專(zhuān)利名稱(chēng)：小型被鍍物的電鍍裝置的制作方法
技術(shù)領(lǐng)域：
本發(fā)明涉及對(duì)小型電子零件一類(lèi)小型被鍍物實(shí)施電鍍的電鍍裝置，特別涉及陰極結(jié)構(gòu)的改進(jìn)裝置。
背景技術(shù)：
例如，對(duì)層疊陶瓷電容器、筒狀電容器、層疊電阻器、層疊電感器等片狀小型電子零件外表面形成的外部電極再三實(shí)施電鍍。在利用電鍍實(shí)施這種電鍍時(shí)，例如，可使用特開(kāi)平5-70999號(hào)公報(bào)中，如圖6所示的電鍍裝置1。
參照?qǐng)D6可知，電鍍裝置1具有貯存電鍍液2的電鍍槽3。將由各導(dǎo)體形成的陰極4和陽(yáng)極5浸漬在電鍍液2中。
應(yīng)電鍍的數(shù)個(gè)小型被鍍物6(以虛線(xiàn)簡(jiǎn)要示出其集合體)被裝入零件容器7內(nèi)，再放入電鍍液2中。被鍍物6包括應(yīng)電鍍的數(shù)個(gè)小型電子零件6a，和由導(dǎo)體形成的數(shù)個(gè)介質(zhì)6b。
配置上述電極4，使其形成上述零件容器7底面的一部分。因此，小型電子零件6a和介質(zhì)6b在電鍍液2中形成載置在陰極4上的狀態(tài)。
在零件容器7中設(shè)有垂直軸8。零件容器7繞由垂直軸8給與的垂直軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)，由此可攪拌電鍍液2，并對(duì)零件容器7內(nèi)的小型電子零件6a和介質(zhì)6b起攪拌作用，使各個(gè)小型電子零件6a和各個(gè)介質(zhì)6b與陰極4形成均勻穩(wěn)定的接觸。
在這樣的電鍍裝置1中，由于在陰極4和陽(yáng)極5之間通電，所以若在這些間施加了規(guī)定的電壓，在小型電子零件6a的外部電極(未圖示)上析出電鍍膜，實(shí)施所需要的電鍍。
在使用上述電鍍裝置1實(shí)施電鍍處理時(shí)，在陰極4的表面上不可避免地或多或少形成電鍍析出物。特別是小型電子零件6a和介質(zhì)6b與陰極4未接觸的狀況越更頻繁發(fā)生，向陰極4上的極出物越多。
在電鍍裝置1中，陰極4的與小型電子零件6a和介質(zhì)6b的接觸面，具有平滑的平面，所以并不妨礙這些小型電子零件6a和介質(zhì)6b的攪拌。
因此，在陰極4具有平滑的平面時(shí)，在電鍍處理中，電場(chǎng)趨向于集中在陰極4的邊緣部分，如圖7所示，向陰極4的極出物9有時(shí)在陰極4的邊緣部分上形成突起10。
上述突起10會(huì)妨礙小型電子零件6a和介質(zhì)6b的攪拌。在電鍍處理中，析出物9更容易產(chǎn)生剝落。結(jié)果，析出物9作為雜物有時(shí)附著在小型電子部件6a上。
這樣，在析出物9上形成的突起10會(huì)妨礙小型電子零件6a和介質(zhì)6b的攪拌，當(dāng)攪拌受到阻礙時(shí)，小型電子零件6a和介質(zhì)6b與陰極4的不接觸狀況更加頻繁發(fā)生，若造成這種狀況，形成的析出物9也多，突起10也就容易長(zhǎng)大，產(chǎn)生上述的惡性循環(huán)。

發(fā)明內(nèi)容
因此，本發(fā)明的目的是提供一種能為解決上述問(wèn)題的小型被鍍物的電鍍裝置。
本發(fā)明是面向如下構(gòu)成的小型被鍍物的電鍍裝置，即，具有貯存電鍍液的電鍍槽、和浸在電鍍液中由導(dǎo)體形成的陰極和陽(yáng)極，通過(guò)應(yīng)鍍的數(shù)個(gè)小型被鍍物在電鍍液中與陰極接觸并在陰極和陽(yáng)極之間通電，在小型被鍍物上析出電鍍膜，其特征是為解決上述技術(shù)課題，在陰極的與小型被鍍物接觸的面上，形成凹部。
上述凹部由在陰極的與小型被鍍物接觸的面上形成數(shù)條溝來(lái)形成，也可由在該面上形成數(shù)個(gè)小穴來(lái)形成，也可由在該面的周緣部分形成倒角來(lái)形成凹部。
在用溝形成凹部時(shí)，最好是使溝相互交叉形成。
本發(fā)明的小型被鍍物的電鍍裝置，最好還具有在電鍍液中盛裝數(shù)個(gè)小型被鍍物的零件容器，配置陰極，使其形成該零件容器底面的一部分。
上述零件容器最好繞垂直軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)。
本發(fā)明對(duì)各種小型被鍍物均可適用，特別是可應(yīng)用于電鍍小型電子零件。


圖1是為說(shuō)明本發(fā)明第1實(shí)施形態(tài)的電鍍裝置，是示出電鍍裝置具有的零件容器7的平面圖。
圖2是圖1所示零件容器7中配置陰極4a部分的放大示意圖，(a)是平面圖，(b)是剖面圖。
圖3是為說(shuō)明本發(fā)明第2實(shí)施形態(tài)的陰極4b的相當(dāng)于圖2(a)的圖。
圖4是為說(shuō)明本發(fā)明第3實(shí)施形態(tài)的陰極4c的相當(dāng)于圖2的圖。
圖5是為說(shuō)明本發(fā)明第4實(shí)施形態(tài)的陰極4d的相當(dāng)于圖2的圖。
圖6是根據(jù)本發(fā)明圖解示出感興趣的電鍍裝置1的剖面圖。
圖7是為說(shuō)明本發(fā)明所要解決的課題的示出零件容器7的部分剖面圖。
發(fā)明的實(shí)施形態(tài)參照上述圖6，對(duì)本發(fā)明的一實(shí)施形態(tài)進(jìn)行說(shuō)明。即，在圖6所示的裝置1中，本發(fā)明的特征構(gòu)成是陰極4的結(jié)構(gòu)。
圖1是為說(shuō)明本發(fā)明第1實(shí)施形態(tài)的零件容器7的平面圖。
配置陰極4a，形成零件容器7底面的一部分。在此實(shí)施形態(tài)中，4個(gè)陰極4a圍繞著軸8以90度間隔配置。
圖2中示出了設(shè)在零件容器7中的陰極4a部分的放大圖。圖2中，(a)是平面圖，(b)是剖面圖。
如圖2所示，在陰極4a的上面，即，在與作為應(yīng)鍍的被鍍物6的小型電子零件6a和介質(zhì)6b(參照?qǐng)D6)接觸的面上，形成數(shù)條溝11，利用這些溝11，在陰極4a的上面形成凹部。這些溝11的寬度小于所有應(yīng)鍍的小型電子零件6a和介質(zhì)6b的尺寸，這樣可防止這些小型電子零件6a和介質(zhì)6b嵌入到溝11內(nèi)。
在圖示的陰極4a中，在1個(gè)陰極4a上可相互平行延伸設(shè)置3條溝11，其條數(shù)和間距可根據(jù)需要變更，也可隨意變更。
如圖1所示，在4個(gè)陰極4a上各自形成溝11的延伸方向，雖然與零件容器7的半徑方向大致一致，但也可以任意變更溝11的延伸方向。
溝11的剖面形狀，如圖2(b)所示，雖然形成V字狀，但也可形成其他形狀，如，U字形，四方形等。
圖3是為說(shuō)明本發(fā)明第2實(shí)施形態(tài)的相當(dāng)于圖2(a)的圖。
在圖3所示的陰極4b上面，相互平行延伸地形成數(shù)條溝11，同時(shí)，與這些溝11進(jìn)一步交叉形成數(shù)條溝11a，例如，在此實(shí)施形態(tài)中，形成垂直交叉。
圖4是為說(shuō)明本發(fā)明第3實(shí)施形態(tài)的相當(dāng)于圖2的圖。
在圖4所示的陰極4c上面，形成數(shù)個(gè)小穴12，由這些小穴12形成凹部。小穴12的尺寸小于所有應(yīng)鍍的小型電子零件6a和介質(zhì)6b的尺寸，這樣可防止這型電子零件6a和介質(zhì)6b嵌入到小穴12中。
上述小穴12的數(shù)量和分布狀態(tài)，可根據(jù)需要隨意變更。
圖示的小穴12，如圖4(a)所示，雖然具有圓形的平面形狀，但也可以更換成具有角形的平面形狀。小穴12的剖面形狀，如圖4(b)所示，雖然形成V字狀，但也可形成其他形狀，例如，U字狀、四角形狀等。
圖5是為說(shuō)明本發(fā)明第4實(shí)施形態(tài)的相當(dāng)于圖2的圖。
圖5中所示的陰極4d，特別如圖5(b)所示，在其上面的周緣部分形成倒角部13，由這些倒角部13形成凹部。由倒解13形成的凹部小于所有應(yīng)電鍍的小型電子零件6a和介質(zhì)6b的尺寸，這樣可防止這些小型電子零件6a和介質(zhì)6b嵌入到由倒角部13形成的凹部中。
圖示的倒角部13，如圖5(b)所示，雖然形成倒圓面，但也可以變更形成平面狀的斜面。
根據(jù)以上說(shuō)明的第1～第4實(shí)施形態(tài)，在電鍍處理中，電場(chǎng)容易集中的部分，不僅仞是陰極4a～4d的各邊緣部分，而且也存在于溝11附近、溝11和11a附近、小穴12附近，或倒角部13附近，所以可將要集中的電場(chǎng)進(jìn)行分散。因此，很難產(chǎn)生如圖7所示的現(xiàn)象，即只由陰極4邊緣部分生成的，結(jié)果形成突起10，因此，也很難產(chǎn)生這種突起10妨礙小型電子零件6a和介質(zhì)6b攪拌的事態(tài)。
若根據(jù)第1～第4實(shí)施形態(tài)，作為凹部的溝11、溝11和11a、小穴12、或倒角部13應(yīng)形成不會(huì)嵌入像小型電子零件6a和介質(zhì)6b一類(lèi)的被鍍物6的小尺寸，這是因?yàn)榭煞乐剐⌒?a和介質(zhì)6b嵌入凹部，形成滯留而妨礙攪拌。
另外，若凹部的尺寸足夠大于小型電子零件和介質(zhì)的話(huà)，即使一旦嵌入凹部，也很容易出來(lái)，并不形成滯留而妨礙攪拌。
以下為確認(rèn)本發(fā)明的效果，對(duì)實(shí)施的實(shí)驗(yàn)例進(jìn)行說(shuō)明。
在該實(shí)施例中，作為根據(jù)本發(fā)明的實(shí)施例，如圖1所示，配置4個(gè)陰極4a，在圖6所示的裝置1中使用內(nèi)徑25cm的零件容器7。
在該實(shí)驗(yàn)例中，作為設(shè)在零件容器7中的陰極4a，分別使用直徑20mm和直徑30mm的2種。
對(duì)于上述直徑20mm的陰極4a，以5mm間距形成3條溝11，各溝11的寬度為0.3mm，深度為0.2mm。
另外對(duì)于直徑30mm的陰極4a，以5mm間距形成5條溝11，各溝11的寬度為0.3mm，深度為0.2mm。
作為應(yīng)鍍小型電子零件6a，使用具有1.0mm×0.5mm×0.5mm尺寸的層疊電容器，對(duì)在該層疊電容器兩端上形成的外部電極表面實(shí)施電鍍。
另外，作為比較例，使用未形成溝的陰極，在與實(shí)施例相同的條件下，實(shí)施電鍍。
以下表1中示出了各實(shí)施例和比較例中在陰極上形成析出物的最大厚度。
表1

從表1可知，在陰極直徑為20mm和30mm任何一種情況下，實(shí)施例與比較例相比，析出部的最大厚度要小。由此可推測(cè)出，這是因?yàn)閷?shí)施例中控制了析出物上形成突起。
表2中示出了陰極直徑為20mm時(shí)的實(shí)施例和比較例中，陰極上有無(wú)析出物剝離，和層疊電容器的外部電極上的鍍層厚度(平均)。
表2

從表2所知，首先，根據(jù)實(shí)施例，陰極上的極出物不會(huì)產(chǎn)生剝離。
比較電鍍層厚時(shí)，根據(jù)實(shí)施例，可獲得比比較更厚的電鍍層。
若考察表2所示鍍膜的厚度結(jié)果和上述表1所示的向陰極析出物的最大厚度結(jié)果時(shí)，實(shí)施例中獲得向陰極析出物的最大厚度薄于比較例的厚度，由此可抑制妨礙應(yīng)鍍的層疊電容器攪拌的突起等生成，其結(jié)果提高了層疊電容器與陰極的接觸頻率，推測(cè)可獲得更厚的鍍膜。
在上述實(shí)驗(yàn)例中，作為實(shí)施例采用的直徑20mm陰極4a，如圖1和圖2所示，雖然是形成3條平行溝11的，但如圖3所示，使用在縱向和橫向上各形成3條溝11和11a的陰極4b時(shí)，可以確認(rèn)向陰極4b析出物的最大厚度可進(jìn)一步降低到2mm。
如上所述，根據(jù)本發(fā)明，由于在陰極的與被鍍小型被鍍物接觸的面上形成凹部，所以，在電鍍處理中，電場(chǎng)容易集中的部分，不僅是陰極的邊緣部分，而且也可在該凹部附近形成集中，所以在陰極上析出的析出物只在陰極邊緣部分大量產(chǎn)生，其結(jié)果很難產(chǎn)生在析出物上形成突起的現(xiàn)象。
因此，很難產(chǎn)生這種突起妨礙小型應(yīng)鍍物攪拌的事態(tài)，從而可提高電鍍處理的效果。
在陰極上的析出物上很難產(chǎn)生突起等，同時(shí)，通過(guò)凹部對(duì)析出物的固定效果，所以析出物很難從陰極上剝離下來(lái)，由此，析出物作為雜物很難產(chǎn)生附著在小型被鍍物上的事態(tài)，陰極自身也不會(huì)形成很大的問(wèn)題。這就進(jìn)一步減少了陰極單位面積上的析出物，并能進(jìn)一步提高電鍍處理的效率。
特別是通過(guò)在陰極的與小型被鍍物的接觸面上形成的數(shù)條溝形成上述凹部時(shí)，在陰極的整個(gè)面上凹部很容易分布，也能更有效地分散電鍍處理中的電場(chǎng)。
將數(shù)條溝相互交叉形成時(shí)，可更加顯著地發(fā)揮上述效果。
本發(fā)明特別適用于如下電鍍裝置，即具有在電鍍液中盛裝數(shù)個(gè)小型被鍍物的零件容器，陰極配置是形成該零件容器底面的一部分。即，在這樣的構(gòu)成中，零件容器繞垂直軸線(xiàn)旋轉(zhuǎn)時(shí)，對(duì)小型被鍍物起到攪拌作用，在這種狀況下，如前所述，很難在向陰極上的析出物上形成突起等，這是因?yàn)閿嚢枳饔酶禹樌夭暗叫⌒捅诲兾铩?br> 權(quán)利要求
1.一種小型被鍍物的電鍍裝置，是有如下結(jié)構(gòu)，即上述電鍍裝置具有貯存電鍍液的電鍍槽和浸漬在上述電鍍液的由導(dǎo)體形成的陰極和陽(yáng)極，應(yīng)鍍的數(shù)個(gè)小型被鍍物在上述電鍍液中與上述陰極接觸，通過(guò)在上述陰極和上述陽(yáng)極之間通電，使鍍膜析出在小型被鍍物上，其特征是在上述陰極的與小型被鍍物接觸的面上形成凹部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是通過(guò)在上述陰極的上述面上形成數(shù)條溝來(lái)形成上述凹部。
3.根據(jù)權(quán)利要求2記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是上述溝相互交叉形成。
4.根據(jù)權(quán)利要求1記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是通過(guò)在上述陰極的上述面上形成數(shù)個(gè)小穴來(lái)形成上述凹部。
5.根據(jù)權(quán)利要求1記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是通過(guò)在上述陰極的面上形成倒角部來(lái)形成上述凹部。
6.根據(jù)權(quán)利要求1～5中任一項(xiàng)記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是還具有在電鍍液中盛裝數(shù)個(gè)小型被鍍物的零件容器，配置上述陰極，使其形成上述零件容器底面的一部分。
7.根據(jù)權(quán)利要求6記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是上述零件容器繞垂直軸線(xiàn)進(jìn)行旋轉(zhuǎn)。
8.根據(jù)權(quán)利要求1記載的小型被鍍物的電鍍裝置，其特征是小型被鍍物包括小型電子零件。
全文摘要
當(dāng)對(duì)小型被鍍物進(jìn)行電鍍時(shí)，電場(chǎng)集中在陰極的邊緣部分上，因此，在陰極上的析出物上，在陰極邊緣部分相對(duì)應(yīng)的位置上形成突起，該突起妨礙被鍍物的攪拌，導(dǎo)致不能良好且有效地電鍍。通過(guò)在陰極4a的與小型被鍍物的接觸面上形成數(shù)條溝11，即使在該溝11附近集中電場(chǎng)，電場(chǎng)也能很好地分散在整個(gè)陰極4a上。
文檔編號(hào)C25D17/16GK1420212SQ0215290
公開(kāi)日2003年5月28日 申請(qǐng)日期2002年11月11日 優(yōu)先權(quán)日2001年11月19日
發(fā)明者堤野正視 申請(qǐng)人:株式會(huì)社村田制作所