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一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法

文檔序號(hào):9519665閱讀:587來源:國(guó)知局
一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法
【技術(shù)領(lǐng)域】
[0001 ] 本發(fā)明涉及琺瑯幕墻板的制備,具體涉及一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法。
【背景技術(shù)】
[0002]城市的空氣污染不僅嚴(yán)重?fù)p害人們的身心健康,也給建筑物外墻帶來嚴(yán)重污染,影響了城市的美觀。建筑外墻的清洗不僅會(huì)給環(huán)境造成二次污染,也增加了清洗維護(hù)成本及高空作業(yè)的風(fēng)險(xiǎn)。目前市場(chǎng)上也有些具有光催化功能的材料在推廣使用,這些材料大都是在低溫下以液體噴涂的方式制成,存在結(jié)合強(qiáng)度不高、使用壽命短、噴涂不均勻、影響表面色澤等缺陷。

【發(fā)明內(nèi)容】

[0003]本發(fā)明主要針對(duì)現(xiàn)有光催化功能材料存在的缺陷,發(fā)明了一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,該方法將二氧化鈦納米液與面釉通過配方的設(shè)計(jì)及高溫?zé)捎袡C(jī)地結(jié)合在一起,具有結(jié)合強(qiáng)度大、自潔效果好、壽命長(zhǎng)、色澤均勻等優(yōu)點(diǎn)。
[0004]本發(fā)明的上述技術(shù)問題是通過以下技術(shù)方案得以實(shí)施的:一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,包括以下步驟:
(1)所需面釉原料配方:按重量百分比Si02:30~50%、CaO:1~8%、NaN03:3~10%, Al 203:1~5%、B203:15?20%、T1 2: 10?20%、Na 2SiF6:2?10%、P 205:1~3% ;
(2)釉料融塊的制備:根據(jù)上述原料配方,將原料稱重并混合,放入融制窯爐高溫熔融,再投入水中激冷,撈出烘干制得釉料融塊;
(3)釉漿的制備:將上述釉料融塊與粘土、電解質(zhì)、色素、二氧化鈦納米液和水一起放入球磨機(jī)中研磨,經(jīng)過篩制得釉漿;
(4)燒成:將制得的釉漿均勻地噴涂到經(jīng)過表面處理的鋼質(zhì)基板上,再經(jīng)300~850°C窯爐高溫?zé)?,制得具有光催化自潔功能的琺瑯幕墻板。
[0005]綜上所述,本發(fā)明與現(xiàn)有技術(shù)相比具有如下優(yōu)點(diǎn):
本發(fā)明的制備方法,是將二氧化鈦納米液與面釉通過配方的設(shè)計(jì)及高溫?zé)捎袡C(jī)地結(jié)合在一起,具有結(jié)合強(qiáng)度大、自潔效果好、壽命長(zhǎng)、色澤均勻等優(yōu)點(diǎn);采用本發(fā)明制得的琺瑯板,其表面的納米二氧化鈦在太陽光或紫外光的照射下,經(jīng)光催化作用,產(chǎn)生了較強(qiáng)的分解有機(jī)物及有害氣體(包括PM2.5)的能力和破壞細(xì)菌蛋白質(zhì)的能力,因此具有去污、殺菌、凈化空氣的功能;本發(fā)明還具有光催化使板面接觸角變小,改善板面的親水性的效果,即納米二氧化鈦的光催化作用使表面具有超親水性,使得板面上被分解的有機(jī)污染物更容易被清洗;上述二種性能的共同作用使得琺瑯幕墻板具有良好的自潔、殺菌防霉、凈化空氣的作用,具有較好的經(jīng)濟(jì)效益及社會(huì)效益;另外,本發(fā)明中,由于二氧化鈦只是起催化作用,其本身并不參與反應(yīng),因此效果長(zhǎng)久。
[0006]【具體實(shí)施方式】下面結(jié)合實(shí)施例對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步說明。
[0007]實(shí)施例1:
一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,包括以下步驟:
(1)所需面釉原料配方:按重量百分比Si02:30%、CaO:8%、NaNO 3:10%、Al 203:1%、B 203:20%、Ti02:20%、Na 2SiF6: 10%、P 205:1% ;
(2)將配方中的化學(xué)成分換算成相應(yīng)的石英、長(zhǎng)石、硼砂、碳酸鈣、二氧化鈦、硝酸鈉、氧化鋁、氟硅酸鈉、磷酸三鈉,稱重并混合后放入融制窯爐高溫熔融,再放入水中激冷,撈出烘干制得釉料融塊;
(3)將制得的釉料融塊與粘土、電解質(zhì)、色素、磨加物、二氧化鈦納米液和水按配方設(shè)計(jì)的量經(jīng)計(jì)量后加入球磨機(jī)研磨,過篩后制成釉漿備用;
(4)按客戶設(shè)計(jì)的要求將碳鋼板制成基板,經(jīng)表面處理除去鐵銹及油污并烘干;
(5)燒成:將制得的釉漿均勻地噴涂到經(jīng)過表面處理的鋼質(zhì)基板上,送入窯爐經(jīng)300°C高溫?zé)Y(jié),冷卻后壓制背襯,制得具有光催化自潔功能的各色琺瑯幕墻板,至此便可安裝在建筑外墻上使用。
[0008]實(shí)施例2:
一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,包括以下步驟:
(1)所需面釉原料配方:按重量百分比Si02:50%、CaO:1%、NaNO 3:3%, Al 203:5%、B 203:18%、Ti02:18%、Na 2SiF6:2%、P 205:3% ;
(2)將配方中的化學(xué)成分換算成相應(yīng)的石英、長(zhǎng)石、硼砂、碳酸鈣、二氧化鈦、硝酸鈉、氧化鋁、氟硅酸鈉、磷酸三鈉,稱重并混合后放入融制窯爐高溫熔融,再放入水中激冷,撈出烘干制得釉料融塊;
(3)將制得的釉料融塊與粘土、電解質(zhì)、色素、磨加物、二氧化鈦納米液和水按配方設(shè)計(jì)的量經(jīng)計(jì)量后加入球磨機(jī)研磨,過篩后制成釉漿備用;
(4)按客戶設(shè)計(jì)的要求將碳鋼板制成基板,經(jīng)表面處理除去鐵銹及油污并烘干;
(5)燒成:將制得的釉漿均勻地噴涂到經(jīng)過表面處理的鋼質(zhì)基板上,送入窯爐經(jīng)850°C高溫?zé)Y(jié),冷卻后壓制背襯,制得具有光催化自潔功能的各色琺瑯幕墻板,至此便可安裝在建筑外墻上使用。
[0009]實(shí)施例3:
一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,包括以下步驟:
(1)所需面釉原料配方:按重量百分比Si02:46%、CaO:7%、NaN03:8%、Al 203:4%、B 203:15%、Ti02:10%、Na 2SiF6:8%、P 205:2% ;
(2)將配方中的化學(xué)成分換算成相應(yīng)的石英、長(zhǎng)石、硼砂、碳酸鈣、二氧化鈦、硝酸鈉、氧化鋁、氟硅酸鈉、磷酸三鈉,稱重并混合后放入融制窯爐高溫熔融,再放入水中激冷,撈出烘干制得釉料融塊;
(3)將制得的釉料融塊與粘土、電解質(zhì)、色素、磨加物、二氧化鈦納米液和水按配方設(shè)計(jì)的量經(jīng)計(jì)量后加入球磨機(jī)研磨,過篩后制成釉漿備用;
(4)按客戶設(shè)計(jì)的要求將碳鋼板制成基板,經(jīng)表面處理除去鐵銹及油污并烘干;
(5)燒成:將制得的釉漿均勻地噴涂到經(jīng)過表面處理的鋼質(zhì)基板上,送入窯爐經(jīng)650°C高溫?zé)Y(jié),冷卻后壓制背襯,制得具有光催化自潔功能的各色琺瑯幕墻板,至此便可安裝在建筑外墻上使用。
[0010]文中所描述的具體實(shí)施例僅僅是對(duì)本發(fā)明精神作舉例說明。本發(fā)明所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員可以對(duì)所描述的具體實(shí)施例做各種各樣的修改或補(bǔ)充或采用類似的方式替代,但并不會(huì)偏離本發(fā)明的精神或者超越所附權(quán)利要求書所定義的范圍。
【主權(quán)項(xiàng)】
1.一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,包括以下步驟: (1)所需面釉原料配方:按重量百分比Si02:30~50%、CaO:1~8%、NaN03:3~10%, A1 203:1~5%、B203:15?20%、T1 2: 10?20%、Na 2SiF6:2?10%、P 205:1~3% ; (2)釉料融塊的制備:根據(jù)上述原料配方,將原料稱重并混合,放入融制窯爐高溫熔融,再投入水中激冷,撈出烘干制得釉料融塊; (3)釉漿的制備:將上述釉料融塊與粘土、電解質(zhì)、色素、二氧化鈦納米液和水一起放入球磨機(jī)中研磨,經(jīng)過篩制得釉漿; (4)燒成:將制得的釉漿均勻地噴涂到經(jīng)過表面處理的鋼質(zhì)基板上,再經(jīng)300~850°C窯爐高溫?zé)?,制得具有光催化自潔功能的琺瑯幕墻板。
【專利摘要】本發(fā)明涉及琺瑯幕墻板的制備,具體涉及一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,包括步驟:原料配方、釉料融塊的制備、釉漿的制備、燒成。本發(fā)明主要針對(duì)現(xiàn)有光催化功能材料存在的缺陷,發(fā)明了一種光催化自潔琺瑯幕墻板的制備方法,該方法將二氧化鈦納米液與面釉通過配方的設(shè)計(jì)及高溫?zé)捎袡C(jī)地結(jié)合在一起,具有結(jié)合強(qiáng)度大、自潔效果好、壽命長(zhǎng)、色澤均勻等優(yōu)點(diǎn)。
【IPC分類】C23D5/00, C23D11/00, C03C8/00
【公開號(hào)】CN105274522
【申請(qǐng)?zhí)枴緾N201510665000
【發(fā)明人】邢翰學(xué), 舒文曉, 張建飛, 傅昂挺
【申請(qǐng)人】浙江開爾新材料股份有限公司
【公開日】2016年1月27日
【申請(qǐng)日】2015年10月16日
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