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一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法

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一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法
【專利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法,采用并行曝光控制技術(shù),屬于直寫(xiě)式光刻機(jī)曝光【技術(shù)領(lǐng)域】。首先對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作,后將A工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光;同時(shí)對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作,后將B工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置,等待掃描曝光;A工件臺(tái)完成掃描曝光后,退出A工件臺(tái),并對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行下板、上新板、對(duì)準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作,同時(shí)開(kāi)始對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光流程。本發(fā)明大幅降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性,多個(gè)工件臺(tái)在各自的工作區(qū)域內(nèi)互不干擾,使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒蹋瑯O大地縮短了曝光時(shí)間。此外本發(fā)明提高了曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率,在保證光刻精度的同時(shí),不會(huì)增加任何耗時(shí)。
【專利說(shuō)明】一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001]本發(fā)明涉及一種直寫(xiě)光刻方法,具體是一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法,屬于直寫(xiě)式光刻機(jī)曝光【技術(shù)領(lǐng)域】。

【背景技術(shù)】
[0002]直寫(xiě)式光刻技術(shù)是近年來(lái)發(fā)展較快的、以替代傳統(tǒng)的掩膜板式光刻技術(shù)的影像直接轉(zhuǎn)移技術(shù),在半導(dǎo)體及PCB生產(chǎn)領(lǐng)域中有著越來(lái)越重要的地位。該技術(shù)可以縮短工藝流程,并降低制造成本。目前市場(chǎng)上的主流直寫(xiě)式光刻機(jī)大多以單工件臺(tái)方式進(jìn)行掃描曝光。在單工件臺(tái)系統(tǒng)中,用于曝光的基板的上板、對(duì)準(zhǔn)、曝光、下板是依次進(jìn)行的。依據(jù)目前的結(jié)構(gòu)系統(tǒng),各操作流程已經(jīng)達(dá)到耗時(shí)的上限,很難再縮短某個(gè)操作步驟的操作時(shí)間,即單工件臺(tái)的直寫(xiě)式光刻機(jī)由于各操作流程的連續(xù)性,已很難再提高產(chǎn)能。于是便有了雙工件臺(tái)掃描技術(shù),一個(gè)工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光,另一個(gè)工件臺(tái)進(jìn)行上下板、對(duì)準(zhǔn)等操作,可大幅提高設(shè)備產(chǎn)能。
[0003]目前采用雙工件臺(tái)設(shè)計(jì)的直寫(xiě)式光刻機(jī),都是垂直安裝方式進(jìn)行設(shè)計(jì)的。即兩個(gè)工件臺(tái)為上下結(jié)構(gòu),由于兩個(gè)工件臺(tái)在垂直方向上的落差,要求聚焦模塊和對(duì)準(zhǔn)模塊必須要上下移動(dòng),這樣增加了結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)難度,并且頻繁的上下移動(dòng),會(huì)導(dǎo)致對(duì)準(zhǔn)精度的降低及增加對(duì)準(zhǔn)耗時(shí)。過(guò)于緊湊的上下工件臺(tái)結(jié)構(gòu)也導(dǎo)致真空系統(tǒng)難于安裝,基板本身的翹曲以及工件臺(tái)在高速運(yùn)動(dòng)中所導(dǎo)致的基板移動(dòng)都會(huì)降低曝光品質(zhì)及良率。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]針對(duì)上述現(xiàn)有技術(shù)存在的問(wèn)題,本發(fā)明提供一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法,大幅降低結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性,使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒?,極大地縮短曝光時(shí)間,提高曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率,在保證光刻精度的同時(shí),不會(huì)增加任何耗時(shí)。
[0005]為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法所采用的具體步驟如下:
[0006]1)、首先對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作,完成后將A工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光;
[0007]2)、在A工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光的同時(shí),對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作;
[0008]3)、B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作完成后,將B工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置,等待掃描曝光;
[0009]4)、A工件臺(tái)完成掃描曝光后,退出A工件臺(tái),并對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行下板、上新板、對(duì)準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作,同時(shí)開(kāi)始對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光流程;
[0010]5)、上述步驟循環(huán)往復(fù)進(jìn)行,形成整機(jī)操作的上下板、對(duì)準(zhǔn)與掃描曝光流程的同步進(jìn)行。
[0011]進(jìn)一步,所述A工件臺(tái)與B工件臺(tái)并排平行地安裝在兩個(gè)掃描軸上,在曝光過(guò)程中分別隨各自的掃描軸進(jìn)行移動(dòng),分別完成對(duì)準(zhǔn)、掃描曝光動(dòng)作。
[0012]與現(xiàn)有的直寫(xiě)光刻方法相比,本多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法大幅降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性,兩個(gè)工件臺(tái)在各自的工作區(qū)域內(nèi)互不干擾,一個(gè)工件臺(tái)在掃描曝光的過(guò)程中,另一個(gè)工件臺(tái)進(jìn)行上下板、對(duì)準(zhǔn)等操作流程,使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒?,極大地縮短了曝光時(shí)間。此外本多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法提高了曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率,在保證光刻精度的同時(shí),不會(huì)增加任何耗時(shí)。

【專利附圖】

【附圖說(shuō)明】
[0013]圖1為本發(fā)明的工作流程圖;
[0014]圖2為本發(fā)明的一種工作原理圖;
[0015]圖3為本發(fā)明的另一種工作原理圖。

【具體實(shí)施方式】
[0016]下面結(jié)合附圖對(duì)本發(fā)明做進(jìn)一步說(shuō)明。
[0017]如圖1所示,本多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法所采用的具體步驟如下:
[0018]1)、首先對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作,完成后將A工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光;
[0019]2)、在A工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光的同時(shí),對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作;
[0020]3)、B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作完成后,將B工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置,等待掃描曝光;
[0021]4)、A工件臺(tái)完成掃描曝光后,退出A工件臺(tái),并對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行下板、上新板、對(duì)準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作,同時(shí)開(kāi)始對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光流程;
[0022]5)、上述步驟循環(huán)往復(fù)進(jìn)行,形成整機(jī)操作的上下板、對(duì)準(zhǔn)與掃描曝光流程的同步進(jìn)行。
[0023]如圖2和圖3所示,所述A工件臺(tái)與B工件臺(tái)并排平行地安裝在兩個(gè)掃描軸上,在曝光過(guò)程中分別隨各自的掃描軸進(jìn)行移動(dòng),分別完成對(duì)準(zhǔn)、掃描曝光動(dòng)作。所述工作流程循環(huán)往復(fù)進(jìn)行,形成乒乓式的作業(yè)流程,以達(dá)到操作流程并行進(jìn)行的目的。
[0024]如圖2所示,當(dāng)A工件臺(tái)在進(jìn)行正常的掃描曝光的同時(shí),B工件臺(tái)進(jìn)行前一塊基板的下板,當(dāng)前基板的上板并進(jìn)行對(duì)準(zhǔn)準(zhǔn)備工作,然后B工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置等待曝光。
[0025]如圖3所不,當(dāng)A工件臺(tái)曝光完成后,光路系統(tǒng)隨步進(jìn)軸移動(dòng)至B工件臺(tái)臺(tái)面之上,開(kāi)始對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光。同時(shí),A工件臺(tái)退出至安全位置進(jìn)行下板、上下一塊基板、對(duì)準(zhǔn)等工作,然后移動(dòng)到曝光起始位置等待曝光。
[0026]綜上所述,本多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法大幅降低了結(jié)構(gòu)的復(fù)雜性,兩個(gè)工件臺(tái)在各自的工作區(qū)域內(nèi)互不干擾,一個(gè)工件臺(tái)在掃描曝光的過(guò)程中,另一個(gè)工件臺(tái)進(jìn)行上下板、對(duì)準(zhǔn)等操作流程,使原本按順序串行進(jìn)行的曝光流程變?yōu)椴⑿械钠毓饬鞒蹋瑯O大地縮短了曝光時(shí)間。此外本多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法提高了曝光品質(zhì)及生產(chǎn)良率,在保證光刻精度的同時(shí),不會(huì)增加任何耗時(shí)。
【權(quán)利要求】
1.一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法,其特征在于,具體步驟如下: 1)、首先對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作,完成后將A工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置進(jìn)行掃描曝光; 2)、在A工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光的同時(shí),對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作; 3)、B工件臺(tái)進(jìn)行上板、對(duì)準(zhǔn)操作完成后,將B工件臺(tái)移動(dòng)至曝光起始位置,等待掃描曝光; 4)、A工件臺(tái)完成掃描曝光后,退出A工件臺(tái),并對(duì)A工件臺(tái)進(jìn)行下板、上新板、對(duì)準(zhǔn)的掃描曝光準(zhǔn)備工作,同時(shí)開(kāi)始對(duì)B工件臺(tái)進(jìn)行掃描曝光流程; 5)、上述步驟循環(huán)往復(fù)進(jìn)行,形成整機(jī)操作的上下板、對(duì)準(zhǔn)與掃描曝光流程的同步進(jìn)行。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種多工件臺(tái)協(xié)作直寫(xiě)光刻方法,其特征在于, 所述A工件臺(tái)與B工件臺(tái)并排平行地安裝在兩個(gè)掃描軸上,在曝光過(guò)程中分別隨各自的掃描軸進(jìn)行移動(dòng),分別完成對(duì)準(zhǔn)、掃描曝光動(dòng)作。
【文檔編號(hào)】G03F7/20GK104375389SQ201410539501
【公開(kāi)日】2015年2月25日 申請(qǐng)日期:2014年10月13日 優(yōu)先權(quán)日:2014年10月13日
【發(fā)明者】曹旸, 李陽(yáng) 申請(qǐng)人:江蘇影速光電技術(shù)有限公司
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