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定位引導(dǎo)件裝置、離子源插入件裝置以及用于定位色譜柱的套組的制作方法

文檔序號(hào):9140190閱讀:331來源:國知局
定位引導(dǎo)件裝置、離子源插入件裝置以及用于定位色譜柱的套組的制作方法
【專利說明】定位引導(dǎo)件裝置、離子源插入件裝置以及用于定位色譜柱 的套組
[0001 ] 優(yōu)先權(quán)申請(qǐng)
[0002] 本申請(qǐng)案主張于2011年7月18日申請(qǐng)的第61/508, 875號(hào)美國臨時(shí)專利申請(qǐng)案 的優(yōu)先權(quán)和利益,所述臨時(shí)申請(qǐng)案的全部揭示內(nèi)容特此出于所有目的以引用方式并入本文 中。
技術(shù)領(lǐng)域
[0003] 本申請(qǐng)案涉及離子源和電子源以及其使用方法。明確地說,本文中描述的某些實(shí) 施例是針對(duì)與離子源和/或電子源一起使用的組件。其它實(shí)施例是針對(duì)可用以恰當(dāng)?shù)囟ㄎ?色譜柱(chromatography column)以與離子源一起使用的裝置和方法。
【背景技術(shù)】
[0004] 許多裝置使用離子源或電子源來提供離子或粒子。在離子源的使用期間,它可能 會(huì)被樣品污染或由于暴露于大氣下而受到污染,或者其它所非要的物質(zhì)可能會(huì)積聚在源組 件上,從而潛在地導(dǎo)致不良性能或分析誤差??赡芟M瞥鲈匆员氵M(jìn)行清潔,但是當(dāng) 所述源未處于適當(dāng)位置時(shí),所述源的移除可能會(huì)導(dǎo)致儀器受到污染,例如,由于暴露于大氣 下。明確地說,可能需要打開整個(gè)儀器以移除和清潔離子源,而這樣可能會(huì)導(dǎo)致系統(tǒng)的內(nèi)部 組件受到污染。另外,柱在儀器中的恰當(dāng)定位可影響總體儀器性能。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0005] 在第一方面中,提供一種裝置,所述裝置經(jīng)配置以在離子源位點(diǎn)處耦合到儀器殼 體,以便準(zhǔn)許色譜柱定位于儀器殼體中。在某些實(shí)施例中,所述裝置包括圓柱形主體,所述 圓柱形主體包括至少一個(gè)凹槽,所述凹槽經(jīng)配置以耦合到儀器殼體的孔口以便在裝置與孔 口之間提供大體上不漏流體的密封。在一些實(shí)施例中,所述裝置進(jìn)一步包括至少一個(gè)定位 引導(dǎo)件以準(zhǔn)許色譜柱定位于與所述裝置的定位引導(dǎo)件相切的平面中。
[0006] 在另一方面中,描述一種離子源插入件裝置,所述插入件裝置包括一體式定位引 導(dǎo)件,所述定位引導(dǎo)件經(jīng)配置以準(zhǔn)許色譜柱定位于定位引導(dǎo)件下面。在一些實(shí)例中,所述定 位引導(dǎo)件進(jìn)一步經(jīng)配置以放大定位引導(dǎo)件下面的空間。
[0007] 在額外方面中,描述了一種裝置,所述裝置包括:圓柱形中空殼體;以及所述圓柱 形中空殼體內(nèi)的定位引導(dǎo)件,用以準(zhǔn)許色譜柱定位于所述定位引導(dǎo)件之下;在所述圓柱形 中空主體的外表面上的縱向凹槽。在某些實(shí)施例中,所述裝置還可包含在所述圓柱形中空 主體的外表面上的周向凹槽(例如,凸輪),所述周向凹槽耦合到所述縱向凹槽以準(zhǔn)許所述 裝置旋轉(zhuǎn)以便在所述裝置與所述裝置插入到其中的儀器之間提供大體上不漏流體的密封。
[0008] 在另一方面中,提供一種裝置,所述裝置經(jīng)配置以耦合到儀器殼體,所述儀器殼體 經(jīng)配置以收納離子源。在一些實(shí)例中,所述裝置包括殼體以及所述殼體內(nèi)的定位引導(dǎo)件。在 某些實(shí)例中,所述定位引導(dǎo)件可經(jīng)配置以在所述裝置耦合到儀器殼體時(shí)在儀器殼體內(nèi)提供 額外的光。在其它實(shí)例中,所述定位引導(dǎo)件準(zhǔn)許柱定位于所述儀器殼體內(nèi)。
[0009] 在額外方面中,揭示了一種裝置,所述裝置包括圓柱形中空主體,所述圓柱形中空 主體包括在所述圓柱形中空主體的外表面上的縱向凹槽以及在所述圓柱形中空主體的外 表面上的周向凹槽(例如,凸輪),所述周向凹槽耦合到所述縱向凹槽以準(zhǔn)許所述裝置旋轉(zhuǎn) 以便在所述裝置與所述裝置插入到其中的儀器殼體之間提供大體上不漏流體的密封。在一 些實(shí)例中,所述裝置還包含在所述圓柱形中空主體中的定位構(gòu)件,用于將色譜柱定位在所 述儀器殼體中的合適位置處。
[0010] 在另一方面中,描述了一種裝置,所述裝置包括殼體構(gòu)件以及定位構(gòu)件。在一些實(shí) 例中,殼體構(gòu)件是用于耦合到儀器殼體。在其它實(shí)例中,所述定位構(gòu)件處在所述殼體構(gòu)件中 且用于將色譜柱定位于所述儀器殼體中。
[0011] 在額外方面中,提供一種儀器,所述儀器包括具有如本文中描述的定位引導(dǎo)件的 裝置以及包括質(zhì)量分析器的殼體。
[0012] 在另一方面中,揭示了一種套組,所述套組包括插入件,所述插入件經(jīng)配置以耦合 到儀器殼體以替代離子源,從而在所述插入件與所述儀器殼體之間提供大體上不漏流體的 密封,所述插入件進(jìn)一步包括用于將色譜柱定位于所述儀器殼體中的定位引導(dǎo)件。在一些 實(shí)例中,所述套組還可包含用于使用所述插入件將所述色譜柱定位于所述儀器殼體中的指 令。
[0013] 在額外方面中,提供一種套組,所述套組包括插入件,所述插入件經(jīng)配置以耦合到 儀器殼體以替代離子源,從而在所述插入件與所述儀器殼體之間提供大體上不漏流體的密 封。在一些實(shí)例中,所述插入件包括:圓柱形中空殼體;以及所述圓柱形中空殼體內(nèi)的定位 引導(dǎo)件,以準(zhǔn)許色譜柱定位于所述定位引導(dǎo)件之下。在其它實(shí)例中,所述插入件可包含在所 述圓柱形中空主體的外表面上的縱向凹槽以及在所述圓柱形中空主體的外表面上的周向 凹槽,所述周向凹槽耦合到所述縱向凹槽以準(zhǔn)許所述裝置旋轉(zhuǎn)以便在所述裝置與所述裝置 插入到其中的儀器之間提供大體上不漏流體的密封。在一些實(shí)施例中,所述套組還可包含 用于使用所述插入件將所述色譜柱定位于所述儀器殼體中的指令。
[0014] 在另一方面中,提供一種將色譜柱定位于儀器中的方法。在一些實(shí)例中,所述方法 包括將插入件放置于經(jīng)配置以收納離子源的孔口中,所述插入件包括定位引導(dǎo)件,所述引 導(dǎo)件經(jīng)配置以準(zhǔn)許色譜柱定位于所述定位引導(dǎo)件下面,所述定位引導(dǎo)件進(jìn)一步經(jīng)配置以放 大所述定位引導(dǎo)件下面的空間。在一些實(shí)例中,所述方法包含移動(dòng)所述色譜柱,直到它處于 所述定位引導(dǎo)件之下為止。
[0015] 在額外方面中,提供一種在儀器處于閉合操作模式中時(shí)將色譜柱定位于所述儀器 中的方法。在某些實(shí)例中,所述方法包括調(diào)整所述色譜柱的位置以使所述柱與耦合到所述 儀器的插入件上的定位引導(dǎo)件對(duì)準(zhǔn)。
[0016] 在另一方面中,描述了 一種便于將色譜柱定位于質(zhì)譜儀中的方法。在某些實(shí)例中, 所述方法包括提供包括如本文中描述的定位引導(dǎo)件的裝置。
[0017] 在額外方面中,可使用一種經(jīng)配置以耦合到儀器的載管的離子源來減少柱破裂的 可能性,所述離子源經(jīng)配置以在所述載管耦合到所述離子源時(shí)不可從所述儀器移除。
[0018] 在另一方面中,提供一種離子源,所述離子源包括:殼體,其經(jīng)配置以收納源組件 且包括孔口,所述孔口經(jīng)配置以耦合到經(jīng)配置以收納色譜柱的載管;以及所述殼體中的燈 絲。
[0019] 在額外方面中,描述了一種質(zhì)譜儀,所述質(zhì)譜儀包括:殼體,其經(jīng)配置以收納離子 源,所述離子源經(jīng)配置以耦合到儀器的載管,所述離子源經(jīng)配置以在所述載管耦合到所述 離子源時(shí)不可從所述儀器移除;以及質(zhì)量分析器,其在流體上耦合到所述殼體中的所述離 子源。
[0020] 在另一方面中,揭示了一種儀器,所述儀器包括:流體色譜儀;以及質(zhì)譜儀,其在 流體上耦合到所述流體色譜儀以接收來自所述流體色譜儀的分析物,所述質(zhì)譜儀包括經(jīng)配 置以耦合到所述質(zhì)譜儀的載管的離子源,所述離子源經(jīng)配置以在所述載管耦合到所述離子 源時(shí)不可從所述質(zhì)譜儀移除。
[0021] 在額外方面中,提供一種載管,所述載管包括圓柱形主體和環(huán)繞所述圓柱形主體 的保持器,所述載管包括經(jīng)配置以耦合到離子源的孔口的第一末端,所述載管包括與所述 第一末端相對(duì)的第二末端,所述第二末端經(jīng)配置以收納色譜柱。
[0022] 在另一方面中,描述了一種降低在移除離子源時(shí)使色譜柱破裂的可能性的方法。 在一些實(shí)例中,所述方法包含將離子源孔口耦合到包括所述色譜柱的載管以在所述載管耦 合到所述孔口時(shí)防止移除所述離子源。
[0023] 在下文更詳細(xì)地描述額外的特征、方面、實(shí)例和實(shí)施例。
【附圖說明】
[0024] 參考附圖來描述某些實(shí)施例,在附圖中:
[0025] 圖IA是根據(jù)某些實(shí)例的定位引導(dǎo)件的一個(gè)實(shí)施例的透視圖,且圖IB是圖IA的前 視圖;
[0026] 圖2A是根據(jù)某些實(shí)例的插入件的透視圖,圖2B是圖2A的插入件的側(cè)視圖,圖2C 是圖2A的插入件的前視圖,且圖2D是圖2C中所示的劃線記號(hào)的圖;
[0027] 圖3A到圖3C展示根據(jù)某些實(shí)例的定位引導(dǎo)件的若干實(shí)施例;
[0028] 圖4A和圖4B是根據(jù)某些實(shí)例的包括內(nèi)透鏡的定位引導(dǎo)件的圖;
[0029] 圖5是展示根據(jù)某些實(shí)例的耦合到離子源的載管的圖;
[0030] 圖6是展示根據(jù)某些實(shí)例的載管的縮回位置的圖;
[0031] 圖7是展示根據(jù)某些實(shí)例的經(jīng)部分移除的離子源的圖;
[0032] 圖8A是根據(jù)某些實(shí)例的載管的透視圖;
[0033] 圖8B是根據(jù)某些實(shí)例的傳輸線組合件的圖;
[0034] 圖9是展示根據(jù)某些實(shí)例的載管的保持器以及輒組合件的彈簧的透視圖;
[0035] 圖10是根據(jù)某些實(shí)例的離子源中的某些組件的示意圖;
[0036] 圖IlA和圖IlB是展示根據(jù)某些實(shí)例的插入件到儀器的離子源孔口中的插入的照 片;
[0037] 圖12是展示根據(jù)某些實(shí)例的柱尖與插入件上的定位引導(dǎo)件的對(duì)準(zhǔn)的圖;以及
[0038] 圖13是展示根據(jù)某些實(shí)例的毛細(xì)管柱與插入件上的定位引導(dǎo)件的對(duì)準(zhǔn)的照片。
[0039] 所屬領(lǐng)域的一般技術(shù)人員借助于本揭示內(nèi)容將認(rèn)識(shí)到,圖中的某些尺寸或特征可 能己被放大、扭曲或以別的非常規(guī)或不成比例的方式展示,以使用戶更易于理解諸圖。在以 下描述中指定尺寸或值時(shí),所述尺寸或值只是為了進(jìn)行說明而提供。
【具體實(shí)施方式】
[0040] 下文參考單數(shù)和復(fù)數(shù)術(shù)語來描述某些實(shí)施例,以便以用戶更容易理解的方式來描 述本文中揭示的技術(shù)。使用這些術(shù)語只是為了方便,且這些術(shù)語并不打算將離子源或定位 裝置限制為包含或排除某些特征,除非另外指明為存在于本文中描述的特定實(shí)施例中。
[0041] 在某些實(shí)例中,恰當(dāng)?shù)闹磳?duì)準(zhǔn)對(duì)于GC-MS操作來說是關(guān)鍵的。所希望的是,柱尖 位于極小空間窗內(nèi),以便獲得恰當(dāng)?shù)墓δ苄?。在許多情況中,柱尖的對(duì)準(zhǔn)經(jīng)證明是困難的 且依賴于非視覺反饋方法,例如測量和標(biāo)記或者以其它方式"目測"到達(dá)目標(biāo)位置所需的柱 長。這些方法既耗時(shí)又不準(zhǔn)確。另外,GC-MS系統(tǒng)在對(duì)準(zhǔn)程序期間通常向大氣敞開,這樣可 能會(huì)潛在地導(dǎo)致系統(tǒng)污染。
[0042] 在某些實(shí)例中,在某些情況中,術(shù)語"定位裝置"在本文中用以指代可替代離子源 或電子源且提供一個(gè)或一個(gè)以上定位引導(dǎo)件、定位標(biāo)記、定位記號(hào)或區(qū)域等等的裝置,所述 定位引導(dǎo)件、定位標(biāo)記、定位記號(hào)或區(qū)域等等可以在將色譜柱適當(dāng)?shù)囟ㄎ挥趦x器殼體內(nèi)的 過程中用作視覺或光學(xué)輔助。在一些實(shí)例中,定位引導(dǎo)件可包
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