一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制造方法
【專(zhuān)利摘要】本發(fā)明公開(kāi)了一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制造方法。顯示基板的周邊區(qū)域設(shè)置有：第一金屬布線(xiàn)；位于第一金屬布線(xiàn)之上的第一絕緣層，第一絕緣層具有與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔；位于第一絕緣層之上的第二金屬布線(xiàn)，第二金屬布線(xiàn)包括被第一過(guò)孔間隔的第一部分和第二部分；位于第二金屬布線(xiàn)之上的第二絕緣層，第二絕緣層具有第二過(guò)孔，第二過(guò)孔與第一過(guò)孔連通且暴露出第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分；位于第二絕緣層之上的導(dǎo)電連接層，導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。相比現(xiàn)有技術(shù)，該方案可以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。
【專(zhuān)利說(shuō)明】
一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制造方法
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本發(fā)明涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制造方法。
【背景技術(shù)】
[0002]在平板顯示裝置中，薄膜晶體管液晶顯示器(Thin Film Transistor LiquidCrystal Display，簡(jiǎn)稱(chēng)TFT-LCD)具有體積小、功耗低、制造成本相對(duì)較低和無(wú)福射等特點(diǎn)，在當(dāng)前的平板顯示器市場(chǎng)占據(jù)了主導(dǎo)地位。
[0003]在TFT-LCD陣列基板的周邊區(qū)域，為實(shí)現(xiàn)第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)之間的電連接，通常設(shè)有過(guò)孔結(jié)構(gòu)，具體的，如圖1所示，第一絕緣層12具有與第一金屬布線(xiàn)11位置相對(duì)的第一過(guò)孔13和與第二金屬布線(xiàn)的第一部分14位置相對(duì)的第二過(guò)孔17，位于第二絕緣層16上方的導(dǎo)電連接層18通過(guò)第一過(guò)孔13與第一金屬布線(xiàn)11電連接，并通過(guò)第二過(guò)孔17與第二金屬布線(xiàn)的第一部分14電連接，從而將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)之間電連接。
[0004]現(xiàn)有技術(shù)的缺陷在于，陣列基板周邊區(qū)域的過(guò)孔結(jié)構(gòu)占用空間較大，不易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005]本發(fā)明的目的是提供一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制造方法，以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。
[0006]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板，所述顯示基板的周邊區(qū)域設(shè)置有:
[0007]第一金屬布線(xiàn)；
[0008]位于第一金屬布線(xiàn)之上的第一絕緣層，所述第一絕緣層具有與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔；
[0009]位于第一絕緣層之上的第二金屬布線(xiàn)，所述第二金屬布線(xiàn)包括被第一過(guò)孔間隔的第一部分和第二部分；
[0010]位于第二金屬布線(xiàn)之上的第二絕緣層，所述第二絕緣層具有第二過(guò)孔，所述第二過(guò)孔與第一過(guò)孔連通且暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分；
[0011]位于第二絕緣層之上的導(dǎo)電連接層，所述導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。
[0012]采用本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板，可以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。
[0013]優(yōu)選的，所述第一金屬布線(xiàn)與顯示基板的柵線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同；所述第二金屬布線(xiàn)與顯示基板的數(shù)據(jù)線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同；所述導(dǎo)電連接層與顯示基板的像素電極同層設(shè)置且材質(zhì)相同。采用該技術(shù)方案，第一金屬布線(xiàn)與柵線(xiàn)可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，第二金屬布線(xiàn)與數(shù)據(jù)線(xiàn)可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，導(dǎo)電連接層與像素電極可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，因此簡(jiǎn)化了顯示基板的制造工藝，節(jié)約了加工時(shí)間和生產(chǎn)成本。
[0014]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括前述技術(shù)方案所述的顯示基板。該顯示裝置的顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間較小，易于實(shí)現(xiàn)窄邊框設(shè)計(jì)。
[0015]本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的制造方法，包括:
[0016]在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)；
[0017]在第一金屬布線(xiàn)之上形成第一絕緣層；
[0018]在第一絕緣層之上形成包括第一部分和第二部分的第二金屬布線(xiàn)；
[0019]在第二金屬布線(xiàn)之上形成第二絕緣層；
[0020]通過(guò)半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成位于第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分之間且與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔，以及與第一過(guò)孔連通且暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分的第二過(guò)孔；
[0021]在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層，所述導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。
[0022]采用發(fā)明實(shí)施例提供的方法制造的顯示基板，可以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)，同時(shí)，采用半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成第一過(guò)孔和第二過(guò)孔，簡(jiǎn)化了顯示基板的制造工藝，節(jié)約了加工時(shí)間和生產(chǎn)成本。
[0023]優(yōu)選的，在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)的同時(shí)形成與第一金屬布線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同的柵線(xiàn)。
[0024]優(yōu)選的，在第一絕緣層之上形成第二金屬布線(xiàn)的同時(shí)形成與第二金屬布線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同的數(shù)據(jù)線(xiàn)。
[0025]優(yōu)選的，在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層的同時(shí)形成與導(dǎo)電連接層同層設(shè)置且材質(zhì)相同的像素電極。
[0026]優(yōu)選的，所述通過(guò)半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成第一過(guò)孔和第二過(guò)孔，具體包括:
[0027]在第二絕緣層之上形成光刻膠；
[0028]采用具有全透光區(qū)和半透光區(qū)的掩模板對(duì)基板進(jìn)行曝光，其中，全透光區(qū)與基板上預(yù)形成第一過(guò)孔的區(qū)域位置相對(duì)，半透光區(qū)與基板上預(yù)暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分的區(qū)域位置相對(duì)；
[0029]對(duì)基板進(jìn)行顯影并刻蝕出第一過(guò)孔；
[0030]對(duì)基板進(jìn)行灰化并刻蝕出第二過(guò)孔。
[0031]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示基板的制造方法，包括:
[0032]在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)；
[0033]在第一金屬布線(xiàn)之上形成第一絕緣層，所述第一絕緣層具有與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔；
[0034]在第一絕緣層之上形成包括第一部分和第二部分的第二金屬布線(xiàn)，所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分位于第一過(guò)孔的兩側(cè)；
[0035]在第二金屬布線(xiàn)之上形成第二絕緣層，所述第二絕緣層具有第二過(guò)孔，所述第二過(guò)孔與第一過(guò)孔連通且暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分；
[0036]在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層，所述導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。
[0037]采用該方法制造的顯示基板，可以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。
【附圖說(shuō)明】
[0038]圖1為現(xiàn)有技術(shù)中顯示基板板周邊區(qū)域的過(guò)孔結(jié)構(gòu)示意圖；
[0039]圖2a?2g為本發(fā)明實(shí)施例基板的半色調(diào)掩模工藝示意圖；
[0040]圖3為本發(fā)明實(shí)施例顯示基板的部分俯視圖；
[0041 ]圖4為本發(fā)明一實(shí)施例顯示基板的制造方法流程圖；
[0042]圖5為圖3中步驟105的具體步驟流程圖；
[0043]圖6為本發(fā)明另一實(shí)施例顯示基板的制造方法流程圖。
[0044]附圖標(biāo)記:
[0045]10-襯底基板11-第一金屬布線(xiàn)12-第一絕緣層13-第一過(guò)孔
[0046]H-第二金屬布線(xiàn)的第一部分15-第二金屬布線(xiàn)的第二部分
[0047]16-第二絕緣層17-第二過(guò)孔18-導(dǎo)電連接層20-光刻膠
[0048]30-半色調(diào)掩模板
【具體實(shí)施方式】
[0049]為了減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板、顯示裝置及顯示基板的制造方法。
[0050]如圖2g和圖3所示，本發(fā)明提供的顯示基板的周邊區(qū)域設(shè)置有:
[0051 ] 第一金屬布線(xiàn)11;
[0052]位于第一金屬布線(xiàn)11之上的第一絕緣層12，第一絕緣層12具有與第一金屬布線(xiàn)11位置相對(duì)的第一過(guò)孔13;
[0053]位于第一絕緣層12之上的第二金屬布線(xiàn)，第二金屬布線(xiàn)包括被第一過(guò)孔間隔的第一部分14和第二金屬布線(xiàn)的第二部分15;
[0054]位于第二金屬布線(xiàn)之上的第二絕緣層16，第二絕緣層16具有第二過(guò)孔17，第二過(guò)孔17與第一過(guò)孔13連通且暴露出第二金屬布線(xiàn)的第一部分14和第二金屬布線(xiàn)的第二部分15；
[0055]位于第二絕緣層16之上的導(dǎo)電連接層18，導(dǎo)電連接層18通過(guò)第二過(guò)孔17和第一過(guò)孔13將第一金屬布線(xiàn)11和第二金屬布線(xiàn)連接。
[0056]其中，第一金屬布線(xiàn)11的具體材質(zhì)不限，例如可以為鋁、銅、鉬等;第一絕緣層12和第二絕緣層16的具體材質(zhì)不限，例如可以為氮化硅等;導(dǎo)電連接層18的具體材質(zhì)不限，例如導(dǎo)電連接層18的材質(zhì)可以為金屬氧化物，如氧化銦錫(ITO)等。
[0057]請(qǐng)對(duì)比圖1和圖2g所示，現(xiàn)有技術(shù)中，第一絕緣層12具有與第一金屬布線(xiàn)11位置相對(duì)的第一過(guò)孔13和與第二金屬布線(xiàn)的第一部分14位置相對(duì)的第二過(guò)孔17，位于第二絕緣層16上方的導(dǎo)電連接層18通過(guò)第一過(guò)孔13與第一金屬布線(xiàn)11電連接，并通過(guò)第二過(guò)孔17與第二金屬布線(xiàn)的第一部分14電連接，從而將第一金屬布線(xiàn)11和第二金屬布線(xiàn)的第一部分14之間的電連接。而本發(fā)明實(shí)施例提供的顯示基板，第二過(guò)孔17位于第一過(guò)孔13的上方并與第一過(guò)孔13連通且暴露出第二金屬布線(xiàn)的第一部分14和第二金屬布線(xiàn)的第二部分15，導(dǎo)電連接層18通過(guò)第二過(guò)孔17和第一過(guò)孔13將第一金屬布線(xiàn)11和第二金屬布線(xiàn)連接，從而減小了顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。
[0058]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，第一金屬布線(xiàn)與顯示基板的柵線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同；第二金屬布線(xiàn)與顯示基板的數(shù)據(jù)線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同；導(dǎo)電連接層與顯示基板的像素電極同層設(shè)置且材質(zhì)相同。采用該技術(shù)方案，第一金屬布線(xiàn)與柵線(xiàn)可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，第二金屬布線(xiàn)與數(shù)據(jù)線(xiàn)可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，導(dǎo)電連接層與像素電極可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，因此簡(jiǎn)化了顯示基板的制造工藝，節(jié)約了加工時(shí)間和生產(chǎn)成本。
[0059]本發(fā)明實(shí)施例還提供了一種顯示裝置，包括前述技術(shù)方案的顯示基板。其中，顯示裝置的具體類(lèi)型不限，例如可以為:液晶面板、電子紙、OLED面板、手機(jī)、平板電腦、電視機(jī)、顯示器、筆記本電腦、數(shù)碼相框、導(dǎo)航儀等任何具有顯示功能的產(chǎn)品或部件。該顯示裝置的顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間較小，易于實(shí)現(xiàn)窄邊框設(shè)計(jì)。
[0060]如圖6所示，本發(fā)明實(shí)施例提供了一種顯示基板的制造方法，包括:
[0061 ]步驟201:在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)；
[0062]步驟202:在第一金屬布線(xiàn)之上形成第一絕緣層，第一絕緣層具有與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔；
[0063]步驟203:在第一絕緣層之上形成包括第一部分和第二部分的第二金屬布線(xiàn)，第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分位于第一過(guò)孔的兩側(cè)；
[0064]步驟204:在第二金屬布線(xiàn)之上形成第二絕緣層，第二絕緣層具有第二過(guò)孔，第二過(guò)孔與第一過(guò)孔連通且暴露出第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分；
[0065]步驟205:在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層，導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。
[0066]采用該方法制造的顯示基板，可以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)。
[0067]請(qǐng)結(jié)合圖2a?2g和圖4所示，本發(fā)明另一實(shí)施例提供的一種顯示基板的制造方法，包括:
[0068]步驟101:在襯底基板10上形成第一金屬布線(xiàn)11;
[0069]步驟102:在第一金屬布線(xiàn)11之上形成第一絕緣層12;
[0070]步驟103:在第一絕緣層12之上形成包括第一部分和第二部分的第二金屬布線(xiàn)；
[0071]步驟104:在第二金屬布線(xiàn)之上形成第二絕緣層16;
[0072]步驟105:通過(guò)半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成位于第二金屬布線(xiàn)的第一部分14和第二金屬布線(xiàn)的第二部分15之間且與第一金屬布線(xiàn)11位置相對(duì)的第一過(guò)孔13，以及與第一過(guò)孔13連通且暴露出第二金屬布線(xiàn)的第一部分14和第二金屬布線(xiàn)的第二部分15的第二過(guò)孔17;
[0073]步驟106:在第二絕緣層16之上形成導(dǎo)電連接層18，導(dǎo)電連接層18通過(guò)第二過(guò)孔17和第一過(guò)孔13將第一金屬布線(xiàn)11和第二金屬布線(xiàn)連接。
[0074]基板上各膜層的圖形通常采用構(gòu)圖工藝制作形成，一次構(gòu)圖工藝通常包括基板清洗、成膜、光刻膠涂覆、曝光、顯影、刻蝕、光刻膠剝離等工序;對(duì)于金屬層通常采用物理氣相沉積方式(例如磁控濺射法)成膜，通過(guò)濕法刻蝕形成圖形，而對(duì)于非金屬層通常采用化學(xué)氣相沉積方式成膜，通過(guò)干法刻蝕形成圖形。
[0075]在本發(fā)明的優(yōu)選實(shí)施例中，在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)的同時(shí)形成與第一金屬布線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同的柵線(xiàn);在第一絕緣層之上形成第二金屬布線(xiàn)的同時(shí)形成與第二金屬布線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同的數(shù)據(jù)線(xiàn);在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層的同時(shí)形成與導(dǎo)電連接層同層設(shè)置且材質(zhì)相同的像素電極。這樣，第一金屬布線(xiàn)與柵線(xiàn)可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，第二金屬布線(xiàn)與數(shù)據(jù)線(xiàn)可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，導(dǎo)電連接層與像素電極可以通過(guò)一次掩模構(gòu)圖工藝形成，因此簡(jiǎn)化了顯示基板的制造工藝，節(jié)約了加工時(shí)間和生產(chǎn)成本。
[0076]其中，如圖5和圖2a?2e所示，步驟105具體包括:
[0077]步驟1051:在第二絕緣層16之上形成光刻膠20;
[0078]步驟1052:采用具有全透光區(qū)和半透光區(qū)的半色調(diào)掩模板30對(duì)基板進(jìn)行曝光，其中，全透光區(qū)與基板上預(yù)形成第一過(guò)孔13的區(qū)域位置相對(duì)，半透光區(qū)與基板上預(yù)暴露出第二金屬布線(xiàn)的第一部分14和第二金屬布線(xiàn)的第二部分15的區(qū)域位置相對(duì)；
[0079]步驟1053:對(duì)基板進(jìn)行顯影并刻蝕出第一過(guò)孔13;
[0080]步驟1054:對(duì)基板進(jìn)行灰化并刻蝕出第二過(guò)孔17。
[0081]采用發(fā)明實(shí)施例提供的方法制造的顯示基板，可以減小顯示基板周邊區(qū)域的過(guò)孔占用空間，易于實(shí)現(xiàn)顯示裝置的窄邊框設(shè)計(jì)，同時(shí)，采用半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成第一過(guò)孔和第二過(guò)孔，簡(jiǎn)化了顯示基板的制造工藝，節(jié)約了加工時(shí)間和生產(chǎn)成本。
[0082]顯然，本領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)本發(fā)明進(jìn)行各種改動(dòng)和變型而不脫離本發(fā)明的精神和范圍。這樣，倘若本發(fā)明的這些修改和變型屬于本發(fā)明權(quán)利要求及其等同技術(shù)的范圍之內(nèi)，則本發(fā)明也意圖包含這些改動(dòng)和變型在內(nèi)。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種顯示基板，其特征在于，所述顯示基板的周邊區(qū)域設(shè)置有: 第一金屬布線(xiàn)； 位于第一金屬布線(xiàn)之上的第一絕緣層，所述第一絕緣層具有與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔； 位于第一絕緣層之上的第二金屬布線(xiàn)，所述第二金屬布線(xiàn)包括被第一過(guò)孔間隔的第一部分和第二部分； 位于第二金屬布線(xiàn)之上的第二絕緣層，所述第二絕緣層具有第二過(guò)孔，所述第二過(guò)孔與第一過(guò)孔連通且暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分； 位于第二絕緣層之上的導(dǎo)電連接層，所述導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。2.如權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，所述第一金屬布線(xiàn)與顯示基板的柵線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同；所述第二金屬布線(xiàn)與顯示基板的數(shù)據(jù)線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同；所述導(dǎo)電連接層與顯示基板的像素電極同層設(shè)置且材質(zhì)相同。3.—種顯示裝置，其特征在于，包括如權(quán)利要求1所述的顯示基板。4.一種顯示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)； 在第一金屬布線(xiàn)之上形成第一絕緣層； 在第一絕緣層之上形成包括第一部分和第二部分的第二金屬布線(xiàn)； 在第二金屬布線(xiàn)之上形成第二絕緣層； 通過(guò)半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成位于第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分之間且與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔，以及與第一過(guò)孔連通且暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分的第二過(guò)孔； 在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層，所述導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。5.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述方法還包括: 在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)的同時(shí)形成與第一金屬布線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同的柵線(xiàn)。6.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述方法還包括: 在第一絕緣層之上形成第二金屬布線(xiàn)的同時(shí)形成與第二金屬布線(xiàn)同層設(shè)置且材質(zhì)相同的數(shù)據(jù)線(xiàn)。7.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述方法還包括: 在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層的同時(shí)形成與導(dǎo)電連接層同層設(shè)置且材質(zhì)相同的像素電極。8.如權(quán)利要求4所述的制造方法，其特征在于，所述通過(guò)半色調(diào)掩模構(gòu)圖工藝形成第一過(guò)孔和第二過(guò)孔，具體包括: 在第二絕緣層之上形成光刻膠； 采用具有全透光區(qū)和半透光區(qū)的掩模板對(duì)基板進(jìn)行曝光，其中，全透光區(qū)與基板上預(yù)形成第一過(guò)孔的區(qū)域位置相對(duì)，半透光區(qū)與基板上預(yù)暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分的區(qū)域位置相對(duì)； 對(duì)基板進(jìn)行顯影并刻蝕出第一過(guò)孔； 對(duì)基板進(jìn)行灰化并刻蝕出第二過(guò)孔。9.一種顯示基板的制造方法，其特征在于，所述方法包括: 在襯底基板上形成第一金屬布線(xiàn)； 在第一金屬布線(xiàn)之上形成第一絕緣層，所述第一絕緣層具有與第一金屬布線(xiàn)位置相對(duì)的第一過(guò)孔； 在第一絕緣層之上形成包括第一部分和第二部分的第二金屬布線(xiàn)，所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分位于第一過(guò)孔的兩側(cè)； 在第二金屬布線(xiàn)之上形成第二絕緣層，所述第二絕緣層具有第二過(guò)孔，所述第二過(guò)孔與第一過(guò)孔連通且暴露出所述第二金屬布線(xiàn)的第一部分和第二金屬布線(xiàn)的第二部分；在第二絕緣層之上形成導(dǎo)電連接層，所述導(dǎo)電連接層通過(guò)第二過(guò)孔和第一過(guò)孔將第一金屬布線(xiàn)和第二金屬布線(xiàn)連接。
【文檔編號(hào)】H01L27/12GK105845692SQ201610180332
【公開(kāi)日】2016年8月10日
【申請(qǐng)日】2016年3月25日
【發(fā)明人】馬俊才
【申請(qǐng)人】京東方科技集團(tuán)股份有限公司, 合肥京東方光電科技有限公司