專利名稱：一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝及其裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及一種電鍍后對電鍍件進(jìn)行清洗的工藝及其裝置，特別是涉及一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝及其裝置。
背景技術(shù)：
在電鍍生產(chǎn)過程中需對電鍍處理后的電鍍件表面進(jìn)行清洗，以達(dá)到洗凈零件表面殘留電鍍液的目的，常用的清洗方法為多道流動(dòng)水清洗法，清洗槽的數(shù)量通常為3-5個(gè)，需消耗大量水，并產(chǎn)生漂洗廢水，廢水經(jīng)過處理后才能排放，屬于電鍍自動(dòng)線上的漂洗水排放法?，F(xiàn)有的漂洗水無排放生產(chǎn)法，主要是增加靜止水回收數(shù)量或加噴淋清洗法，清洗回收槽數(shù)量一般為6-10個(gè)，采用逆向逐級倒槽更新的方法，把最濃的回收槽液經(jīng)蒸發(fā)濃縮后補(bǔ)充至電鍍槽中，該方法需要昂貴的蒸發(fā)濃縮設(shè)備，并且耗能大。至于氣霧方式的噴洗方法由于壓縮空氣的氣霧清洗會對大多數(shù)鍍層造成氧化或鈍化，引起鍍層變色或在后續(xù)電鍍時(shí)結(jié)合力差，故只能適用于電鍍鍍鉻處理的清洗工序。

發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于克服現(xiàn)有電鍍自動(dòng)線上的漂洗水排放或無排放工藝存在的不足，提供一種節(jié)能、環(huán)保、生產(chǎn)成本低的電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝；本發(fā)明的另一個(gè)目的是提供一種實(shí)現(xiàn)該工藝的裝置。
本發(fā)明采取的技術(shù)方案一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝，采用間隙的水霧化方式噴洗電鍍件，當(dāng)電鍍件工作面下端到達(dá)噴霧簾位置時(shí)，噴霧液噴到該位置，當(dāng)電鍍件工作面上端離開噴霧簾位置時(shí)，噴霧液停止噴射，其特征在于如下步驟(a)當(dāng)電鍍件從電鍍槽進(jìn)入回收空槽執(zhí)行下降動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置使用第一清洗槽中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗；(b)當(dāng)電鍍件從回收空槽進(jìn)入第一清洗槽執(zhí)行上升動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置使用第二清洗槽中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，依次類推最后一個(gè)清洗槽使用去離子水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗。
控制所述電鍍槽中電鍍液溫度大于或等于45℃，控制所述微量霧化水噴射裝置每米噴射水量為300～350ml。
所述微量霧化水噴射裝置噴射水霧簾的時(shí)間由電鍍件長度決定。
一種上述電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝的裝置，包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽和2～4個(gè)清洗槽，在電鍍槽和清洗槽之間置有回收空槽，所述電鍍槽、清洗槽和回收空槽通過管線和泵相連接，所述回收空槽、清洗槽均在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置。
本發(fā)明的有益效果在于，采用所述的一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝，通進(jìn)微量水霧化反噴射清洗技術(shù)，把少量水用泵通過霧化噴嘴直接霧化成水霧，可大大降低清洗用水量，使消耗的水量與電鍍槽蒸發(fā)所消耗的水量相同，從而達(dá)到漂洗水無需排放，回收液無需蒸發(fā)濃縮的目的，減少了電鍍廢水排放對環(huán)境的污染，節(jié)約了昂貴的蒸發(fā)濃縮設(shè)備和能源。同時(shí)，本發(fā)明把微量水用泵通過霧化噴嘴直接霧化成霧化水，不含壓縮空氣，不會對電鍍層引起變色和鈍化，可適用于各種電鍍工藝，適用性強(qiáng)。在末道噴霧中采用去離子水，清洗效果更好。由于采用霧化水清洗技術(shù)，與傳統(tǒng)清洗技術(shù)相比，可節(jié)約清洗水97％以上，而且電鍍件從電鍍槽中帶出的電鍍液液幾乎全部回用至該電鍍槽，是一種節(jié)能、環(huán)保、生產(chǎn)成本低的電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝。


圖1是電鍍清洗裝置整體結(jié)構(gòu)示意圖；圖2是回收空槽豎直平面剖視圖；具體實(shí)施方式
下面結(jié)合附圖，對本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)描述如圖1所示，本發(fā)明是采用間隙的水霧化方式噴洗電鍍件，當(dāng)電鍍件工作面下端到達(dá)噴霧簾位置時(shí)，噴霧液噴到該位置，當(dāng)電鍍件工作面上端離開噴霧簾位置時(shí)，噴霧液停止噴射，包括如下步驟(a)當(dāng)電鍍件從電鍍槽1進(jìn)入回收空槽2執(zhí)行下降動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置4使用第一清洗槽3中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗；(b)當(dāng)電鍍件從回收空槽2進(jìn)入第一清洗槽3執(zhí)行上升動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置4使用第二清洗槽3中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，依次類推最后一個(gè)清洗槽3使用去離子水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗。控制所述電鍍槽1中電鍍液溫度大于或等于45℃，控制所述微量霧化水噴射裝置4每米噴射水量為300～350ml，可以實(shí)現(xiàn)所述單位時(shí)間內(nèi)回收空槽2回收清洗液的量大體等同于電鍍槽1內(nèi)電鍍液的蒸發(fā)量?；厥湛詹?和每一個(gè)清洗槽3的上方均設(shè)置至少一對水霧噴洗裝置4，以水霧簾方式的微量水霧化清洗，其水霧簾高度約10cm，以向下30度角噴射來清洗，噴水量為300-350ml/m，由于所述微量霧化水噴射裝置2噴射水霧簾的時(shí)間由電鍍件長度決定，因此電鍍件在回收空槽2和各個(gè)清洗槽3中的清洗時(shí)間是等同的，也就是說，回收空槽2和每個(gè)清洗槽3噴射的水霧化洗液量相同。下道清洗工序中的溶液可以成為上道清洗工序的噴洗液，而且每個(gè)回收槽返回的溶液量等同上道水霧簾噴洗的溶液量，并以逐級返回方式減少清洗溶液量。本辦法以控制電鍍清洗的用水量達(dá)到電鍍工藝中無漂洗水排放的目的，減少能耗和資源，也克服了氣霧方式清洗給電鍍質(zhì)量帶來的不良后果，解決了電鍍工藝的無漂洗水排放和自動(dòng)化線的關(guān)鍵技術(shù)問題。
如圖2所示，一種實(shí)現(xiàn)上述電鍍清洗工藝的裝置，包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽1和2～4個(gè)清洗槽3，其特征在于電鍍槽1和清洗槽3之間置有回收空槽2，所述電鍍槽1、清洗槽3和回收空槽2通過管線和泵相連接，所述回收空槽2、清洗槽3均在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置4。
權(quán)利要求
1.一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝，采用間隙的水霧化方式噴洗電鍍件，當(dāng)電鍍件工作面下端到達(dá)噴霧簾位置時(shí)，噴霧液噴到該位置，當(dāng)電鍍件工作面上端離開噴霧簾位置時(shí)，噴霧液停止噴射，其特征在于如下步驟(a)當(dāng)電鍍件從電鍍槽(1)進(jìn)入回收空槽(2)執(zhí)行下降動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置(4)使用第一清洗槽(3)中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗；(b)當(dāng)電鍍件從回收空槽(2)進(jìn)入第一清洗槽(3)執(zhí)行上升動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置(4)使用第二清洗槽(3)中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，依次類推最后一個(gè)清洗槽(3)使用去離子水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝，其特征在于控制所述電鍍槽(1)中電鍍液溫度大于或等于45℃，控制所述微量霧化水噴射裝置(4)每米噴射水量為300～350ml。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝，其特征在于所述微量霧化水噴射裝置(4)噴射水霧簾的時(shí)間由電鍍件長度決定。
4.一種實(shí)現(xiàn)權(quán)利要求1所述電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝的裝置，包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽(1)和2～4個(gè)清洗槽(3)，其特征在于電鍍槽(1)和清洗槽(3)之間置有回收空槽(2)，所述電鍍槽(1)、清洗槽(3)和回收空槽(2)通過管線和泵相連接，所述回收空槽(2)、清洗槽(3)均在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置(4)。
全文摘要
本發(fā)明公開了一種電鍍自動(dòng)線上的漂洗水無排放工藝及其裝置，所述工藝特征在于當(dāng)電鍍件從電鍍槽進(jìn)入回收空槽執(zhí)行下降動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置使用第一清洗槽中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗；當(dāng)電鍍件從回收空槽進(jìn)入第一清洗槽執(zhí)行上升動(dòng)作時(shí)，控制微量霧化水噴射裝置使用第二清洗槽中的水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗，依次類推最后一個(gè)清洗槽使用去離子水對電鍍件噴射水霧簾進(jìn)行清洗。所述裝置包括電鍍自動(dòng)線上的電鍍槽和2～4個(gè)清洗槽，在電鍍槽和清洗槽之間置有回收空槽，各槽通過管線和泵連接，回收空槽、清洗槽均在槽口兩側(cè)置有微量霧化水噴射裝置。本發(fā)明可節(jié)水97％以上，環(huán)保、無電鍍廢水排放的電鍍清洗工藝。
文檔編號C25D21/20GK1580333SQ200410018419
公開日2005年2月16日 申請日期2004年5月18日 優(yōu)先權(quán)日2004年5月18日
發(fā)明者余小東 申請人:上海應(yīng)用技術(shù)學(xué)院