射頻屏蔽測(cè)試室的制作方法
【專利摘要】本發(fā)明涉及射頻屏蔽測(cè)試室，其包括：測(cè)試室框架，其用來界定和圍繞所述測(cè)試室的腔室空間；和室門，其通過鉸鏈結(jié)構(gòu)連接在所述測(cè)試室框架上，并且用來從所述測(cè)試室前緣邊側(cè)開啟和關(guān)閉所述測(cè)試室。所述室門除包括前壁外，至少在其緣邊之一上包括側(cè)面，所述側(cè)面在所述測(cè)試室深度方向，作為由所述測(cè)試室所包括的側(cè)面的延伸，構(gòu)成所述測(cè)試室的側(cè)面的一部分。位于所述測(cè)試室框架和所述室門之間的鉸鏈結(jié)構(gòu)在所述測(cè)試室框架側(cè)通過基本水平的連接結(jié)構(gòu)與所述測(cè)試室框架連接，所述鉸鏈結(jié)構(gòu)被設(shè)置成引導(dǎo)所述室門相對(duì)于所述測(cè)試室框架上升和從其升舉位置下降。
【專利說明】射頻屏蔽測(cè)試室

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001] 本發(fā)明涉及射頻屏蔽測(cè)試室，其包括：測(cè)試室框架，其用來界定和圍繞所述測(cè)試室 的腔室空間；和室門，其通過鉸鏈結(jié)構(gòu)連接在所述測(cè)試室框架上，并且用來從所述測(cè)試室前 緣邊側(cè)開啟和關(guān)閉所述測(cè)試室。

【背景技術(shù)】
[0002] 射頻屏蔽測(cè)試室用在電子工業(yè)上，與產(chǎn)品的研發(fā)或生產(chǎn)有關(guān)，用來測(cè)試被設(shè)計(jì)的 原型機(jī)或已制造的產(chǎn)品的操作。被測(cè)設(shè)備--即DUT--可以是用于無(wú)線電網(wǎng)絡(luò)的終端設(shè) 備，例如被用在蜂窩無(wú)線電網(wǎng)絡(luò)中的移動(dòng)電話。
[0003] 在現(xiàn)有技術(shù)的測(cè)試室中，門是平坦的且設(shè)置有鉸鏈，門在所述鉸鏈上按垂直連接 方式樞轉(zhuǎn)，類似于傳統(tǒng)家具中的門，也就是，在其開啟的位置，室門延伸遠(yuǎn)離所述測(cè)試室框 架的前面，從而占用了測(cè)試室周圍的不必要的巨大空間。即使門開啟，也不容易從側(cè)面方向 進(jìn)出現(xiàn)有技術(shù)中的測(cè)試室內(nèi)部，因?yàn)閭?cè)面被固定。
[0004] 因此需要開發(fā)出一種新穎的測(cè)試室來解決現(xiàn)有技術(shù)中所出現(xiàn)的問題。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 本發(fā)明的目的是提供改進(jìn)的測(cè)試室。這由本發(fā)明的測(cè)試室來實(shí)現(xiàn)，本發(fā)明的測(cè)試 室的特征在于，所述室門除包括前壁外，至少在其緣邊（edge )之一上包括側(cè)面，所述側(cè)面在 所述測(cè)試室深度方向，作為由所述測(cè)試室所包括的側(cè)面的延伸，構(gòu)成所述測(cè)試室的側(cè)面的 一部分；并且，位于所述測(cè)試室框架和所述室門之間的鉸鏈結(jié)構(gòu)在所述測(cè)試室框架側(cè)通過 基本水平的連接結(jié)構(gòu)與所述測(cè)試室框架連接，所述鉸鏈結(jié)構(gòu)被設(shè)置成引導(dǎo)所述室門相對(duì)于 所述測(cè)試室框架上升和從其升舉位置下降。
[0006] 本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例在從屬權(quán)利要求中公開。優(yōu)選實(shí)施例增強(qiáng)了基本發(fā)明的優(yōu) 點(diǎn)。
[0007] 本發(fā)明中的技術(shù)方案達(dá)到了在測(cè)試室位置處更加有效利用空間的技術(shù)效果，因?yàn)?室門的移動(dòng)方式相對(duì)于以往技術(shù)是不同，該室門的移動(dòng)方式允許前面上方的空間被利用。 另外，現(xiàn)在由于部分室邊與室門前面一起打開，因此一旦室門被打開，就容易從橫向進(jìn)出接 近測(cè)試室的內(nèi)部。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0008] 參照下面的優(yōu)選實(shí)施例和附圖，本發(fā)明將被更加詳細(xì)地描述，其中：
[0009] 圖1是測(cè)試室在開啟狀態(tài)時(shí)的側(cè)視圖；
[0010] 圖2示出測(cè)試室室門的內(nèi)部；
[0011] 圖3是測(cè)試室在其關(guān)閉狀態(tài)時(shí)從其右側(cè)看的底部對(duì)角透視圖；
[0012] 圖4示出處于開啟狀態(tài)的從圖3方向看的測(cè)試室框架和室門；
[0013] 圖5是從處于關(guān)閉狀態(tài)的測(cè)試室右側(cè)看的上對(duì)角后透視圖。

【具體實(shí)施方式】
[0014] 下面的實(shí)施例是示例性的。雖然描述在不同的地方可能涉及到"某個(gè)"、"一個(gè)"或 "一些"實(shí)施例，但這并不必須意味著每個(gè)這樣的引用是指相同實(shí)施例，或一個(gè)特征僅適用 于一個(gè)實(shí)施例。不同實(shí)施例中的單個(gè)特征也可以組合以用在其他實(shí)施例中。
[0015] 本發(fā)明提供射頻屏蔽測(cè)試室10,其包括：測(cè)試室框架100,其用來界定和圍繞測(cè)試 室的腔室空間10A ;和室門300,其通過鉸鏈結(jié)構(gòu)200連接到所述測(cè)試室框架100,并用來從 所述測(cè)試室10的前緣（front edge) 10B側(cè)開啟和關(guān)閉所述測(cè)試室10。所述室門300除包 括前壁302外，至少在其緣邊之一包括側(cè)面311上，在所述測(cè)試室深度方向，所述側(cè)面311 作為所述測(cè)試室所包括的側(cè)面101的延伸，構(gòu)成所述測(cè)試室10的側(cè)面的一部分。位于所述 測(cè)試室框架100和所述室門300之間的鉸鏈結(jié)構(gòu)200在所述測(cè)試室框架100的側(cè)面上通過 基本水平的連接結(jié)構(gòu)201、201a和201b與所述測(cè)試室框架100連接，所述鉸鏈結(jié)構(gòu)200被 設(shè)置成使得所述室門300能相對(duì)于所述測(cè)試室框架上升和從其升舉位置下降。圖1中示出 鉸鏈結(jié)構(gòu)200及它的連接體（joints)和臂體，然而圖4沒有示出所述鉸鏈結(jié)構(gòu)。
[0016] 除了上面提到的側(cè)面101，測(cè)試室框架100包括第二側(cè)面102,也就是相對(duì)的側(cè)面 102。測(cè)試室框架的側(cè)面通過底面103、頂面或頂蓋104、各后壁105、以及前下壁106相互連 接。前下壁106的第一側(cè)面106a被配置作為測(cè)試室框架100的第一側(cè)面101的延伸，所述 第一側(cè)面106a位于測(cè)試室框架的前端表面的下位部分，起自于測(cè)試室拐角處，并且，前下 壁106的第二側(cè)面106b被配置作為測(cè)試室框架100的第二側(cè)面102的延伸，第二側(cè)面106b 位于測(cè)試室框架的前端表面的下位部分，起自于測(cè)試室的第二拐角處。測(cè)試室框架100的 前壁106被分成106a和106b兩個(gè)部分，使得通過彎曲片材就能夠容易地制出測(cè)試室框架 100的形狀，所述片材例如是鋁片，這作為起始點(diǎn)，同樣的構(gòu)造也適用于測(cè)試室框架100的 頂面104的部分104a和104b。
[0017] 除了上面提到的前壁302和側(cè)面311外，室門300包括第二側(cè)面312。除了室門的 前壁302和頂壁304外，在室門300的側(cè)面311和側(cè)面312之間設(shè)置有前上位構(gòu)件315,例 如上斜壁構(gòu)件315。室門300的頂壁304被分成304a和304b兩個(gè)部分，使得通過彎曲片材 就可以容易地制出室門300,所述片材例如是鋁片，這作為起始點(diǎn)，基于同樣的理由，前上位 構(gòu)件是獨(dú)立的部分，其與室門結(jié)構(gòu)的其他部分連接。
[0018] 參照?qǐng)D2的測(cè)試室，優(yōu)選地，測(cè)試室的室門包括射頻密封件320,所述射頻密封件 320用來密封室門300和測(cè)試室框架100之間空隙以阻擋射頻信號(hào)。所述射頻密封件320 設(shè)置在室門300內(nèi)表面在室門的緣邊處或其附近，且基本上按照室門緣邊的形狀設(shè)置。射 頻密封件320可以是導(dǎo)電性的密封件，公知為"纖維包泡棉"（Fabric over foam)的類型， 例如，在射頻密封件320中，聚氨酯（urethane)或一些其他的基本材料是由導(dǎo)電纖維涂覆， 其中，導(dǎo)電性通過銀、銅鎳合金或錫銅合金提供。這種射頻密封件的制造商是施萊格爾電子 材料公司（Schlegel Electronics Materials)。作為實(shí)例，射頻密封件可以達(dá)到3CT100分 貝的阻尼衰減。
[0019] 測(cè)試室的射頻屏蔽可以通過測(cè)試室框架100和室門300的材料實(shí)現(xiàn)，該材料是導(dǎo) 電性的，例如是金屬，比如是鋁?？商娲兀漕l屏蔽也可以通過導(dǎo)電涂層實(shí)現(xiàn)，例如電子導(dǎo) 電涂料。
[0020] 優(yōu)選地，室門300在其兩緣邊包括側(cè)面311和側(cè)面312,所述側(cè)面311和側(cè)面312 在測(cè)試室深度方向--作為所述測(cè)試室的測(cè)試室框架所包括的側(cè)面的延伸--構(gòu)成所述 測(cè)試室側(cè)面的一部分。也就是說，除了室門300的側(cè)面311作為測(cè)試室框架100的側(cè)面101 的延伸之外，室門100的第二緣邊上的第二側(cè)面312被配設(shè)作為測(cè)試室框架100的第二緣 邊102的延伸。
[0021] 測(cè)試室的頂壁或頂面104也具有類似的基本結(jié)構(gòu)，即室門300的頂壁或頂面304 的部分304a被配設(shè)作為測(cè)試室框架100的頂面104的部分104a的延伸，同時(shí)室門300的頂 壁304的第二部分304b被配設(shè)作為測(cè)試室框架100的頂面104的第二部分104b的延伸，
[0022] 在優(yōu)選的實(shí)施例中，在測(cè)試室的深度方向上，由室門300所包括的一個(gè)側(cè)面的長(zhǎng) 度是測(cè)試室的側(cè)面總長(zhǎng)度的至少20%。這種情況下，測(cè)試室100的側(cè)面的前部在深度方向上 至少有20%因而是敞開的，其足夠一個(gè)人從橫向接近來執(zhí)行所期望的流程，例如將待測(cè)試 產(chǎn)品放置在測(cè)試室里或從測(cè)試室或取出待測(cè)試產(chǎn)品，待測(cè)試產(chǎn)品例如是被測(cè)設(shè)備（DUT)。
[0023] 在優(yōu)選的實(shí)施例中，在所述測(cè)試室10的前端側(cè)面上，由室門300所包括的側(cè)面311 高度超過測(cè)試室總高度的50%，相應(yīng)地，由室門300所包括的側(cè)面312高度超過測(cè)試室總高 度的50%。在一優(yōu)選的實(shí)施例中，該高度高達(dá)80%，以便實(shí)現(xiàn)圖中示出的原理（principle): 測(cè)試室10的側(cè)面的前端部分由室門的側(cè)面311和側(cè)面312及測(cè)試室框架的側(cè)面101和側(cè) 面102構(gòu)成。
[0024] 優(yōu)選地，在所述測(cè)試室100的前緣邊側(cè)，測(cè)試室的側(cè)面的上位部分至少主要地或 優(yōu)選全部地由室門的側(cè)面311和側(cè)面312構(gòu)成，這樣使得室門300從1A到1D之間的上升 運(yùn)動(dòng)更加容易。
[0025] 從附圖中可以看出，在優(yōu)選的實(shí)施例中，在所述測(cè)試室的前緣邊側(cè)，所述測(cè)試室的 側(cè)面S1和S2的低位部分至少主要地或優(yōu)選全部地由測(cè)試室框架100的側(cè)面101和側(cè)面 102組成。另外，在所述測(cè)試室的前緣邊側(cè)，在所述測(cè)試室的下位部分，位于所述測(cè)試室框 架100的側(cè)面101和側(cè)面102之間配設(shè)有測(cè)試室框架的前下壁104、104a和104b (代理人 注，應(yīng)為106,106a，106b)，在所述室門300的關(guān)閉狀態(tài)，所述前下壁位于室門300前壁302 的下方。
[0026] 特別參照?qǐng)D1，根據(jù)優(yōu)選的實(shí)施例，位于測(cè)試室框架和室門之間的鉸鏈結(jié)構(gòu)200包 括鉸接臂結(jié)構(gòu)221和222,鉸接臂結(jié)構(gòu)221和222包括上臂體221和下臂體222。所述鉸 接臂結(jié)構(gòu)221和222的上臂體221和下臂體222通過連接結(jié)構(gòu)201的連接體201a和201b 被鉸接到在所述測(cè)試室框架100側(cè)的支承部分1200上。同樣地，鉸接臂結(jié)構(gòu)的臂體221和 222通過水平連接結(jié)構(gòu)201的連接體201c和201d被鉸接在室門300側(cè)的部分1201。連接 體201a、201b、201c和201d -方面允許在測(cè)試室框架100和臂體221、222之間提供旋轉(zhuǎn)緊 定（pivoting fastening),另一方面也允許在室門300和臂體221、臂體222之間提供旋轉(zhuǎn) 緊定。臂體221、222與測(cè)試室的側(cè)面平行，并且當(dāng)室門300處于開啟狀態(tài)時(shí)，臂體221、222 在測(cè)試室的深度方向上延伸。帶有臂體和連接體的鉸鏈結(jié)構(gòu)是內(nèi)部結(jié)構(gòu)，即當(dāng)室門關(guān)閉時(shí)， 鉸鏈結(jié)構(gòu)位于射頻屏蔽區(qū)域里面，即測(cè)試室內(nèi)部。室門300是垂直的、且當(dāng)其被打開和關(guān)閉 時(shí)也保持垂直取向，更具體地，室門300在其開啟狀態(tài)時(shí)仍然與測(cè)試室框架區(qū)域中的、被室 門打開和關(guān)閉的開口的平面平行。術(shù)語(yǔ)"鉸接臂結(jié)構(gòu)"是指樞轉(zhuǎn)臂結(jié)構(gòu)。
[0027] 顯然的是，對(duì)于本領(lǐng)域技術(shù)人員而言，隨著技術(shù)的進(jìn)步，本發(fā)明的基本思想可以按 許多不同的方式來實(shí)現(xiàn)。因此本發(fā)明及其實(shí)施例不局限于上述實(shí)施例，而是可以在權(quán)利要 求的范圍內(nèi)變化。
【權(quán)利要求】
1. 射頻屏蔽測(cè)試室（10)，其包括：測(cè)試室框架（10A)(代理人注，應(yīng)為100)，其用來界定 和圍繞所述測(cè)試室的腔室空間（100)(代理人注，應(yīng)為10A);和室門（300)，其通過鉸鏈結(jié)構(gòu) (200)連接到所述測(cè)試室框架，并用來從所述測(cè)試室前緣邊側(cè)開啟和關(guān)閉所述測(cè)試室， 其特征在于：所述室門（300)除包括前壁（302)外，至少在其緣邊之一上包括側(cè)面 (311)，所述側(cè)面（311)在所述測(cè)試室深度方向，作為由所述測(cè)試室（100)所包括的側(cè)面 (101)的延伸，構(gòu)成所述測(cè)試室的側(cè)面的一部分； 并且，位于所述測(cè)試室框架（100)和所述室門（300)之間的鉸鏈結(jié)構(gòu)（200)在所述測(cè)試 室框架（100)側(cè)通過基本水平的連接結(jié)構(gòu)（201，201a，201b)與所述測(cè)試室框架（100)連接， 所述鉸鏈結(jié)構(gòu)（200 )被設(shè)置成引導(dǎo)所述室門（300 )相對(duì)于所述測(cè)試室框架（100 )上升和從 其升舉位置下降。
2. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試室，其特征在于：位于所述測(cè)試室框架（100)和所述室門 (300)之間的鉸鏈結(jié)構(gòu)（200)包括鉸接臂結(jié)構(gòu)（221，222)，所述鉸接臂結(jié)構(gòu)（221，222)具有 至少一臂體（221，222)，所述鉸鏈臂結(jié)構(gòu)通過所述水平連接結(jié)構(gòu)（201，201a，201b)與所述 測(cè)試室框架（100)連接，且通過連接體（201c，201d)與所述室門（300)連接。
3. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試室，其特征在于：所述室門（300)在其兩緣邊都包括側(cè)面 (311，312)，其中，所述側(cè)面（311，312)在所述測(cè)試室深度方向（D)，作為由所述測(cè)試室框架 (100)所包括的側(cè)面（101，102)的延伸，構(gòu)成所述測(cè)試室的側(cè)面的一部分。
4. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的射頻屏蔽測(cè)試室，其特征在于：在所述測(cè)試室（100)的深度方 向（D)，由所述室門（300)所包括的側(cè)面（311)的長(zhǎng)度是所述測(cè)試室側(cè)面總長(zhǎng)度的至少20%。
5. 根據(jù)權(quán)利要求1所述的測(cè)試室，其特征在于：在所述測(cè)試室的前緣邊側(cè)，由所述室門 (300)所包括的側(cè)面的高度超過所述測(cè)試室側(cè)面總高度的50%。
6. 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的射頻屏蔽測(cè)試室，其特征在于：在所述測(cè)試室的前緣邊 偵牝所述測(cè)試室側(cè)面的上位部分至少主要由所述室門（300)的側(cè)面（311)形成。
7. 根據(jù)權(quán)利要求1或5所述的測(cè)試室，其特征在于：在所述測(cè)試室的前緣邊側(cè)，所述測(cè) 試室下位部分至少主要由所述測(cè)試室框架（100)的側(cè)面（101，102)構(gòu)成。
8. 根據(jù)權(quán)利要求7所述的測(cè)試室，其特征在于：在所述測(cè)試室的前緣邊側(cè)，在所述測(cè) 試室的下位部分，在所述測(cè)試室框架（100)的側(cè)面（101，102)之間，配設(shè)有所述測(cè)試室框架 (100)的前下壁（104, 104a，104b)(代理人注，應(yīng)為106,106a，106b)，在所述室門處于關(guān)閉狀 態(tài)時(shí)，所述前下壁（104, 104a，104b)(代理人注，應(yīng)為106,106a，106b)位于所述室門（300) 的前壁（302)下方。
【文檔編號(hào)】H05K7/16GK104114005SQ201310200433
【公開日】2014年10月22日 申請(qǐng)日期:2013年5月25日 優(yōu)先權(quán)日:2013年4月19日
【發(fā)明者】冉嗒庫(kù)帕日·塔漂, 肋巴咖日·約拿 申請(qǐng)人:Pkc電子有限公司