技術(shù)編號(hào)：39384541
提示：您尚未登錄，請(qǐng)點(diǎn) 登 陸 后下載，如果您還沒有賬戶請(qǐng)點(diǎn) 注 冊(cè) ，登陸完成后，請(qǐng)刷新本頁(yè)查看技術(shù)詳細(xì)信息。本發(fā)明涉及真空鍍膜，具體涉及一種鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝及其應(yīng)用。背景技術(shù)、pvd是英文physical?vapor?deposition即物理氣相沉積的縮寫，pvd工藝是物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由材料源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。具體來說，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上的工藝。pvd鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、耐腐蝕性和化學(xué)...
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該專利適合技術(shù)人員進(jìn)行技術(shù)研發(fā)參考以及查看自身技術(shù)是否侵權(quán)，增加技術(shù)思路，做技術(shù)知識(shí)儲(chǔ)備，不適合論文引用。