本發(fā)明涉及真空鍍膜，具體涉及一種鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝及其應(yīng)用。

背景技術(shù)：

1、pvd是英文physical?vapor?deposition即物理氣相沉積的縮寫，pvd工藝是物理過程實(shí)現(xiàn)物質(zhì)轉(zhuǎn)移，將原子或分子由材料源轉(zhuǎn)移到基材表面上的過程。具體來說，是指在真空條件下，采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù)，利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)與氣體都發(fā)生電離，利用電場(chǎng)的加速作用，使被蒸發(fā)物質(zhì)及其反應(yīng)產(chǎn)物沉積在工件上的工藝。pvd鍍膜技術(shù)鍍出的膜層，具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、耐腐蝕性和化學(xué)穩(wěn)定性等特點(diǎn)，膜層的壽命長(zhǎng)，同時(shí)膜層也能對(duì)工件的外觀起到很好的裝飾作用。在手機(jī)行業(yè)，pvd鍍膜技術(shù)可以應(yīng)用于手機(jī)中框、外殼、按鍵、攝像頭鏡片、手機(jī)膜等部分的鍍膜。目前，一些高端品牌手機(jī)邊框已經(jīng)采用了鈦合金材質(zhì)上鍍pvd，它的強(qiáng)度要遠(yuǎn)遠(yuǎn)高于鋁合金材質(zhì)，而相比不銹鋼材質(zhì)來說又起到了輕質(zhì)化效果。

2、然而，在實(shí)際生產(chǎn)過程中即使再成熟的鍍膜工藝，也會(huì)出現(xiàn)膜層品質(zhì)不良的情況，如果直接將工件作廢處理，會(huì)浪費(fèi)大量的材料成本。如手機(jī)中框從材料加工到鍍膜階段，耗費(fèi)了大量的材料、加工過程及人力，若報(bào)廢處理其成本浪費(fèi)太高，因此需要退膜返工處理以便再次鍍膜。傳統(tǒng)的退膜工藝多采用有機(jī)堿、無機(jī)堿等強(qiáng)堿性溶液配合氧化劑、絡(luò)合劑等，或者采用含氟的退鍍液去除pvd膜層，但是這種工藝對(duì)于含有鋁合金氧化膜中板的手機(jī)中框工件會(huì)造成腐蝕。因此目前亟需一種能夠退除邊框鈦合金表面的pvd膜層的同時(shí)又不損傷中板鋁合金氧化膜的退膜工藝。

技術(shù)實(shí)現(xiàn)思路

1、針對(duì)現(xiàn)有技術(shù)中的缺陷，本發(fā)明提出了一種鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝及其應(yīng)用。

2、本發(fā)明提供一種鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝，包括如下步驟：

3、s1:將工件上掛并確保工件不同位置導(dǎo)電性良好；

4、s2:將上述工件置于退鍍液a中退除pvd膜層；

5、s3:將s2處理后的工件進(jìn)行漂洗；

6、s4:將s3處理后的工件置于退膜液b中去黃膜；

7、s5:將s4處理后的工件進(jìn)行漂洗；

8、s6:將s5處理后的工件進(jìn)行干燥處理；

9、所述退鍍液a為經(jīng)ph調(diào)節(jié)劑調(diào)節(jié)ph值至7-8的td311；

10、所述退膜液b為tm312。

11、將td311進(jìn)行ph調(diào)節(jié)能夠避免原液堿性過強(qiáng)進(jìn)而腐蝕鈦鋁結(jié)合件的鋁氧化層。步驟s3進(jìn)行漂洗能夠去除殘留于工件和掛具中的退鍍液a，防止其帶入到退膜液b槽液中而造成污染，漂洗采用純水漂洗2-3道；步驟s2中退除pvd膜層后裸露在外的鈦合金在外加電壓8-13?v的作用下，在退鍍液a中會(huì)進(jìn)行陽(yáng)極氧化反應(yīng)生成非晶態(tài)不定型鈦氧化膜，其在薄膜干涉作用下顯示出一層黃膜，影響工件外觀，因此設(shè)置步驟s4能夠去除步驟s2中生成的黃色鈦氧化膜。步驟s4中的酸性退膜藥水在外加陰極通電下，使鈦合金表面的氧化物膜在h+侵蝕下發(fā)生溶解而去除。

12、進(jìn)一步地，所述ph調(diào)節(jié)劑為檸檬酸；用檸檬酸來調(diào)節(jié)td311原液的ph值，一方面能夠降低退鍍液a的堿性，另一方面檸檬酸根還能夠作為金屬絡(luò)合劑促進(jìn)pvd膜層的脫除。

13、進(jìn)一步地，所述步驟s2中，陽(yáng)極連接工件，陰極板為不銹鋼板或高純度石墨板中的任意一種。

14、進(jìn)一步地，所述步驟s2中操作電壓為8-13?v，操作溫度為20-30℃，退鍍時(shí)間為10-20?min。操作電壓過低，表面的pvd膜層退不掉或者退不干凈；操作電壓過高，雖然使退鍍效率加快，但會(huì)使裸露出的鈦合金表面生成顏色更黃甚至紫色的鈦氧化膜，增加后工序退膜難度。

15、進(jìn)一步地，所述步驟s4中操作電壓為2-5?v，操作溫度20-30℃，時(shí)間5-10?min。操作電壓過低，退膜速度慢難以進(jìn)行退膜，操作電壓過高，會(huì)使速度加快，但退膜后容易起灰，需要進(jìn)行超聲波除灰，增加了工藝的繁瑣性；操作溫度過低時(shí)會(huì)降低退膜速度，操作溫度過高時(shí)，會(huì)對(duì)工件造成腐蝕。

16、進(jìn)一步地，所述步驟s4中陰極連接工件，陽(yáng)極板為高純度石墨板；由于槽液呈酸性，因此采用高純度石墨板能夠避免陽(yáng)極板被腐蝕。

17、進(jìn)一步地，所述td311的成分包括質(zhì)量百分比為3-5%的主劑，0.5-1%的絡(luò)合劑及0.1-0.2%的分散劑；所述主劑為焦磷酸鉀，所述絡(luò)合劑為三乙醇胺或乙二胺四乙酸二鈉中的一種或兩種，所述分散劑為nno。

18、進(jìn)一步地，所述tm312的成分包括質(zhì)量百分比為6-8%的有機(jī)酸及0.2-0.5%的緩蝕劑。

19、進(jìn)一步地，所述有機(jī)酸為酒石酸、檸檬酸、蘋果酸中的一種或多種，所述緩蝕劑為鉬酸鈉、苯并三氮唑中的一種或多種。

20、進(jìn)一步地，所述步驟s1中將工件上掛，可采用專用掛具將工件上掛或者將工件置于夾具再上掛，其主要目的是保證產(chǎn)品導(dǎo)電良好?？梢酝ㄟ^萬用表一端連接掛具，另一端連接工件鈦合金邊框的不同部位來確認(rèn)導(dǎo)電性以確保工件不同位置均導(dǎo)電良好。

21、進(jìn)一步地，所述步驟s5對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行漂洗的目的是去除工件表面藥劑殘留并清潔產(chǎn)品。

22、進(jìn)一步地，所述步驟s6對(duì)產(chǎn)品進(jìn)行干燥的目的是為了防止水分殘留造成水印，可以是吹干、甩干或者烘干，將產(chǎn)品干燥后即可進(jìn)行下掛包裝。

23、本發(fā)明還提供所述退鍍工藝在鈦鋁結(jié)合件退鍍中的應(yīng)用，尤其是在含有鋁合金氧化膜中板的手機(jī)中框pvd膜層退鍍中的應(yīng)用。

24、綜上，與現(xiàn)有技術(shù)相比，本發(fā)明達(dá)到了以下技術(shù)效果：

25、（1）本發(fā)明提供的鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝，退鍍后的工件退膜完全且能夠保持原有鈦合金光澤，退鍍后的工件顏色為鈦合金本色；

26、（2）本發(fā)明提供的鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝退膜效率高；

27、（3）本發(fā)明提供的鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝應(yīng)用于鈦鋁結(jié)合件中能夠保持鋁氧化膜不被腐蝕；

28、（4）本發(fā)明提供的鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝能夠滿足不良品退膜合格并再次利用的要求，且工藝簡(jiǎn)便，能夠大規(guī)模推廣。

技術(shù)特征：

1.一種鈦鋁結(jié)合件pvd膜層退鍍工藝，其特征在于，包括如下步驟：

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述ph調(diào)節(jié)劑為檸檬酸。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述步驟s2中，陽(yáng)極連接工件，陰極板為不銹鋼板或高純度石墨板中的任意一種。

4.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述步驟s2中操作電壓為8-13?v，操作溫度為20-30℃，退鍍時(shí)間為10-20?min。

5.?根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述步驟s4中操作電壓為2-5?v，操作溫度20-30℃，時(shí)間5-10?min。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述步驟s4中陰極連接工件，陽(yáng)極板為高純度石墨板。

7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述td311的成分包括質(zhì)量百分比為3-5%的主劑，0.5-1%絡(luò)合劑及0.1-0.2%的分散劑；

8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的退鍍工藝，其特征在于，所述tm312的成分包括質(zhì)量百分比為6-8%的有機(jī)酸及0.2-0.5%的緩蝕劑。

9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的退鍍工藝，其特征在于，所述有機(jī)酸為酒石酸、檸檬酸、蘋果酸、草酸中的一種或多種，所述緩蝕劑為鉬酸鈉、苯并三氮唑中的一種或多種。

10.權(quán)利要求1-9任一項(xiàng)所述的退鍍工藝在鈦鋁結(jié)合件退鍍中的應(yīng)用。

技術(shù)總結(jié)
本發(fā)明公開了一種鈦鋁結(jié)合件PVD膜層退鍍工藝及其應(yīng)用，所述鈦鋁結(jié)合件PVD膜層退鍍工藝，包括如下步驟：S1:將工件上掛并確保工件不同位置導(dǎo)電性良好，S2:將上述工件置于退鍍液A中退除PVD膜層，S3:將S2處理后的工件進(jìn)行漂洗，S4:將S3處理后的工件置于退膜液B中去黃膜，S5:將S4處理后的工件進(jìn)行漂洗，S6:將S5處理后的工件進(jìn)行干燥處理，所述退鍍液A為經(jīng)pH調(diào)節(jié)劑調(diào)節(jié)pH值至7?8的TD311，所述退膜液B為TM312。本發(fā)明的鈦鋁結(jié)合件PVD膜層退鍍工藝能夠高效退除鈦合金表面的PVD膜層，不傷鈦合金表面光澤，且不損傷鋁合金表面陽(yáng)極氧化膜，實(shí)現(xiàn)PVD鍍膜不良品退膜合格并再次利用的要求。

技術(shù)研發(fā)人員：袁清安,馬金亮,朱正華,魏仁澤,莫琳
受保護(hù)的技術(shù)使用者：深圳萬佳原精化科技股份有限公司
技術(shù)研發(fā)日：
技術(shù)公布日：2024/9/12