一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的制作方法
【專利摘要】本實(shí)用新型公開了一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，屬于磁瓦模具生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域。本實(shí)用新型包括上模本體，上模本體上設(shè)置有與上模本體橫向中心線平行的多排吸水孔，吸水孔沿上模本體的縱向中心線及橫向中心線均對(duì)稱分布，且吸水孔均勻布滿在上模本體上；局部吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置或者局部吸水孔的孔徑大小不一致。本實(shí)用新型通過對(duì)上模本體上原有的吸水孔進(jìn)行堵實(shí)或擴(kuò)大的優(yōu)化，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)小弧度磁瓦燒結(jié)過程中內(nèi)縮或外擴(kuò)變形情況的改善，堵住或擴(kuò)大吸水孔的排數(shù)或具體位置根據(jù)生產(chǎn)實(shí)際變形而進(jìn)行調(diào)整，操作簡單，靈活性高，易于施行。
【專利說明】
一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)
技術(shù)領(lǐng)域
[0001 ]本實(shí)用新型涉及磁瓦模具生產(chǎn)技術(shù)領(lǐng)域，更具體地說，涉及一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)。
【背景技術(shù)】
[0002]磁瓦主要用在永磁直流電機(jī)中，永磁電機(jī)中的磁瓦做為勵(lì)磁源，提供電樞反應(yīng)的定子磁場，它能夠在旋轉(zhuǎn)的電機(jī)繞組中感應(yīng)出電勢，可使電機(jī)具有結(jié)構(gòu)簡單、維修方便、重量輕、體積小、使用可靠、能耗小等優(yōu)勢。隨著經(jīng)濟(jì)水平的提高，磁瓦的市場需求量劇增，企業(yè)競爭日益加劇，如何提高產(chǎn)品的成品率、降低生產(chǎn)成本，將是企業(yè)面臨的重大挑戰(zhàn)。
[0003]磁瓦生產(chǎn)工序眾多，任何一個(gè)工序的質(zhì)量問題都有可能造成后續(xù)產(chǎn)品的質(zhì)量等級(jí)降低和報(bào)廢?，F(xiàn)有技術(shù)中磁瓦的生產(chǎn)工藝一般為“成型—燒結(jié)—研磨”。成型加工時(shí)，成型模具安裝在成型設(shè)備上使用，通過將原材料在成型模具內(nèi)壓制成型為生坯件。但現(xiàn)有技術(shù)成型的生坯件，在高溫?zé)Y(jié)過程中，容易發(fā)生側(cè)邊向內(nèi)、向外變形，給后續(xù)加工造成巨大難度，造成成品率降低以及使用時(shí)配對(duì)不良的現(xiàn)象。尤其對(duì)于小弧度的磁瓦而言，磁瓦的弧心角偏小、軸長偏長且弦寬較窄，軸長方向的兩端更易發(fā)生內(nèi)縮或外翹等變形，使得磁瓦表面產(chǎn)生裂紋，極大地影響了磁瓦產(chǎn)品的正常使用。因此，如何解決該問題，提高了產(chǎn)品合格率，提升生產(chǎn)效率，已成為亟待解決的問題。
[0004]關(guān)于如何改善磁瓦的成型質(zhì)量，預(yù)防磁瓦變形問題，現(xiàn)有技術(shù)中已有相關(guān)專利公開，例如中國專利申請?zhí)? 2015207098710，申請日:2015年9月15日，發(fā)明創(chuàng)造名稱為:一種矯正永磁鐵氧體瓦形產(chǎn)品變形的模具，該申請案公開了一種矯正永磁鐵氧體瓦形產(chǎn)品變形的模具，是由模具上沖頭、四模和模具下沖頭構(gòu)成，模具的上沖頭采用導(dǎo)磁材料制作，由導(dǎo)磁材料制成模具下沖頭含在不導(dǎo)磁材料制成模具凹模中，使模具凹模的內(nèi)部與外部分別產(chǎn)生平行均勻取向磁場和帶夾角的非均勻取向磁場，在產(chǎn)品壓制時(shí)產(chǎn)生兩種方式磁場:一是模具凹模以內(nèi)的磁場為平行均勻取向磁場;二是模具凹模以外的磁場為非均勻取向磁場，凹模以外的非均勾取向磁場的磁力線與凹模以內(nèi)均勾取向磁場的磁力線有夾角，由內(nèi)向外其夾角變化范圍為10°?35°。該申請案從磁場的分布原理上解決了永磁鐵氧體產(chǎn)品加工變形的問題，提高了產(chǎn)品成品率及生產(chǎn)效率，降低了生產(chǎn)成本，但卻無法解決產(chǎn)品在燒結(jié)加工過程中出現(xiàn)的裂紋、變形問題，仍需要進(jìn)一步改進(jìn)。
【實(shí)用新型內(nèi)容】
[0005]1.實(shí)用新型要解決的技術(shù)問題
[0006]本實(shí)用新型的目的在于克服現(xiàn)有技術(shù)中小弧度磁瓦在燒結(jié)加工中容易變形開裂、后續(xù)加工難度大、合格率較低的不足，提供了一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，可以有效解決以上問題，提高小弧度磁瓦的成型質(zhì)量，提升產(chǎn)品加工合格率。
[0007]2.技術(shù)方案
[0008]為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案為:
[0009]本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，包括上模本體，所述磁瓦內(nèi)弧面的弧心角為60°?120°，磁瓦的軸長>30mm;
[0010]所述上模本體上設(shè)置有與上模本體橫向中心線平行的多排吸水孔，吸水孔沿上模本體的縱向中心線及橫向中心線均對(duì)稱分布，且吸水孔均勻布滿在上模本體上；
[0011]局部吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置或者局部吸水孔的孔徑大小不一致。
[0012]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。
[0013]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，靠近上模本體橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑。
[0014]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置，且靠近上模本體橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑。
[0015]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑。
[0016]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，靠近上模本體橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。
[0017]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑，且靠近上模本體橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。
[0018]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4?5mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4?5mm;吸水孔的孔徑為2.5?3.0mm。
[0019]作為本實(shí)用新型更進(jìn)一步的改進(jìn)，所述堵孔裝置用于堵塞吸水孔，該堵孔裝置采用柔性材料制成。
[0020]3.有益效果
[0021]采用本實(shí)用新型提供的技術(shù)方案，與現(xiàn)有技術(shù)相比，具有如下有益效果:
[0022](I)本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置或/和靠近上模本體橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑;通過對(duì)上模本體橫向中心位置和兩側(cè)位置的吸水孔排布進(jìn)行優(yōu)化，將遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置的吸水孔堵住，減少兩側(cè)位置吸水孔的吸水能力；同時(shí)將靠近上模本體橫向中心線位置的吸水孔擴(kuò)大，加強(qiáng)中心位置吸水孔的吸水能力，使得成型時(shí)磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置可以保留較多的水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置與中心位置的成型密度相一致，從而有效改善磁瓦軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形情況，提高產(chǎn)品合格率。
[0023](2)本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑或/和靠近上模本體橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。通過對(duì)上模本體橫向中心線位置和兩側(cè)位置的吸水孔排布進(jìn)行優(yōu)化，將遠(yuǎn)離上模本體橫向中心線位置的吸水孔擴(kuò)大，加強(qiáng)兩側(cè)位置吸水孔的吸水能力；同時(shí)將靠近上模本體橫向中心線位置的吸水孔堵住，減少中心位置吸水孔的吸水能力，使得成型時(shí)磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置可以保留較少的水分，磁瓦軸長方向的中心位置可以保留較多的水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的成型密度相一致，最終有效改善磁瓦軸長方向兩側(cè)向內(nèi)縮的變形情況，提升磁瓦產(chǎn)品的成型質(zhì)量，提高生產(chǎn)效益。
[0024](3)本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，局部吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置，用于堵住吸水孔的堵孔裝置是由柔性材料制成，材質(zhì)較軟、硬度較低，且具有一定彈性，可以充分將吸水孔堵實(shí)，利于精確控制吸水量的多少，且堵孔過程中不會(huì)破壞原有吸水孔結(jié)構(gòu)，也便于根據(jù)加工需要隨時(shí)取出，避免了上模本體的受損，使得上模本體可以長期針對(duì)不同產(chǎn)品使用，使用壽命有效提高。
[0025](4)本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，通過對(duì)上模本體上原有的吸水孔進(jìn)行堵實(shí)或擴(kuò)大的優(yōu)化，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)磁瓦燒結(jié)過程中各種變形情況的改善，實(shí)現(xiàn)過程簡單，不需要進(jìn)行復(fù)雜的結(jié)構(gòu)改進(jìn)或制作全新的上模，操作更加便捷，且不會(huì)對(duì)上模本體造成結(jié)構(gòu)傷害，避免了模具資源浪費(fèi)；堵住或擴(kuò)大吸水孔的排數(shù)或具體位置根據(jù)生產(chǎn)實(shí)際變形而進(jìn)行調(diào)整，靈活性高，應(yīng)用范圍廣，易于施行。
【附圖說明】
[0026]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中小弧度磁瓦外擴(kuò)變形示意圖；
[0027]圖2為實(shí)施例1的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0028]圖3為實(shí)施例1中磁瓦成型時(shí)表面吸水孔的分布狀態(tài)圖；
[0029]圖4為實(shí)施例2的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0030]圖5為實(shí)施例2中磁瓦成型時(shí)表面吸水孔的分布狀態(tài)圖；
[0031 ]圖6為實(shí)施例3的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0032]圖7為實(shí)施例3中磁瓦成型時(shí)表面吸水孔的分布狀態(tài)圖；
[0033]圖8為現(xiàn)有技術(shù)中小弧度磁瓦內(nèi)縮變形示意圖；
[0034]圖9為實(shí)施例4的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0035]圖10為實(shí)施例5的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖；
[0036]圖11為實(shí)施例6的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)的結(jié)構(gòu)示意圖。
[0037]示意圖中的標(biāo)號(hào)說明:
[0038]101、實(shí)際成型結(jié)構(gòu)；102、理論成型結(jié)構(gòu);3、上模本體。
【具體實(shí)施方式】
[0039]為進(jìn)一步了解本實(shí)用新型的內(nèi)容，結(jié)合附圖對(duì)本實(shí)用新型作詳細(xì)描述。
[0040]如圖1?圖11所示，本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，包括上模本體3，本實(shí)用新型專門針對(duì)小弧度磁瓦使用，磁瓦的內(nèi)弧面的弧心角為60°?120°，磁瓦的軸長大于30mm;生產(chǎn)實(shí)踐中，這種小弧度磁瓦軸長偏長，弦寬較窄，在軸長方向的兩側(cè)容易產(chǎn)生內(nèi)縮或外擴(kuò)的變形，如圖1所示，虛線結(jié)構(gòu)為磁瓦的理論成型結(jié)構(gòu)102，實(shí)線結(jié)構(gòu)為磁瓦的實(shí)際成型結(jié)構(gòu)101，磁瓦燒結(jié)過程中明顯出現(xiàn)軸長方向上的兩側(cè)外擴(kuò)變形，究其原因是由于成型加工時(shí)，成型原料含水量較高，成型壓制時(shí)如果排水效果差，排水效果不均勻，造成產(chǎn)品各位置密度不一致，最大密度和最小密度差異過大時(shí)，成型加工中各位置的形變量也會(huì)出現(xiàn)較大差異，密度小的位置形變量較大，密度大的位置形變量較小，產(chǎn)品各位置的密度差越大，則導(dǎo)致產(chǎn)品變形差距越大，會(huì)造成產(chǎn)品出現(xiàn)裂紋、機(jī)械強(qiáng)度差、合格率低等不良，因此成型模具的排水結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理與否，直接影響著產(chǎn)品品質(zhì)，尤其是對(duì)于成型上模而言，成型上模的吸水孔排布方式更是影響產(chǎn)品成型質(zhì)量的重要因素。
[0041]本實(shí)用新型的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，是針對(duì)內(nèi)弧面的弧心角為60°?120°，磁瓦的軸長大于30_的小弧度磁瓦而設(shè)計(jì)的，技術(shù)人員根據(jù)多年生產(chǎn)實(shí)踐總結(jié)，發(fā)現(xiàn)這種小弧度磁瓦軸長距離較長，變形多發(fā)生在軸長方向的兩側(cè)，針對(duì)磁瓦的本身結(jié)構(gòu)特點(diǎn)，上模本體3上的吸水孔采用均勻式設(shè)計(jì)更為合理，具體為上模本體3上設(shè)置有與上模本體3橫向中心線(如附圖中虛線b所示)平行的多排吸水孔，吸水孔沿上模本體3的縱向中心線(如附圖中虛線a所示)及橫向中心線均對(duì)稱分布，且吸水孔均勻布滿在上模本體3上;這樣使得磁瓦軸長方向上能均勻接觸到更多吸水孔，覆蓋更加全面;且同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4?5mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4?5mm;吸水孔的孔徑為2.5?3.0mm0
[0042]值得注意的是，本實(shí)用新型不僅采用吸水孔均勻分布式設(shè)計(jì)，更為重要的是局部吸水孔上還設(shè)置有堵孔裝置或者局部吸水孔的孔徑大小不一致，使得成型上模能夠根據(jù)產(chǎn)品的不同變形情況進(jìn)行針對(duì)式改善，其中用于堵住吸水孔的堵孔裝置是由柔性材料制成，材質(zhì)較軟、硬度較低，且具有一定彈性，可以充分將吸水孔堵實(shí)，利于精確控制吸水量的多少，且堵孔過程中不會(huì)破壞原有吸水孔結(jié)構(gòu)，也便于根據(jù)加工需要隨時(shí)取出，避免了上模本體3的受損，使得上模本體3可以長期針對(duì)不同產(chǎn)品使用，使用壽命有效提高。下面結(jié)合具體附圖和實(shí)施例進(jìn)行詳細(xì)描述。
[0043]實(shí)施例1
[0044]如圖1、圖2和圖3所示，磁瓦的實(shí)際成型結(jié)構(gòu)101與磁瓦的理論成型結(jié)構(gòu)102相比，明顯發(fā)生了軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形(如圖1中所示)，分析其原因是由于軸長方向的兩側(cè)位置磁瓦變形較小導(dǎo)致，即是軸長方向的兩側(cè)位置磁瓦的密度較大(水分含量較少)，軸長方向的中心位置磁瓦的密度較小(水分含量較多)導(dǎo)致，針對(duì)此變形，本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，在遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置(如圖2所示)，將上模本體3橫向兩端位置的吸水孔堵住，減少兩端位置吸水孔的吸水能力，從而使得具體成型時(shí)磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置可以保留更多水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的最終成型密度相一致(成型時(shí)吸水孔在磁瓦上的分布狀態(tài)如圖3所示)，從而有效改善磁瓦軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形現(xiàn)象。
[0045]本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4mm;吸水孔的孔徑為2.5mm;本實(shí)施例中采用小木棒作為堵孔裝置。
[0046]實(shí)施例2
[0047]如圖1、圖4和圖5所示，針對(duì)圖1中磁瓦軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形情況，本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，靠近上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑?；驹硗瑢?shí)施例1，通過將橫向中心線位置吸水孔擴(kuò)大，加強(qiáng)此處吸水孔的吸水能力，使得成型時(shí)磁瓦軸長方向的中心位置保留較少的水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的最終成型密度相一致(成型時(shí)吸水孔在磁瓦上的分布狀態(tài)如圖5所示)，從而有效改善軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形情況。
[0048]本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為5mm，相鄰排吸水孔之間的距離為5mm;靠近上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑為2.7mm，其他位置吸水孔的孔徑為2.5mm;本實(shí)施例中采用竹簽作為堵孔裝置。
[0049]實(shí)施例3
[0050]如圖1、圖6和圖7所示，針對(duì)圖1中磁瓦軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形情況，本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置，且靠近上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑(如圖6所示)；本實(shí)施例同時(shí)對(duì)上模本體3橫向中心位置和兩側(cè)位置的吸水孔排布進(jìn)行優(yōu)化，將遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置的吸水孔堵住，減少兩側(cè)位置吸水孔的吸水能力；同時(shí)將靠近上模本體3橫向中心線位置的吸水孔擴(kuò)大，加強(qiáng)中心位置吸水孔的吸水能力，使得成型時(shí)磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置可以保留較多的水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的最終成型密度相一致(成型時(shí)吸水孔在磁瓦上的分布狀態(tài)如圖7所示)，最終改善磁瓦軸長方向兩側(cè)向外擴(kuò)的變形情況，相對(duì)于實(shí)施例1和實(shí)施例2而言，實(shí)施例3效果更明顯，為優(yōu)選方案。
[0051]本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4.5mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4.5mm;靠近上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑為3.0mm，其他位置吸水孔的孔徑為2.8mm;本實(shí)施例中采用木肩作為堵孔裝置。
[0052]實(shí)施例4
[0053]如圖8和圖9所示，磁瓦的實(shí)際成型結(jié)構(gòu)101與理論成型結(jié)構(gòu)102相比，明顯發(fā)生了磁瓦軸長方向的兩側(cè)向內(nèi)縮的變形(如圖8中所示)，分析其原因是由于磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置的變形過大導(dǎo)致，即是磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置密度較小(水分含量較多)，磁瓦軸長方向的中心位置的密度較大(水分含量較少)導(dǎo)致，針對(duì)此變形，本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑(如圖9所示)。通過將遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置的吸水孔擴(kuò)大，加強(qiáng)上模本體3橫向兩側(cè)位置吸水孔的吸水能力，從而使得具體成型時(shí)磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置保留較少的水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的最終成型密度相一致，從而改善磁瓦軸長方向的兩側(cè)向內(nèi)縮的變形。
[0054]本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4.2mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4.2mm;遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑為2.9mm，其他位置吸水孔的孔徑為2.7mm;本實(shí)施例中采用彈性橡膠作為堵孔裝置。
[0055]實(shí)施例5
[0056]如圖8和圖10所示，針對(duì)磁瓦軸長方向的兩側(cè)向內(nèi)縮的變形(如圖8中所示)，本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，在靠近上模本體3橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置(如圖10中所示)，將上模本體3橫向中心線位置的吸水孔堵住，減少此處吸水孔的吸水能力，從而使得具體成型時(shí)磁瓦軸長方向的中心位置可以保留更多水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的最終成型密度相一致，改善磁瓦軸長方向兩側(cè)向內(nèi)縮的變形現(xiàn)象。
[0057]實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4.6mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4.6mm ；吸水孔的孔徑為2.8mm;本實(shí)施例中采用軟保險(xiǎn)絲作為堵孔裝置。
[0058]實(shí)施例6
[0059]如圖8和圖11所示，針對(duì)磁瓦軸長方向的兩側(cè)向內(nèi)縮的變形(如圖8中所示)，本實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑，且靠近上模本體3橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置(如圖11中所示)。本實(shí)施例同時(shí)對(duì)上模本體3橫向中心線位置和兩側(cè)位置的吸水孔排布進(jìn)行優(yōu)化，將遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置的吸水孔擴(kuò)大，加強(qiáng)兩側(cè)位置吸水孔的吸水能力；同時(shí)將靠近上模本體3橫向中心線位置的吸水孔堵住，減少中心位置吸水孔的吸水能力，使得成型時(shí)磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置可以保留較少的水分，磁瓦軸長方向的中心位置可以保留較多的水分，使得磁瓦軸長方向的兩側(cè)位置和中心位置的最終成型密度相一致，有效改善磁瓦軸長方向兩側(cè)向內(nèi)縮的變形情況，相對(duì)于實(shí)施例4和實(shí)施例5而言，實(shí)施例6為優(yōu)選方案。
[0060]實(shí)施例的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4.8mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4.8mm;遠(yuǎn)離上模本體3橫向中心線位置吸水孔的孔徑為3.0mm，其他位置吸水孔的孔徑為2.8mm;本實(shí)施例中采用小木棒作為堵孔裝置。
[0061]本實(shí)用新型通過對(duì)上模本體3上原有的吸水孔進(jìn)行堵實(shí)或擴(kuò)大的優(yōu)化，可以實(shí)現(xiàn)對(duì)小弧度磁瓦燒結(jié)過程中各種變形情況的改善，實(shí)現(xiàn)過程簡單，不需要進(jìn)行復(fù)雜的結(jié)構(gòu)改進(jìn)或制作全新的上模，操作更加便捷，且不會(huì)對(duì)上模本體3造成結(jié)構(gòu)傷害，避免了模具資源浪費(fèi);堵住或擴(kuò)大吸水孔的列數(shù)或具體位置根據(jù)生產(chǎn)實(shí)際變形而進(jìn)行調(diào)整，靈活性高，應(yīng)用范圍廣，易于施行。
[0062]以上示意性的對(duì)本實(shí)用新型及其實(shí)施方式進(jìn)行了描述，該描述沒有限制性，附圖中所示的也只是本實(shí)用新型的實(shí)施方式之一，實(shí)際的結(jié)構(gòu)并不局限于此。所以，如果本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員受其啟示，在不脫離本實(shí)用新型創(chuàng)造宗旨的情況下，不經(jīng)創(chuàng)造性的設(shè)計(jì)出與該技術(shù)方案相似的結(jié)構(gòu)方式及實(shí)施例，均應(yīng)屬于本實(shí)用新型的保護(hù)范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，包括上模本體(3)，其特征在于:所述磁瓦內(nèi)弧面的弧心角為60°?120°，磁瓦的軸長>30mm; 所述上模本體(3)上設(shè)置有與上模本體(3)橫向中心線平行的多排吸水孔，吸水孔沿上模本體(3)的縱向中心線及橫向中心線均對(duì)稱分布，且吸水孔均勻布滿在上模本體(3)上； 局部吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置或者局部吸水孔的孔徑大小不一致。2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:遠(yuǎn)離上模本體(3)橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:靠近上模本體(3)橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑。4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:遠(yuǎn)離上模本體(3)橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置，且靠近上模本體(3)橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑。5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:遠(yuǎn)離上模本體(3)橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑。6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:靠近上模本體(3)橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。7.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:遠(yuǎn)離上模本體(3)橫向中心線位置吸水孔的孔徑大于其他位置吸水孔的孔徑，且靠近上模本體(3)橫向中心線位置的吸水孔上設(shè)置有堵孔裝置。8.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:同一排吸水孔上相鄰吸水孔的孔距為4?5mm，相鄰排吸水孔之間的距離為4?5mm;吸水孔的孔徑為2.5?3.0mm。9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種提升小弧度磁瓦成型質(zhì)量的上模結(jié)構(gòu)，其特征在于:所述堵孔裝置用于堵塞吸水孔，該堵孔裝置采用柔性材料制成。
【文檔編號(hào)】B28B7/44GK205466677SQ201620255333
【公開日】2016年8月17日
【申請日】2016年3月29日
【發(fā)明人】翁革平
【申請人】馬鞍山市鑫洋永磁有限責(zé)任公司