壓和施加于空穴輸送層的電壓增大的傾向。因此，空穴輸送層的厚度優(yōu)選為I?lOOOnm、更優(yōu)選為2?500nm、進一步優(yōu)選為5?200nmo
[0085](有機發(fā)光層)
[0086]有機發(fā)光層主要具有發(fā)出熒光或磷光的有機物(低分子化合和高分子化合物)。另外，有機發(fā)光層也可進一步含有摻雜劑材料。作為形成本實施方式中能夠使用的有機發(fā)光層的材料，例如可舉出以下的材料。
[0087]“色素系材料，’
[0088]作為色素系材料，例如可舉出甲環(huán)戊丙胺衍生物、喹吖酮衍生物、香豆素衍生物、四苯基丁二烯衍生物化合物、三苯基胺衍生物、噁二唑衍生物、吡唑喹啉衍生物、二苯乙烯基苯衍生物、二苯乙烯基芳撐衍生物、吡咯衍生物、噻吩環(huán)化合物、吡啶環(huán)化合物、紫環(huán)酮衍生物、茈衍生物、低聚噻吩衍生物、噁二唑二聚物、吡唑啉二聚物等。
[0089]“金屬絡(luò)合物系材料”
[0090]作為金屬絡(luò)合物系材料，例如可舉出銥絡(luò)合物、鉑絡(luò)合物等具有自三重激態(tài)的發(fā)光的金屬絡(luò)合物，羥基喹啉鋁絡(luò)合物、苯并喹啉鈹絡(luò)合物、苯并噁唑鋅絡(luò)合物、苯并噻唑鋅絡(luò)合物、偶氮甲基鋅絡(luò)合物、B卜啉鋅絡(luò)合物、銪絡(luò)合物等中心金屬具有Al、Zn、Be等或Tb、Eu、Dy等稀土類金屬且配位基具有噁二唑、噻二唑、苯基吡啶、苯基苯并咪唑、喹啉結(jié)構(gòu)等的金屬絡(luò)合物等。
[0091]“高分子系材料”
[0092]作為高分子系材料，例如可舉出聚對苯撐乙烯撐衍生物、聚噻吩衍生物、聚對苯撐衍生物、聚硅烷衍生物、聚乙炔衍生物、聚芴衍生物、聚乙烯基咔唑衍生物、上述色素體或金屬絡(luò)合物系發(fā)光材料進行了高分子化的材料等。
[0093]上述發(fā)光性材料中，作為發(fā)藍色光的材料，可舉出二苯乙烯基芳撐衍生物、噁二唑衍生物及它們的聚合物，聚乙烯基咔唑衍生物、聚對苯撐衍生物、聚芴衍生物等。
[0094]另外，作為發(fā)綠色光的材料，可舉出喹吖酮衍生物、香豆素衍生物及它們的聚合物、聚對苯撐乙烯撐衍生物、聚芴衍生物等。
[0095]另外，作為發(fā)紅色光的材料，可舉出香豆素衍生物、噻吩環(huán)化合物及它們的聚合物、聚對苯撐乙烯撐衍生物、聚噻吩衍生物、聚芴衍生物等。
[0096]“摻雜劑材料”
[0097]有機發(fā)光層中以提高發(fā)光效率或改變發(fā)光波長為目的，可添加摻雜劑。作為這種摻雜劑，例如可舉出茈衍生物、香豆素衍生物、紅熒烯衍生物、喹吖酮衍生物、方酸菁衍生物、撲啉衍生物、苯乙烯系色素、并四苯衍生物、吡唑啉酮衍生物、十環(huán)烯、酚噁嗪酮等。另外，有機發(fā)光層的厚度通常為約2nm?200nm。
[0098]作為有機發(fā)光層的成膜方法，可舉出由含有有機發(fā)光材料的溶液的成膜。作為由溶液的成膜中使用的溶劑，只要使有機發(fā)光材料溶解則無特別限定，作為其一例可舉出在空穴注入層的項中例示過的溶劑。作為由溶液的成膜方法，可舉出與上述空穴注入層的成膜法相同的涂布法。
[0099](設(shè)置在陰極與發(fā)光層之間的層)
[0100]作為根據(jù)需要設(shè)置在陰極與有機發(fā)光層之間的層，可舉出電子注入層、電子輸送層、空穴阻隔層等。當(dāng)在陰極與有機發(fā)光層之間設(shè)置電子注入層和電子輸送層這兩個層時，將接觸于陰極的層稱作電子注入層、將除去該電子注入層的層稱作電子輸送層。
[0101]電子注入層是具有對來自陰極的電子注入效率進行改善的功能的層。電子輸送層是具有對來自陰極、電子注入層或更接近于陰極的層的電子注入進行改善的功能的層?？昭ㄗ韪魧邮蔷哂袑昭ǖ妮斔瓦M行阻攔的功能的層。另外，電子注入層和/或電子輸送層具有對空穴的輸送進行阻攔的功能時，這些層有時兼作空穴阻隔層。
[0?02](電子輸送層)
[0103]作為構(gòu)成電子輸送層的電子輸送材料，可以使用公知的材料，可舉出噁二唑衍生物、蒽醌二甲烷或其衍生物、苯醌或其衍生物、萘醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、四氰基蒽醌二甲烷或其衍生物、芴酮或其衍生物、二苯基二氰基乙烯或其衍生物、聯(lián)苯醌衍生物、或者8-羥基喹啉或其衍生物的金屬絡(luò)合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物等。
[0104]其中，作為電子輸送材料，優(yōu)選噁二唑衍生物、苯醌或其衍生物、蒽醌或其衍生物、8-羥基喹啉或其衍生物的金屬絡(luò)合物、聚喹啉或其衍生物、聚喹喔啉或其衍生物、聚芴或其衍生物，更優(yōu)選2-(4-聯(lián)苯基)-5-(4-叔丁基苯基)-1，3，4_噁二唑、苯醌、蒽醌、三(8-羥基喹啉)鋁、聚喹啉。
[0105]作為電子輸送層的成膜方法并無特別限定，為低分子的電子輸送材料時，可舉出由含有高分子粘合劑和電子輸送材料的混合液的成膜，為高分子的電子輸送材料時，可舉出由含有電子輸送材料的溶液的成膜。作為由溶液的成膜中使用的溶劑，只要使電子輸送材料溶解則無特別限定，作為其一例可舉出在空穴注入層的項中例示過的溶劑。作為由溶液的成膜方法，可舉出與上述空穴注入層的成膜法相同的涂布法。
[0106]電子輸送層的厚度隨所用材料而最佳值不同，可以根據(jù)目標設(shè)計適當(dāng)?shù)刈兏辽傩枰粫a(chǎn)生針孔那樣的厚度。作為膜厚，例如優(yōu)選為I?100nm左右、更優(yōu)選為2?500nm、進一步優(yōu)選為5?200nm。
[0107](電子注入層)
[0108]作為構(gòu)成電子注入層的材料，根據(jù)有機發(fā)光層的種類適當(dāng)選擇最佳的材料，可舉出堿金屬、堿土類金屬、含有堿金屬及堿土類金屬中的I種以上的合金、堿金屬或堿土類金屬的氧化物、鹵化物、碳氧化物或者這些物質(zhì)的混合物等。作為堿金屬、堿金屬的氧化物、鹵化物及碳氧化物的例子，可舉出鋰、鈉、鉀、銣、銫、氧化鋰、氟化鋰、氧化鈉、氟化鈉、氧化鉀、氟化鉀、氧化銣、氟化銣、氧化銫、氟化銫、碳酸鋰等。另外，作為堿土類金屬、堿土類金屬的氧化物、齒化物及碳氧化物的例子，可舉出鎂、鈣、鋇、鍶、氧化鎂、氟化鎂、氧化鈣、氟化鈣、氧化鋇、氟化鋇、氧化鍶、氟化鍶、碳酸鎂等。電子注入層也可以由層疊了 2層以上的層疊體構(gòu)成，例如可舉出氟化鋰/鈣等。電子注入層利用各種蒸鍍法、濺射法、各種涂布法等形成。作為電子注入層的膜厚，優(yōu)選為I?I OOOnm左右。
[0109](陰極)
[0110]作為陰極的材料，優(yōu)選功函數(shù)小、對有機發(fā)光層中的電子注入容易的材料和/或?qū)щ娐矢叩牟牧虾?或可見光反射率高的材料。作為這樣的陰極材料，具體地可舉出金屬、金屬氧化物、合金、石墨或石墨層間化合物、氧化鋅等無機半導(dǎo)體等。
[0111]作為上述金屬，可以使用堿金屬或堿土類金屬、過渡金屬或II1-b屬金屬等。作為這些金屬的具體例子，可舉出鋰、鈉、鉀、銣、銫、鈹、鎂、I丐、鎖、鋇、金、銀、鈾、銅、猛、鈦、鈷、鎳、媽、錫、招、鈧、1凡、鋅、?乙、銦、鋪、釤、銪、鋪、鐿等。
[0112]另外，作為合金，可舉出含有上述金屬的至少一種的合金，具體地可舉出鎂-銀合金、鎂-銦合金、鎂-鋁合金、銦-銀合金、鋰-鋁合金、鋰-鎂合金、鋰-銦合金、鈣-鋁合金等。
[0113]陰極根據(jù)需要制成透明電極，作為成為透明電極的陰極的材料，可舉出氧化銦、氧化鋅、氧化錫、ιτο、ιζο等導(dǎo)電性氧化物，聚苯胺或其衍生物、聚噻吩或其衍生物等導(dǎo)電性有機物。
[0114]另外，還可以將陰極制成2層以上的層疊結(jié)構(gòu)。另外，電子注入層有時也作為陰極進行使用。
[0115]陰極的膜厚可以考慮導(dǎo)電率或耐久性適當(dāng)?shù)剡M行選擇，例如為10?lOOOOnm、優(yōu)選為20?lOOOnm、更優(yōu)選為50?500nm。
[0116](密封結(jié)構(gòu))
[0117]接著，本實施方式中，在使用粘接劑在密封基材上形成粘接層之后進行貼合，從而進行發(fā)光區(qū)域的密封。還可先在透明基材11側(cè)形成粘接層。作為粘接層，還可以使用熱固化型的粘接層，但考慮到對構(gòu)成有機EL的材料的影響時，優(yōu)選是光固化型的粘接劑。上述粘接劑例如可舉出酯丙烯酸酯、氨基甲酸酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯、丙烯酸樹脂丙烯酸酯等各種丙烯酸酯，使用了氨基甲酸酯聚酯等樹脂的自由基系粘接劑，使用了環(huán)氧、乙烯基醚等樹脂的陽離子系粘接劑，硫醇-烯加成型樹脂系粘接劑等。作為上述粘接劑，其中優(yōu)選沒有氧造成的阻礙、光照射后聚合反應(yīng)也會進行的陽離子系粘接劑。作為陽離子系固化型類型，優(yōu)選紫外線固化型環(huán)氧樹脂粘接劑，而且特別優(yōu)選在照射lOOmW/cm2以上的紫外線時、在10?90秒以內(nèi)發(fā)生固化的紫外線固化型粘接劑。通過在該時間內(nèi)使其固化，可以在排除紫外線照射對其他構(gòu)成要素造成的影響的同時、粘接劑充分地固化、從而具備適當(dāng)?shù)恼辰訌姸?。另外，從生產(chǎn)工序的效率的觀點出發(fā)，也優(yōu)選在上述時間范圍內(nèi)。另外，無論粘接劑的種類如何，優(yōu)選低透濕性且高粘接性的粘接劑。作為在密封基材上形成粘接層的方法之一例，可舉出分配法、擠出層壓法、熔融-熱熔法、壓延法、噴嘴涂布法、絲網(wǎng)印刷法、真空層壓法、熱輥層壓法等。作為粘接層的厚度并無特別限定，為薄的膜，優(yōu)選為I?100μπι，特別優(yōu)選為5?50μηι。
[0118]作為密封基材，在為需要透明性的頂部發(fā)射型有機EL元件時，可以使用玻璃、聚對苯二甲酸乙二醇酯(ΡΕΤ)、聚醚砜(PES)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)等塑料膜，在為不特別需要透明性的底部發(fā)射型的有機EL元件時，除了上述材料之外，還可以使用不銹鋼或鋁等金屬材料或不透明的玻璃、塑料材料。
[0119]由以上構(gòu)成有機EL發(fā)光裝置。
[0120]另外，本實施方式的有機EL發(fā)光裝置可以用于自發(fā)光型顯示器、液晶用背光、照明等中。
[0121]<作用效果等>
[0122]接著，對使用了上述透明電極的構(gòu)成及其制造方法時的作用效果，參照圖1、圖2、圖3及圖4進彳丁說明。
[0123]圖1表示在透明基材11上形成到細線結(jié)構(gòu)部12及透明導(dǎo)電層13的概略俯視圖。圖1中，為了易于理解，省略了有機EL層21、陰極層22、密封基材23，僅示出了密封基材配置區(qū)域15、粘接劑形成區(qū)域16及發(fā)光區(qū)域14的形成區(qū)域。圖1所示的例子是在透明基材11上以柵極型配置有細線結(jié)構(gòu)部12的例子，但并無特別限定。
[0124]另外，圖2為使用本實施方式的透明電極制作的有機EL元件的概略截面圖。這里，為了易于理解，記載為有機EL層21，但只要是上述有機EL元件的層構(gòu)成，則可以是任何構(gòu)成。
[0125]如圖1所示，本實施方式的透明電極中，在透明基材11上的至少發(fā)光區(qū)域上形成細線結(jié)構(gòu)部12。按照該細線結(jié)構(gòu)部12的一部分延伸至密封基材配置區(qū)域15的外側(cè)的方式形成。通過將細線結(jié)構(gòu)部12形成至密封基材配置區(qū)域15的外側(cè)，可以兼具密封基材外側(cè)處的取出電極的功能。
[0126]之后，本實施方式中，按照除去粘接劑形成區(qū)域16的方式形成透明導(dǎo)電層13，制作透明電極。此時，在形成有延伸至粘接劑形成區(qū)域16外側(cè)的細線結(jié)構(gòu)部12的區(qū)域上也形成透明導(dǎo)電層13。由此，由于能夠?qū)⒚芊饣?3外側(cè)的取出電極作為一樣的面電極進行制作，因此在之后的與驅(qū)動電路的連接工序中，不需要很高的對位精度，具有可簡化工序的效果。
[0127]進而，本實施方式的透明電極中，沿著包圍發(fā)光區(qū)域14的粘接劑形成區(qū)域16配置粘接劑24，介由該粘接劑24將透明基材11與密封基材24粘貼，將兩者11、24接合。
[0128]使用本實施方式的透明電極制作有機EL元件時，一部分如圖2(b)所示，粘接劑24密合在細線結(jié)構(gòu)部12上，但其他多個區(qū)域如圖2(a)所示，粘接劑24密合在透明基材11上。如此，本實施方式的透明電極中，由于沒有透明導(dǎo)電層13與粘接劑24相密合的區(qū)域，即粘接劑24不隔著透明導(dǎo)電層13地接合在透明基材11上，因而可以獲得密合性強、難以發(fā)生剝離的有機EL元件。另外，本實施方式的透明電極中，由于不存在介由透明導(dǎo)電層13的水分等的侵入，因而可獲得長期可靠性優(yōu)異的有機EL元件。
[0129]這里，作為比較，使用細線結(jié)構(gòu)部12的整個區(qū)域被透明導(dǎo)電層13覆蓋的透明電極制作了有機EL元件。該比較的例子中，多個區(qū)域中粘接劑24密合在透明導(dǎo)電層13上，比密封基材23與粘接劑24的密合性弱，在透明導(dǎo)電層13與粘接劑24的界面上發(fā)生了剝離。另外，在比較的例子中觀察到了可靠性差、長期保管導(dǎo)致亮度降低、形成了非發(fā)光區(qū)域。
[0130]在上述構(gòu)成中，成為在抑制透明導(dǎo)電層13在粘接劑形成區(qū)域16上的形成的同時將透明導(dǎo)電層13也形成在粘接劑形成區(qū)域16外側(cè)的構(gòu)成。與此相對，也可以如圖3所示，進一步限定透明導(dǎo)電層13的形成范圍，僅在粘接劑形成區(qū)域16內(nèi)側(cè)的范圍上形成透明導(dǎo)電層13。此時，與上述同樣，沒有透明導(dǎo)電層13與粘接劑24相密合的區(qū)域，可獲得同樣的效果。
[0131]另外，在形成了柵極型的細線結(jié)構(gòu)部12時，當(dāng)按其方向區(qū)別而定義為行方向(從正面觀察附圖時的圖1、圖3的左右方向)、列方向(從正面觀察附圖時的圖1、圖3的上下方向)時，僅形成在粘接劑24的下部與其正交的行方向的細線結(jié)構(gòu)部12。此時，由于沒有列方向的細線結(jié)構(gòu)部12，因此粘接劑24密合在透明基材11上的區(qū)域有所增加，因而密合性進一步提尚O
[0132]圖3中圖示了細線結(jié)構(gòu)部12為柵極型的情況，但也可以如圖4所示，通過將細線結(jié)構(gòu)部12沿一個方向(行方向:從正面觀察附圖時的圖4的左右方向)延伸、形成至密封基材配置區(qū)域15的外側(cè)，由此形成為兼具比密封基材23更靠外側(cè)的取出電極的功能的條紋型圖案形狀。之后，將透明導(dǎo)電層13僅形成在密封基材配置區(qū)域15的內(nèi)側(cè)，制作透明電極。此時也可獲得與圖3的柵極型細線結(jié)構(gòu)部12同樣的效果。
[0133][第2實施方式]
[0134]接著，對第2實施方式的發(fā)光裝置進行說明。
[0135]<透明電極的構(gòu)成>
[0136]第2實施方式的發(fā)光裝置的構(gòu)成及制造方法與上述第I實施方式的基本構(gòu)成相同。但是，第2實施方式中，在透明電極的構(gòu)成中，細線結(jié)構(gòu)部12的平面構(gòu)成與第I實施方式不同。因此，參照圖5和圖6，在以下的說明中對透明電極的構(gòu)成進行說明，對于其他則省略。
[0137]第I實施方式中，對形成一樣的細線結(jié)構(gòu)部12的構(gòu)成進行了說明。與此相對，第2實施方式是細線結(jié)構(gòu)部12的圖案形狀在發(fā)光區(qū)域14和非發(fā)光區(qū)域中有所不同的情況的例子。
[0138]圖5表示在透明基材11上形成至細線結(jié)構(gòu)部12及透明導(dǎo)電層13的概略俯視圖。圖5中，為了易于理解，有機EL層21、陰極層22、密封基材23省略，僅顯示密封基材配置區(qū)域15、粘接劑形成區(qū)域16及發(fā)光區(qū)域14。
[0139]圖5所示的例子中，僅在透明基材11上的發(fā)光區(qū)域中以柵極型配置細線結(jié)構(gòu)部12。此時，作為透明電極的構(gòu)成，細線結(jié)構(gòu)部12的形狀在發(fā)光區(qū)域14和非發(fā)光區(qū)域(比粘接劑形成區(qū)域16更靠外側(cè))中不同，在非發(fā)光區(qū)域中，按照細線結(jié)構(gòu)部12在透明基材11上的密度減小的方式來形成。
[0140]另外，透明導(dǎo)電層13與第I實施方式同樣地形成。
[0141]具體地說，透明導(dǎo)電層13的形成如圖5所示，當(dāng)細線結(jié)構(gòu)部12為柵極型時，當(dāng)按其方向區(qū)別而定義為行方向(從正面觀察附圖時的圖5的左右方向)、列方向(從正面觀察附圖時的圖5的上下方向)時，在非發(fā)光區(qū)域中不形成列方向的細線、僅形成行方向的細線結(jié)構(gòu)部12，由此在非發(fā)光區(qū)域中按照細線結(jié)構(gòu)部12在透明基材11上的密度減小的方式來形成。透明導(dǎo)電層13的形成通過僅在非發(fā)光區(qū)域中行方向的細線結(jié)構(gòu)部12上進行，密度雖然隨其細線結(jié)構(gòu)的不同而不同，但變?yōu)?/2左右。當(dāng)進一步減小細線結(jié)構(gòu)部12的密度時，在非發(fā)光區(qū)域中通過減少行方向的細線結(jié)構(gòu)的根數(shù)而成為可能。
[0142]另外，圖6所示的例子是細線結(jié)構(gòu)部12為一個方向(行方向:從正面觀察附圖時的圖6的左右方向)的條紋型的情況的例子，此時，通過在非發(fā)光區(qū)域中減少條紋型的細線的根數(shù)，在非發(fā)光區(qū)域中按照細線結(jié)構(gòu)部12在透明基材11上的密度減小的方式來形成。此時，非發(fā)光區(qū)域中行方向的細線結(jié)構(gòu)的根數(shù)減少也沒有關(guān)系。作為取出電極，根據(jù)所需的電阻值而有所限制，但考慮到使其減少的效果，則優(yōu)選使相對于發(fā)光區(qū)域的非發(fā)光區(qū)域中的細線結(jié)構(gòu)部12的根數(shù)為1/2以下的根數(shù)，更優(yōu)選為1/3以下的根數(shù)。
[0143]<作用效果等>
[0144]這里，對使用了上述圖5及圖6例示的透明電極的構(gòu)成時的作用效果進行說明。
[0145]通過如本實施方式那樣在非發(fā)光區(qū)域中按照細線結(jié)構(gòu)部12在透明基材11上的密度減小的方式來形成，第2實施方式的構(gòu)成與第I實施方式的構(gòu)成相比，特別是如圖6所示細線結(jié)構(gòu)部12為條紋型時，細線結(jié)構(gòu)部12與粘接劑24相密合的區(qū)域減少。因此，第2實施方式中，透明基材11與粘接劑24相密合的區(qū)域增加，因而密合性進一步提高。另外，第2實施方式中，無論細線結(jié)構(gòu)部12的形狀如何，形成在透明基材11上的細線結(jié)構(gòu)部12的體積(或面積)減少，因此可以減少細線結(jié)構(gòu)部12的材料使用量，因而更優(yōu)選。
[0146]另外，對于其他的具體的細部結(jié)構(gòu)等當(dāng)然可以適當(dāng)?shù)刈兏?br>[0147]以上，將本申請主張優(yōu)先權(quán)的日本專利申請2014-006013(2014年I月16日提出申請)的全部內(nèi)容作為引用例包含在此。這里雖然參照有限數(shù)目的實施方式進行了說明，但權(quán)利范圍并非限定于這些，基于上述公開的各實施方式的改變對本領(lǐng)域技術(shù)人員是顯而易見的。
[0148]符號說明
[0149]11透明基材
[0150]12細線結(jié)構(gòu)部
[0151]13透明導(dǎo)電層
[0152]14發(fā)光區(qū)域
[0153]15密封基材配置區(qū)域
[0154]16粘接劑形成區(qū)域
[0155]21 有機 EL 層
[0156]22陰極層
[0157]23密封基材
[0158]24粘接劑
【主權(quán)項】
1.一種發(fā)光裝置，其特征在于，其具備: 透明基材； 在所述透明基材上將由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個細線配置成條紋狀或格子狀而形成的細線結(jié)構(gòu)部； 形成在形成有所述細線結(jié)構(gòu)部的所述透明基材上的透明導(dǎo)電層； 在所述透明導(dǎo)電層上依次層疊的發(fā)光功能層及電極； 按照在俯視下將形成有所述發(fā)光功能層及電極的區(qū)域即發(fā)光區(qū)域包圍的方式配置的粘接劑；以及 介由所述粘接劑與所述透明基材相接合的密封基材， 其中，所述透明導(dǎo)電層不存在于所述粘接劑與所述透明基材之間。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述細線結(jié)構(gòu)部中在俯視下與所述粘接劑重疊的部分僅是在與所述粘接劑的延伸方向交叉的方向上延伸的所述細線。3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述細線結(jié)構(gòu)部在俯視下形成于所述發(fā)光區(qū)域中，并且延伸至被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)而形成。4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的發(fā)光裝置，其特征在于，位于被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)的細線結(jié)構(gòu)部在俯視下與位于所述發(fā)光區(qū)域的細線結(jié)構(gòu)部相比，細線的密度更小。5.根據(jù)權(quán)利要求3或4所述的發(fā)光裝置，其特征在于，所述透明導(dǎo)電層還形成在形成有位于被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)的細線結(jié)構(gòu)部的透明基材上。6.一種發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于， 在透明基材上將由導(dǎo)電材料構(gòu)成的多個細線配置成條紋狀或格子狀而形成細線結(jié)構(gòu)部， 在形成有所述細線結(jié)構(gòu)部的所述透明基材上形成透明導(dǎo)電層， 在所述透明導(dǎo)電層上依次層疊發(fā)光功能層及電極， 按照在俯視下將形成有所述發(fā)光功能層及電極的區(qū)域即發(fā)光區(qū)域包圍的方式配置粘接劑， 介由所述粘接劑將密封基材與所述透明基材相接合， 其中，所述透明導(dǎo)電層不存在于所述粘接劑與所述透明基材之間。7.根據(jù)權(quán)利要求6所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，所述細線結(jié)構(gòu)部中在俯視下與所述粘接劑重疊的部分僅是在與所述粘接劑的延伸方向交叉的方向上延伸的所述細線。8.根據(jù)權(quán)利要求6或7所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，所述細線結(jié)構(gòu)部在俯視下形成于所述發(fā)光區(qū)域中，并且使其延伸至被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)。9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，位于被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)的細線結(jié)構(gòu)部按照在俯視下與位于所述發(fā)光區(qū)域的細線結(jié)構(gòu)部相比、細線的密度更小的方式來形成。10.根據(jù)權(quán)利要求8或9所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，所述透明導(dǎo)電層還形成在形成有位于被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)的細線結(jié)構(gòu)部的透明基材上。11.根據(jù)權(quán)利要求10所述的發(fā)光裝置的制造方法，其特征在于，在俯視下形成于被所述粘接劑包圍的區(qū)域的外側(cè)的所述透明導(dǎo)電層與形成于所述發(fā)光區(qū)域的透明導(dǎo)電層同時地CO
【文檔編號】H05B33/04GK105917736SQ201480073167
【公開日】2016年8月31日
【申請日】2014年12月17日
【發(fā)明人】木津貴志, 馬場干男
【申請人】凸版印刷株式會社