一種控制液體滴液量的裝置的制造方法
【專利摘要】本實(shí)用新型提供一種控制液體滴液量的裝置，在儲(chǔ)液罐頂部有進(jìn)液管道和出液管道，出液管道滴液至均勻旋轉(zhuǎn)的光刻晶片表面，所述進(jìn)液管道裝有調(diào)壓閥，出液管道裝有精密流量調(diào)節(jié)閥和流體截止閥、回液控制閥，儲(chǔ)液罐頂部還裝有卸壓閥，在儲(chǔ)液罐本體裝有液面顯示管，使出液管道滴出的液體流量達(dá)到0.05ml/滴。本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，可應(yīng)用于wafer光刻PG制程工藝，可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制精確滴液量，減少二甲苯與人接觸的機(jī)會(huì)，從而減少了對(duì)人體的傷害，而且增加了產(chǎn)品的涂布均勻性和穩(wěn)定性，極大改善了PG外觀缺陷，提升了產(chǎn)品品質(zhì)及工藝穩(wěn)定性。
【專利說明】
一種控制液體滴液量的裝置
技術(shù)領(lǐng)域
[0001]本實(shí)用新型涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域wafer光刻制程中二甲苯滴液量控制的裝置。
【背景技術(shù)】
[0002]半導(dǎo)體硅片經(jīng)擴(kuò)散處理后表面比較干燥，在硅片表面涂覆一層參雜玻璃粉的光刻膠時(shí)，由于光刻膠粘度較高，加之參雜玻璃粉后，流動(dòng)性會(huì)相應(yīng)變差。在噴涂到硅片表面后不容易被均勻涂覆，目前狀態(tài)下就需要使用較多量的光刻膠來處理，造成了較多原材料浪費(fèi)及wafer成本的增加。
[0003]目前采用人工方式使用沾有二甲苯的毛刷筆涂在wafer表面，但這種方式對(duì)人員要求較高，對(duì)人體傷害比較大，容易造成涂布不均勾，且毛刷筆上的particle極易對(duì)wafer產(chǎn)品造成二次污染。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0004]為解決前述存在的問題，本實(shí)用新型提供一種控制液體滴液量的裝置，在儲(chǔ)液罐頂部有進(jìn)液管道和出液管道，出液管道滴液至均勻旋轉(zhuǎn)的光刻晶片表面，所述進(jìn)液管道裝有調(diào)壓閥，出液管道裝有精密流量調(diào)節(jié)閥和流體截止閥、回液控制閥，儲(chǔ)液罐頂部還裝有卸壓閥，在儲(chǔ)液罐本體裝有液面顯示管，使出液管道滴出的液體流量達(dá)到0.05ml/滴。
[0005]所述精密流量調(diào)節(jié)閥通過管道與流體截止閥連接，流體截止閥通過管道與回收調(diào)節(jié)控制閥連接，回收調(diào)節(jié)控制閥安裝有回收速率調(diào)節(jié)閥。
[0006]本實(shí)用新型的優(yōu)點(diǎn)是，具有相對(duì)通用性，可應(yīng)用于rafer光刻PG制程工藝，可以實(shí)現(xiàn)自動(dòng)控制精確滴液量，減少二甲苯與人接觸的機(jī)會(huì)，從而減少了對(duì)人體的傷害，而且增加了產(chǎn)品的涂布均勻性和穩(wěn)定性，極大改善了 PG外觀缺陷，提升了產(chǎn)品品質(zhì)及工藝穩(wěn)定性。
【附圖說明】
[0007]附圖1是本實(shí)用新型的結(jié)構(gòu)圖。
[0008]附圖2是精密流量調(diào)節(jié)閥和回液控制閥結(jié)構(gòu)圖。
[0009]圖中標(biāo)號(hào)說明:
[0010]1-儲(chǔ)液罐;2-儲(chǔ)液罐內(nèi)液面顯示玻璃管;3-調(diào)壓閥;4-出液管道;5-卸壓閥;6-精密流量調(diào)節(jié)閥；7-流體截止閥、回液控制閥；8-基片;9-精密流量調(diào)節(jié)閥調(diào)節(jié)旋扭；10-帶壓力的進(jìn)液管道;11-流體截止閥；12-帶鎖定的回液調(diào)節(jié)閥；13-回收液速率調(diào)節(jié)閥；14-出液管。
【具體實(shí)施方式】
[0011 ]請(qǐng)參閱附圖1、2所示，在儲(chǔ)液罐I頂部有進(jìn)液管道和出液管道4，出液管道4滴液至均勻旋轉(zhuǎn)的光刻基片14表面，所述進(jìn)液管道裝有調(diào)壓閥3，出液管道4裝有精密流量調(diào)節(jié)閥6和流體截止閥、回液控制閥7，流體截止閥11和回液控制閥是裝在一起的，儲(chǔ)液罐I頂部還裝有卸壓閥5，在儲(chǔ)液罐I本體裝有液面顯示管2，使出液管道滴出的液體流量達(dá)到0.05ml/滴。
[0012]所述精密流量調(diào)節(jié)閥6通過管道與流體截止閥11連接，流體截止閥11通過管道與回收調(diào)節(jié)控制閥12連接，回收調(diào)節(jié)控制閥12安裝有回收速率調(diào)節(jié)閥13。
[0013]本裝置可以實(shí)現(xiàn)精確控制二甲苯的滴液量的實(shí)用新型裝置，控制滴液量精度可達(dá)
0.05ml (I滴)，使滴在wafer表面的二甲苯量均勻穩(wěn)定，極大改善之前手動(dòng)在wafer表面涂拭二甲苯不均勻的問題，從而增加了產(chǎn)品的穩(wěn)定性，實(shí)現(xiàn)了作業(yè)方式由manual到auto方式的轉(zhuǎn)變，提升了產(chǎn)品品質(zhì)及降低人工成本。使用本實(shí)用新型裝置是可以有效防止PG(ph0t0resist & Glass)涂膠制程中Wafer表面氣泡的產(chǎn)生，增加了PG與wafer的浸潤(rùn)力和附著力，從而減少PG燒結(jié)過程中氣泡爆裂時(shí)產(chǎn)生的玻璃孔洞、覆蓋不良、玻璃殘缺等一系列外觀問題的產(chǎn)生，改善了產(chǎn)品的玻璃外觀，穩(wěn)定了品質(zhì)。
[0014]通過調(diào)節(jié)精確流量控制閥達(dá)到精確控制二甲苯滴液量的目的；回吸控制閥用來精確及時(shí)回吸殘留滴出的二甲苯，防止過量的二甲苯的滴至wafer表面，從而達(dá)到穩(wěn)定制程品質(zhì)的目的，提尚廣品的可靠性和穩(wěn)定性。
[0015]本裝置可以在涂覆PG之前預(yù)先在勻速旋轉(zhuǎn)的硅片表面滴定或噴霧2-3滴二甲苯的液量(精確度可以達(dá)到0.05ml/滴)，勻速旋轉(zhuǎn)的硅片會(huì)快速將二甲苯涂覆在er表面，這樣就可以使硅片表面達(dá)到預(yù)濕潤(rùn)效果，從而可以獲得涂覆PG光刻膠時(shí)有較好的涂覆效果，并能夠提尚廣品性能及穩(wěn)定性。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種控制液體滴液量的裝置，在儲(chǔ)液罐頂部有進(jìn)液管道和出液管道，出液管道滴液至均勻旋轉(zhuǎn)的光刻晶片表面，其特征在于，進(jìn)液管道裝有調(diào)壓閥，出液管道裝有精密流量調(diào)節(jié)閥和流體截止閥、回液控制閥，使出液管道滴出的液體流量達(dá)到0.05ml/滴，儲(chǔ)液罐頂部還裝有卸壓閥，在儲(chǔ)液罐本體裝有液面顯示管。2.按權(quán)利要求1所述的一種控制液體滴液量的裝置，其特征在于，所述精密流量調(diào)節(jié)閥通過管道與流體截止閥連接，流體截止閥通過管道與回收調(diào)節(jié)控制閥連接，回收調(diào)節(jié)控制閥安裝有回收速率調(diào)節(jié)閥。
【文檔編號(hào)】G03F7/16GK205539920SQ201620116051
【公開日】2016年8月31日
【申請(qǐng)日】2016年2月5日
【發(fā)明人】馬兆國(guó), 蔡榮華, 黃建勛
【申請(qǐng)人】上海旭福電子有限公司, 敦南微電子（無(wú)錫）有限公司