密封設(shè)備及基底密封方法
【專利摘要】本發(fā)明提供了一種密封設(shè)備及基底密封方法。該密封設(shè)備包括：測量單元，在密封單元上方移動以測量密封單元的圖案；激光束照射裝置，隨著測量單元移動以將激光束照射到密封單元上；控制單元，根據(jù)在測量單元中測量的密封單元的圖案控制激光束照射裝置的移動路徑和激光束照射裝置的聚焦區(qū)域的尺寸。
【專利說明】密封設(shè)備及基底密封方法
[0001]本申請要求于2013年8月14日在韓國知識產(chǎn)權(quán)局提交的第10-2013-0096898號韓國專利申請的權(quán)益，該韓國專利申請的公開內(nèi)容通過引用全部包含于此。

【技術(shù)領(lǐng)域】
[0002]本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例涉及一種密封設(shè)備、基底密封設(shè)備以及通過該密封設(shè)備來使用的基底密封方法。

【背景技術(shù)】
[0003]近來，顯示裝置已被薄的平板顯示裝置代替。在平板顯示裝置之中，電致發(fā)光顯示裝置是一種自發(fā)光顯示裝置，其具有寬的視角、優(yōu)異的對比度和快的響應(yīng)時(shí)間。因此，電致發(fā)光顯示器作為下一代顯示裝置正受到關(guān)注。與無機(jī)發(fā)光顯示裝置相比，發(fā)光層由有機(jī)材料形成的有機(jī)發(fā)光顯示裝置具有優(yōu)異的亮度、低的驅(qū)動電壓和快的響應(yīng)時(shí)間，并且能夠?qū)崿F(xiàn)多色彩化。
[0004]典型的有機(jī)發(fā)光顯示裝置具有包括發(fā)射層的至少一個有機(jī)層置于兩個電極之間的結(jié)構(gòu)。
[0005]當(dāng)水分或氧從大氣進(jìn)入典型的有機(jī)發(fā)光顯示裝置中時(shí)，電極材料可能會被氧化或剝落(exfoliate)，使典型的有機(jī)發(fā)光顯示裝置的壽命縮短并使其發(fā)光效率降低，并且使發(fā)光顏色劣化。
[0006]因此，在制造有機(jī)發(fā)光顯示裝置時(shí)，通常將有機(jī)發(fā)光裝置(OLED)與大氣隔離并進(jìn)行密封，以防止水分和氧進(jìn)入。密封方法的示例包括在有機(jī)發(fā)光顯示裝置的第二電極上層壓無機(jī)薄膜和諸如聚酯(PET)的有機(jī)聚合物的方法以及在包封基底中形成吸收劑的方法。在包封基底中填充氮?dú)猓⑹褂弥T如環(huán)氧樹脂的密封劑來密封包封基底的邊界。
[0007]然而，這些方法不可能完全阻擋諸如水分或氧的因素從外部進(jìn)入，這使OLED損壞。因此，這些方法可能不適合于特別易被水分損壞的有機(jī)發(fā)光顯示裝置。此外，實(shí)現(xiàn)這些方法的工藝也復(fù)雜。為了解決這些問題，已設(shè)計(jì)出使用玻璃料作為密封劑來改善OLED基底與包封基底之間的粘合的方法。
[0008]由于將玻璃料涂覆到玻璃基底上以密封有機(jī)發(fā)光顯示裝置，所以O(shè)LED基底和包封基底可以被完全密封以更有效地保護(hù)有機(jī)發(fā)光顯示裝置。
[0009]根據(jù)通過使用玻璃料來密封基底的方法，將玻璃料涂覆到有機(jī)發(fā)光顯示裝置的每個密封單元，在移動激光束照射裝置的同時(shí)將激光束照射到有機(jī)發(fā)光顯示裝置的密封單元。通過使用激光束照射裝置來固化玻璃料，從而密封基底。


【發(fā)明內(nèi)容】

[0010]本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例包括能夠改善密封質(zhì)量的密封設(shè)備、基底密封設(shè)備以及通過密封設(shè)備來使用的基底密封方法。
[0011]附加方面將在下面的描述中被部分地闡述，部分地通過描述將是明顯的或者可以通過給出的實(shí)施例的實(shí)踐而獲得。
[0012]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例，密封設(shè)備包括:測量單元，沿著密封單元移動以測量密封單元的圖案；激光束照射裝置，隨著測量單元移動并被構(gòu)造為將激光束照射到密封單元上；控制單元，根據(jù)在測量單元中測量的密封單元的圖案控制激光束照射裝置的移動路徑和激光束照射裝置的聚焦區(qū)域的尺寸。
[0013]激光束照射裝置具有被構(gòu)造為控制激光束照射裝置和密封單元之間的距離的垂直部件。
[0014]激光束照射裝置可以包括被構(gòu)造為改變激光束的聚焦區(qū)域的附加光學(xué)系統(tǒng)。
[0015]控制單元可以通過在測量單元中測量的密封單元圖案的位置和形狀信息得出激光束照射裝置的移動路徑，并得出聚焦區(qū)域的尺寸改變的值以對應(yīng)于密封單元的圖案的寬度。
[0016]激光束可以以點(diǎn)波束的形式照射。
[0017]密封單元的密封路徑可以包括直線路徑，測量單元和激光束照射裝置之間的距離可以小于直線路徑的距離。
[0018]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例，基底密封方法包括:在第一基底和第二基底之間形成密封單元；通過使用測量單元測量密封單元的圖案；根據(jù)在測量單元中測量的密封單元的圖案通過控制單元確定激光束照射裝置的移動路徑和激光束照射裝置的聚焦區(qū)域的尺寸；通過使用激光束照射裝置將激光束照射到密封單元上以密封第一基底和第二基底。
[0019]第一基底和第二基底中的至少一個可以透射激光束。
[0020]測量單元可以沿著密封單元移動，以測量密封單元的圖案的位置和形狀。
[0021]在測量單元測量密封單元的圖案的同時(shí)，激光束照射裝置可以照射激光束。
[0022]可以通過激光束照射裝置沿與激光束照射裝置的第一基底和第二基底垂直的方向的運(yùn)動來調(diào)節(jié)聚焦區(qū)域的尺寸。
[0023]激光束照射裝置可以包括附加光學(xué)系統(tǒng)，可以通過附加光學(xué)系統(tǒng)改變聚焦區(qū)域的尺寸。
[0024]密封單元可以包括玻璃料。

【專利附圖】

【附圖說明】
[0025]通過結(jié)合附圖對實(shí)施例進(jìn)行以下描述，這些和/或其他方面將變得清楚且更容易理解，在附圖中:
[0026]圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例的通過使用密封設(shè)備密封顯示設(shè)備的密封單元的基底密封設(shè)備的示意圖。
[0027]圖2是沿圖1中的線I1-1I截取的剖視圖。
[0028]圖3是顯不設(shè)備和激光束的不意性俯視圖。
[0029]圖4A至圖4C是示出激光束照射裝置根據(jù)密封單元的寬度的垂直移動的視圖。
[0030]圖5是激光束照射裝置和附加光學(xué)系統(tǒng)的示意圖。

【具體實(shí)施方式】
[0031]現(xiàn)在將詳細(xì)地參照實(shí)施例，附圖中示出了實(shí)施例的示例，其中，同樣的附圖標(biāo)記始終指示同樣的元件。關(guān)于該點(diǎn)，本實(shí)施例可以具有不同的形式并且不應(yīng)該被解釋為局限于這里闡述的描述。因此，下面通過參照附圖描述的實(shí)施例僅僅用于解釋本描述的各個方面。當(dāng)在一系列元件之后使用時(shí)，諸如“……中的至少一個(種)”的表達(dá)修飾整列元件，而不是修飾該列中的單個元件。
[0032]在下文中，將參照附圖詳細(xì)地描述本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例。
[0033]圖1是根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例的通過使用密封設(shè)備10來密封顯示設(shè)備20的基底密封設(shè)備I的視圖。圖2是沿圖1中的線I1-1I截取的剖視圖。
[0034]參照圖1和圖2，有機(jī)發(fā)光單元130和圍繞有機(jī)發(fā)光單元130的密封單元140設(shè)置在第一基底110和第二基底120之間。測量單元180沿密封單元140移動以測量密封單元140的圖案。激光束照射裝置150跟隨測量單元180以將激光束160照射到密封單元140上。
[0035]有機(jī)發(fā)光單元130設(shè)置在第一基底110上。第一基底110可以是由玻璃材料形成的基底。
[0036]第二基底120用作包封設(shè)置在第一基底110上的有機(jī)發(fā)光單元130的包封基底。第二基底120可以包括由諸如玻璃或柔性塑料膜的透明材料形成的基底，從而激光束160 (隨后將進(jìn)行描述)穿過第二基底120。
[0037]有機(jī)發(fā)光單元130可以包括至少一個有機(jī)發(fā)光器件(OELD)(未示出)，在OLED中，包括發(fā)射層的至少一個有機(jī)層(未不出)設(shè)置在第一電極和第二電極(未不出)之間。這里，第一電極和第二電極(未示出)可以分別用作用于注入空穴的陽極和用于注入電子的陰極。
[0038]OLED (未示出)根據(jù)控制方法可以分為無源矩陣(PM) OLED和有源矩陣(AM) OLED0有源矩陣OLED通過薄膜晶體管(TFT)控制。本發(fā)明構(gòu)思的當(dāng)前實(shí)施例可以應(yīng)用到PM OLED和AM OLED中的任何一種。
[0039]密封單元140設(shè)置在第二基底120上以圍繞上述有機(jī)發(fā)光單元130。
[0040]密封單元140可以形成閉合環(huán)以防止有機(jī)發(fā)光單元130與外部水分或氧接觸。
[0041]雖然在圖1中形成閉合環(huán)的密封單元140的每個邊緣以預(yù)定曲率彎曲，但本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例不限于此。密封單元140的邊緣可以成直角而不具有預(yù)定曲率。
[0042]在本發(fā)明構(gòu)思的當(dāng)前實(shí)施例中，玻璃料被用作密封單元140以確保第一基底110和第二基底120之間的密封，從而更有效地保護(hù)有機(jī)發(fā)光單元130免受分水或氧的影響。玻璃料可以具有預(yù)定寬度W,并且可以通過諸如絲網(wǎng)印刷法或筆分配法(pen dispensingmethod)的各種方法形成。將參照圖3更詳細(xì)地描述密封單元140的寬度W。
[0043]在當(dāng)前實(shí)施例中，雖然密封單元140設(shè)置在第二基底120上，有機(jī)發(fā)光單元130設(shè)置在第一基底110上，但本發(fā)明構(gòu)思不限于此。例如，密封單元140可以設(shè)置在其上設(shè)置有有機(jī)發(fā)光單元130的第一基底110上。第二基底120與第一基底110對齊以粘附到第一基底 110。
[0044]雖然附圖中示出了一個有機(jī)發(fā)光單元130，但可以在第一基底110和第二基底120之間設(shè)置多個有機(jī)發(fā)光單元130和圍繞多個有機(jī)發(fā)光單元130的多個密封單元140。
[0045]測量單元180沿密封單元140移動以測量密封單元140的圖案(在下文中稱作密封單元圖案)的位置和形狀。測量單元180可以包括燈(未示出)、透鏡(未示出)和傳感器(未示出)以測量密封單元圖案。當(dāng)密封單元圖案形成在第二基底120上時(shí)，在實(shí)際工藝中，密封單元圖案可能因?qū)?zhǔn)誤差而沒有被印刷在期望位置。此外，在印刷、干燥或熱處理密封單元圖案時(shí)，玻璃料圖案的寬度部分地增大或減小。因此，密封單元180可以沿密封單元140移動以響應(yīng)于密封單元圖案的變化來測量密封單元圖案的位置和形狀。
[0046]在密封單元140形成閉合環(huán)的情況下，測量單元180沿閉合環(huán)移動以測量密封單元圖案。此外，測量單元180可以與第二基底120平行地移動?？梢酝ㄟ^臺架(未示出)和電機(jī)(未示出)來移動測量單元180。
[0047]控制單元170可以根據(jù)通過測量單元180獲得的密封單元圖案的位置和形狀信息來控制激光束照射裝置150的移動路徑(見圖3中的附圖標(biāo)記151)和激光束照射裝置150的聚焦區(qū)域A的尺寸?？刂茊卧?70使用從測量單元180獲得的玻璃料圖案的位置和形狀信息得出激光束照射裝置150在照射激光束160的同時(shí)移動所沿的路徑。控制單元170得出聚焦區(qū)域A的尺寸改變的值以對應(yīng)于玻璃料圖案的寬度。由于通過控制單元170來控制激光束照射裝置150的移動路徑(見圖3中的附圖標(biāo)記151)和激光照射裝置150的聚焦區(qū)域A的尺寸，所以激光束照射裝置150的移動路徑(見圖3中的附圖標(biāo)記151)和激光束照射裝置150的聚焦區(qū)域A的尺寸針對玻璃料圖案的位置被優(yōu)化，以提高玻璃料包封質(zhì)量。此外，控制單元170可以控制激光束160的剖面形狀和移動速度。
[0048]激光束照射裝置150跟隨測量單元180，以沿著設(shè)置在第一基底110和第二基底120之間的密封單元140的路徑照射激光束160。激光束160被照射到密封單元140上以在密封單元140上形成聚焦區(qū)域A。
[0049]雖然在圖1和圖2中未詳細(xì)地示出，但激光束照射裝置150可以包括產(chǎn)生激光束的激光震蕩器(未不出)、光束均化器(未不出)和激光頭(未不出)。
[0050]激光震蕩器可以是作為高功率激光源并通常用于激光密封的束型多芯源(bundletype mult1-core source)。
[0051]在束型多芯源的情況下，芯可能輸出稍微不同的功率。通過使用光束均化器可以使不一致的輸出相等。
[0052]激光頭(未示出)可以包括:反射單元(未示出)，反射單元反射由激光震蕩器產(chǎn)生的激光束以將激光束照射到密封單元140上；驅(qū)動單元(未示出)，驅(qū)動反射單元；透鏡單元(未示出)，聚焦反射的激光束。
[0053]可以在反射單元(未示出)的一部分中使用準(zhǔn)確地控制激光束的位置和速度的檢流計(jì)鏡。
[0054]穿過透鏡單元的激光束160以具有高斯分布的點(diǎn)波束的形式照射到密封單元140上。透鏡單元可以包括平場聚焦透鏡，以準(zhǔn)確地控制激光束160的焦點(diǎn)。
[0055]由于測量單元180沿密封單元140的路徑移動，并且激光束照射裝置150跟隨測量單元180，所以激光束160可以沿著密封單元140的路徑照射。激光束照射裝置150可以垂直地和水平地移動。通過被構(gòu)造為控制激光束照射裝置和密封單元之間的距離的垂直移動部件來執(zhí)行用于調(diào)節(jié)激光束160的聚焦區(qū)域A的垂直運(yùn)動?？梢酝ㄟ^臺架(未示出)和電機(jī)(未示出)移動激光束照射裝置150。由于在測量單元180測量密封單元140的圖案的同時(shí)，激光束照射裝置150照射激光束160，所以處理時(shí)間可以減少通過使用典型的測量單元測量整個玻璃料圖案的位置和形狀所花費(fèi)的時(shí)間。
[0056]激光束照射裝置150和測量單元180之間的距離D2可以小于密封單元140的直線路徑的距離D1。由于激光束照射裝置150和測量單元180之間的距離D2減小，所以可以在激光束照射裝置150中更準(zhǔn)確地反映在測量單元180中測量的密封單元140的狀態(tài)。因此，可以改善密封單元140的質(zhì)量。
[0057]其上安置有第一基底110的基底臺架(未示出)可以設(shè)置在第一基底110下。
[0058]圖3是示出顯示設(shè)備20和激光束160的示意性俯視圖。
[0059]參照圖3，密封單元140設(shè)置在第一基底110和第二基底120之間以圍繞有機(jī)發(fā)光單元130。密封單元140可以形成閉合環(huán)以防止有機(jī)發(fā)光單元130與外部水分或氧接觸。雖然在圖1中形成閉合環(huán)的密封單元140的每個角以預(yù)定曲率彎曲，但是本發(fā)明構(gòu)思的實(shí)施例不限于此。密封單元140的邊緣可以成直角而不具有預(yù)定曲率。
[0060]根據(jù)當(dāng)前實(shí)施例，玻璃料被用作密封單元140。玻璃料可以具有預(yù)定寬度W，并且可以通過諸如絲網(wǎng)印刷法或筆分配法的各種方法形成。然而，當(dāng)玻璃料形成在第一基底110和第二基底120之間時(shí)，在實(shí)際工藝中，密封單元圖案可能因?qū)?zhǔn)誤差而沒有準(zhǔn)確地形成在期望位置。此外，在印刷、干燥或熱處理密封單元圖案時(shí)，玻璃料圖案的寬度可能部分地增大或減小，并且可能發(fā)生密封單元圖案的對準(zhǔn)誤差。
[0061]因此，密封單元140可以具有比預(yù)定寬度W大的第一寬度FWl或比預(yù)定寬度W小的第二寬度FW2。寬度的增大或減小以及第一基底110和第二基底120之間的對準(zhǔn)誤差可能同時(shí)發(fā)生。在比預(yù)定寬度W大的第一寬度FWl下的對準(zhǔn)誤差會發(fā)生在第一區(qū)域BI。此夕卜，在比預(yù)定寬度W小的第二寬度FW2下的對準(zhǔn)誤差會發(fā)生在第二區(qū)域B2。測量單元180可以具有與預(yù)定寬度W的中心線基本上相同的移動路徑181，并且可以測量玻璃料圖案的位置和形狀。在第一區(qū)域BI中，在激光束160的聚焦區(qū)域A的尺寸增大的同時(shí)，激光束照射裝置150可以具有與預(yù)定寬度W的中心線的路徑不同的移動路徑。在第二區(qū)域B2中，在激光束160的聚焦區(qū)域A的尺寸減小的同時(shí)，激光束照射裝置150可以具有與預(yù)定寬度W的中心線的路徑不同的移動路徑。
[0062]圖4A至圖4C是示出激光束照射裝置150根據(jù)密封單元140的寬度的垂直移動的視圖。
[0063]參照圖4A，通過激光束照射裝置150照射的激光束160穿過第二基底120以達(dá)到密封單元140。由于激光束160被照射到密封單元140上，所以激光聚焦區(qū)域A被限定在密封單元140上。激光束160的焦距(其中，激光束的功率變成最大)可以形成在密封單元140的厚度的一半處的上方。密封單元140可以具有預(yù)定寬度W，S卩，比預(yù)定寬度W大的第一寬度FWl或比預(yù)定寬度W小的第二寬度FW2。
[0064]參照圖4B，密封單元140可以具有比預(yù)定寬度W大的第一寬度FW1。激光束照射裝置150可以向上移動以增大激光束聚焦區(qū)域A。
[0065]參照圖4C，密封單元140可以具有比預(yù)定寬度W小的第二寬度FW2。激光束照射裝置150可以向下移動以減小激光束160的激光聚焦區(qū)域A。
[0066]在圖4B和圖4C中，可以通過控制單元170控制激光束照射裝置150的垂直運(yùn)動。可以與激光束照射裝置150的在第二基底120上的水平運(yùn)動一起同時(shí)執(zhí)行激光束照射裝置150的垂直運(yùn)動。然而，如在圖4B中，激光束160的焦點(diǎn)隨著激光束照射裝置150向上移動而逐漸模糊。因此，在激光束照射裝置150向下移動時(shí)，激光聚焦區(qū)域A可以減小，并且在激光束照射裝置150向上移動時(shí)，激光聚焦區(qū)域A可以增大。
[0067]為了補(bǔ)償激光束160的功率的減小或增大，密封設(shè)備可以具有功率控制單元(未示出)。功率控制單元可以根據(jù)激光聚焦區(qū)域A增大或減小激光束160的最大功率。例如，如果激光聚焦區(qū)域A增大，則功率控制單元可以增大激光束160的最大功率，如果激光聚焦區(qū)域A減小，則功率控制單元可以減小激光束160的最大功率。
[0068]激光束160的焦距(其中，激光束的功率變成最大)可以形成在玻璃料140的厚度的一半處的下方。在這種情況下，如果激光束照射裝置150向上移動，則激光聚焦區(qū)域A減小，如果激光束照射裝置150向下移動，則激光聚焦區(qū)域A增大。
[0069]由于激光束照射裝置150可以沿水平方向和垂直方向移動，所以可以同時(shí)改變激光束160的移動路徑和激光束160的聚焦區(qū)域A的尺寸。因此，激光束照射裝置150可以主動地對應(yīng)對玻璃料圖案的對準(zhǔn)誤差以及玻璃料圖案的寬度的局部增大或減小，以改善玻璃料包封質(zhì)量。
[0070]圖5是不出激光束照射裝置150和附加光學(xué)系統(tǒng)153的視圖。
[0071]參照圖5，激光束照射裝置150可以包括附加光學(xué)系統(tǒng)153。從激光束照射裝置150發(fā)射的激光束160穿過附加光學(xué)系統(tǒng)153以經(jīng)由第二基底120達(dá)到密封單元140。附加光學(xué)系統(tǒng)153可以改變激光束的聚焦區(qū)域A。
[0072]附加光學(xué)系統(tǒng)153可以包括至少一個透鏡。由于激光束160的焦點(diǎn)通過水平地或垂直地移動透鏡而改變，所以可以改變激光聚焦區(qū)域A的尺寸。此外，附加光學(xué)系統(tǒng)153可以包括至少一個掩模。由于激光束160穿過掩模，所以可以改變激光聚焦區(qū)域A的尺寸。
[0073]由于激光束照射裝置150包括附加光學(xué)系統(tǒng)153，所以可以同時(shí)改變激光束160的移動路徑以及激光束160的聚焦區(qū)域A的尺寸。因此，激光束照射裝置150可以主動地糾正玻璃料圖案的對準(zhǔn)誤差以及玻璃料圖案的寬度的局部增大或減小，以改善玻璃料的包封質(zhì)量。
[0074]根據(jù)本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例，可以改善包封質(zhì)量。此外，可以減小密封處理時(shí)間。
[0075]應(yīng)該理解的是，在此描述的示例性實(shí)施例應(yīng)該僅以描述性的意義來考慮而不是出于限制的目的。在每個實(shí)施例中對特征或方面的描述通常應(yīng)該被認(rèn)為適用于在其他實(shí)施例中的其他相似特征或方面。雖然已參照附圖描述了本發(fā)明構(gòu)思的一個或更多個實(shí)施例，但是本領(lǐng)域普通技術(shù)人員將理解的是，在不脫離由權(quán)利要求書限定的本發(fā)明構(gòu)思的精神和范圍的情況下，可以在此在形式和細(xì)節(jié)上做出各種改變。
【權(quán)利要求】
1.一種密封設(shè)備，包括: 測量單元，在密封單元上方移動以測量密封單元的圖案； 激光束照射裝置，隨著測量單元移動并被構(gòu)造為將激光束照射到密封單元上；以及 控制單元，根據(jù)在測量單元中測量的密封單元的圖案控制激光束照射裝置的移動路徑和激光束照射裝置的聚焦區(qū)域的尺寸。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封設(shè)備，其中，激光束照射裝置具有被構(gòu)造為控制激光束照射裝置和密封單元之間的距離的垂直移動部件。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封設(shè)備，其中，激光束照射裝置還包括被構(gòu)造為改變激光束的聚焦區(qū)域的附加光學(xué)系統(tǒng)。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封設(shè)備，其中，控制單元通過在測量單元中測量的密封單元的圖案的位置和形狀信息得出激光束照射裝置的移動路徑，并得出聚焦區(qū)域的尺寸改變的值以對應(yīng)于密封單元的圖案的寬度。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封設(shè)備，其中，激光束以點(diǎn)波束的形式照射。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的密封設(shè)備，其中，密封單元的密封路徑包括直線路徑， 測量單元和激光束照射裝置之間的距離小于直線路徑的距離。
7.一種基底密封方法，包括: 在第一基底和第二基底之間形成密封單元； 通過使用測量單元測量密封單元的圖案； 根據(jù)在測量單元中測量的密封單元的圖案通過控制單元確定激光束照射裝置的移動路徑和激光束照射裝置的聚焦區(qū)域的尺寸；以及 通過使用激光束照射裝置將激光束照射到密封單元上以密封第一基底和第二基底。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基底密封方法，其中，第一基底和第二基底中的至少一個透射激光束。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基底密封方法，其中，測量單元沿著密封單元移動，以測量密封單元的圖案的位置和形狀。
10.根據(jù)權(quán)利要求9所述的基底密封方法，其中，在測量單元測量密封單元的圖案的同時(shí)，激光束照射裝置照射激光束。
11.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基底密封方法，其中，通過激光束照射裝置沿與激光束照射裝置的第一基底和第二基底垂直的方向的運(yùn)動來調(diào)節(jié)聚焦區(qū)域的尺寸。
12.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基底密封方法，其中，激光束照射裝置包括附加光學(xué)系統(tǒng)， 通過附加光學(xué)系統(tǒng)改變聚焦區(qū)域的尺寸。
13.根據(jù)權(quán)利要求7所述的基底密封方法，其中，密封單元包括玻璃料。
【文檔編號】H01L27/32GK104377148SQ201410390208
【公開日】2015年2月25日 申請日期:2014年8月8日 優(yōu)先權(quán)日:2013年8月14日
【發(fā)明者】韓政洹 申請人:三星顯示有限公司